
- •В.Н. Игумнов физические основы микроэлектроники практикум
- •Оглавление
- •Глава 1 7
- •Глава 2 36
- •Глава 3 163
- •Указания по технике безопасности
- •Предисловие
- •Глава 1 Обработка результатов измерений
- •1.1. Основные понятия и определения метрологии
- •1.2. Погрешности прямых измерений
- •1.2.1. Поправки
- •1.2.2. Случайные погрешности
- •Коэффициенты Стьюдента
- •Обратный ток через p-n-переход
- •1.2.3. Погрешность прибора
- •1.2.4. Погрешность округления. Полная погрешность прямого измерения
- •Э.Д.С. Датчика Холла
- •1.3. Погрешность косвенных измерений
- •1.3.1. Вычисление абсолютной и относительной погрешности
- •Результаты наблюдений
- •1.3.2 Схемы и формулы расчета погрешностей
- •1.3.3. Планирование эксперимента и оценка погрешности
- •1.4. Приближенные вычисления
- •1.5. Единицы измерения физических величин
- •1.6. Оформление результатов измерений
- •Контрольные вопросы:
- •Глава 2 Лабораторные работы
- •2.1. Исследование характеристических параметров полупроводников
- •Зонная структура полупроводников
- •Температурная зависимость электропроводности
- •Измерительная установка и методика измерений
- •Порядок выполнения работы
- •Контрольные вопросы
- •2.2. Исследование полупроводников с помощью эффекта Холла
- •Основные сведения из теории
- •Измерительная установка и методика измерений
- •Порядок выполнения работы
- •Контрольные вопросы
- •2.3. Исследование эффекта поля в полупроводниках на базе полевого транзистора
- •Поверхностные состояния
- •Порядок выполнения работы
- •Величина тока стока
- •Величина тока стока
- •Контрольные вопросы
- •2.4. Определение потенциала Ферми в полупроводниках с помощью коэффициента термоэдс
- •Основные сведения из теории
- •Задание и отчетность
- •Контрольные вопросы
- •2.5. Определение коэффициента Пельтье компенсационным методом
- •Основные сведения из теории
- •Применение эффекта Пельтье для охлаждения радиоаппаратуры
- •Описание установки и порядок выполнения работы
- •Контрольные вопросы
- •2.6. Контакт металл – полупроводник
- •Основные сведения из теории
- •Теория метода и описание установки
- •Порядок выполнения работы
- •Контрольные вопросы
- •2.7. Изучение электрофизических процессов вp-nпереходе
- •Основные сведения из теории
- •Описание лабораторной установки
- •Порядок выполнения работы
- •Контрольные вопросы
- •2.8. Исследование кинетики формовки оксидных пленок при электрохимическом окислении металлов
- •Основные сведения из теории
- •Плазменно-электролитическое анодирование
- •Состояние теории образования оксидных пленок
- •Свойства оксидных пленок
- •Описание установки и анодирование
- •Измерение динамики роста и свойств оксидной пленки
- •Задания и отчетность
- •Контрольные вопросы
- •2.9. Исследование процессов в полупроводниковом фоторезисторе
- •Фотопроводимость и поглощение света полупроводниками
- •Процессы захвата, заряда, прилипания и рекомбинации носителей заряда
- •Время жизни носителей заряда. Квантовый выход
- •Теория метода и описание установки
- •Порядок выполнения работы
- •Контрольные вопросы
- •2.10. Полупроводники в сильных электрических полях
- •Теоретическая часть
- •Эффект Ганна
- •Порядок выполнения работы
- •Контрольные вопросы
- •2.11. Свойства тонких проводящих пленок
- •Свойства тонких пленок
- •Контроль толщины тонких пленок
- •Порядок выполнения работы:
- •Контрольные вопросы:
- •Глава 3 Решение задач
- •3.1. Структура твердых тел Основные справочные формулы
- •Примеры решения задач
- •3.2. Энергетические состояния микрочастиц Основные справочные формулы
- •Примеры решения задач
- •3.3. Электрические свойства твердых тел Основные справочные формулы
- •Примеры решения задач
- •3.4. Свойстваp-nперехода Основные справочные формулы
- •Примеры решения задач
- •Приложения п.1. Фундаментальные физические постоянные
- •П.2. Свойства полупроводников
- •П.3. Некоторые единицы системы си Основные единицы
- •Некоторые производные механические единицы
- •Некоторые производные единицы электрических величин
- •Некоторые производные единицы магнитных величин
- •П.4. Внесистемные единицы, допускаемые к применению
- •П.5. Плотность некоторых твердых тел
- •Библиографический список
- •424000 Йошкар-Ола, пл. Ленина,3
- •424006 Йошкар-Ола, ул. Панфилова,17
3.4. Свойстваp-nперехода Основные справочные формулы
● Потенциальный барьер φ0 дырок и электронов возникает на p-n переходе
(3.51)
или
,
где Аp,An– работа выхода вpиn– полупроводнике;
Uk– контактная разность потенциалов.
Из выражения (3.51) можно получить зависимость потенциального барьера от ширины запрещенной зоны Еg
, (3.52)
где Nc,N– эффективные плотности состоянии в зоне проводимости и валентной зоне.
На p-nпереходе возникает объемный заряд толщиныd, который зависит от внешнего напряженияU
, (3.53)
где dp,dn– ширины заряда вpиnобласти.
В отсутствие внешнего электрического поля эти величины можно записать
(3.54)
Возникающий диффузионный заряд перехода создает электрическое поле имеющее напряженность
в p– области
в n– области(3.55)
Барьерная емкость перехода равна
. (3.56)
Диффузионная длина свободного пробега носителей Lвыражается формулой
, (3.57)
где D– коэффициент диффузии носителей;
τ– время жизни носителей.
Уравнение вольтамперной характеристики p-nперехода можно записать в виде
. (3.58)
Зависимость обратного тока насыщения диода от температуры
, (3.59)
где Еg0– ширина запрещенной зоны приT=0К;
m,η– постоянные.
Примеры решения задач
Пример 1.Имеется сплавнойp-nпереход сNд= 103/Na, причем на каждые 108атомов приходиться один атом акцепторной примеси. Определить контактную разность потенциалов (Т=300К). Плотность атомовNи ионизированных атомовniсоответственно принять 4,4·1022см-3и 2,5·1013см-3соответственно.
Решение:
Определим концентрацию примесных атомов
см-3
Nд=Nа·104·1018см-3
Контактная разность потенциалов (3.51), следовательно
=
0,33 В.
Пример 2.Определить ширинуp-nперехода в кремнии при температуре 350К в отсутствии внешнего напряжения, если концентрация дырок и электронов соответственно 1,0·1021м-32,0·1027м-3
Решение:
Используем модель резкого перехода.
Ширина области объемного заряда (3.53)
.
Контактная разность потенциалов
.
Подставляем необходимые данные и проводим вычисления
d=3,6·10-7м.
Пример 3. Определить максимальную напряженность электрического поляp-nперехода в кремнии, если концентрация донорной и акцепторной примесей 1,0·1021м-3. Ширинаp-nперехода 0,3 мкм. Примесь полностью ионизирована.
Решение.
Максимальная напряженность электрического поля (3.55)
Nadp.
По условиям задачи (Nд=Na);dp=d/2. Тогда
.
Подставив исходные данные и проведя расчеты, получим Ep=2,3 кВ/см.
Пример 4.Барьерная емкость диодаСб1=200 пФ при обратном напряженииU1=2 В. Какое требуется обратное напряжение, чтобы уменьшить емкость доСб2=50 пФ, если контактная разностьUk=0,82 В?
Решение.
Барьерная емкость резкого p-nперехода может быть выражена в формуле
Сб=k(Uk+U)1/2,
где k– некоторая постоянная величина.
Из первого уравнения получим
,
Пример 5.При изменении прямого напряжения на ΔU=0,1 В прямой ток германиевого диода изменяется на ΔIпр=10 мА, а при изменении обратного напряжения на ΔUобр=10 В, обратный ток изменяется на 40 мкА. Определить дифференциальные сопротивления диода при прямом и обратном напряжении.
Решение:
Пример 6.Определить во сколько раз увеличивается обратный ток насыщения, если температура увеличивается: а). от 20 до 80°С для германиевого диода, б). от 20 до 150°С для кремниего диода.
Решение:
Зависимость обратного тока насыщения
Известно, что для германия η=1;m=1,5;Дж.
Следовательно, для германия отношения
обратных токов насыщения при 20ºС и 80ºС
для германиевого диода
Для кремниего диода η=2;m=1,5;
Дж и
Пример 7.В германиевомp-nпереходе подвижности электронов и дырок равныμn=0,39,μр=0,19 м2/(Вс). Концентрация носителей приТ=300К,ni=2,5·1019м-3,pn=3,91·1017м-3. Найти: а). плотность обратного тока насыщения, а также отношение дырочной составляющей обратного тока насыщения к электронной, еслиLp=Ln=1·10-3м, б). напряжение при котором плотность прямого токаj=10A/м2.
Решение:
а) Плотность обратного тока насыщения
j0=e(Dppn/Lp+Dpnp/Ln).
Известно, что Dp=(kT/e)·μр иDn=(kT/e)·μn.
Найдем
Подставим в расчетную формулу исходные данные и получим:
J0=0,31A/м2.
Отношение дырочной составляющей обратного тока насыщения и электронной, можно представить, учитывая, что площадь раздела перехода одна и та же.
Iop/Ion=jop/jon=μрpnLn/μnnpLp
Проведя необходимые расчеты, получим:
Iop/Ion=100.
б) Напряжение, которое необходимо приложить к p-nпереходу для получения заданного тока, найдем из формулы
j=jo[exp(eU/kT)-1] или
exp(eU/kT)=j/jo+1.
Подставив исходные данные получим
Задачи
4.1. Имеется сплавной кремниевый p-nпереход с,
причем на каждые 108атомов кремния
приходиться один атом акцепторной
примеси. Определить контактную разность
потенциалов приТ=300К (плотность
атомовNи ионизированных
атомовniпринять равными 4,4·1022см-3и 2,5·1013см-3соответственно).
4.2.Удельное сопротивление p-области германиевогоp-nпереходаρр= 2 Ом·см, а удельное сопротивлениеn-областиρn=1 Ом·см. Вычислить контактную разность потенциалов приТ=300К.
4.3. Решить предыдущую задачу для кремниего p-nперехода с такими же концентрациями примеси.
4.4. Удельное сопротивление р-области германиевого p-nпереходаρp=2 Ом·см. Вычислить контактную разность потенциалов приТ=300К.
4.5. Решить предыдущую задачу для кремниего диода с такими же значениями удельных сопротивлений p- иn- областей.
4.6. В германиевом p-nпереходе удельная проводимостьp-областиσр=104См/м и удельная проводимостьn-области 102См/м. подвижности электронов и дырок соответственно равныμn=0,39 м2/(В·с),μр=0,19 м2/(В·с). Концентрация собственных носителей в германии приТ=300К.ni=2,5·1019м-3. Вычислить контактную разность потенциалов.
4.7. p-nпереход выполнен из собственного германия с концентрациейni=10 см-3, легированного акцепторной примесьюNa=5·1017см-3 и донорной примесьюNд=5·1016см-3. Коэффициенты диффузии для неосновных электронов и дырок соответственно равны 100 и 50 см2/с, диффузионная длинаLn=Lp=0,8 см. Определить: а). контактную разность потенциалов; б). плотность обратного тока насыщения приТ=300К.
4.8. Определить контактную разность потенциалов кремниевого p-nперехода приТ=300К, еслиNa=2·1013см-3иNд=5·1012см-3.
4.9. Для кремниевого диода с резким p-nпереходом начертить в полулогарифмическом масштабе распределение концентрации носителей заряда в переходе, еслиNд=1015см-3, аNa=1016см-3. Определить численные значения ординат, указатьnиpобласти, а также область, обедненную носителями заряда и потенциала в переходе.
4.10. Выполнить такие же построения, как и в предыдущей задаче, для германиевого диода с резким p-nпереходом и такими же концентрациями примесей.
4.11. Вычислить барьерную емкость германиевого полупроводникового p-nперехода с площадью поперечного сеченияS=1 мм2и шириной запирающего слоя 2·10-4см;ε=1,6.
4.12. Доказать, что для сплавного p-nперехода приNa<<
Nдширина
запирающего слоя может быть определена
по формуле.
4.13. Найти барьерную емкость германиевого p-nперехода, если удельное сопротивлениеp-областиρр=3,5 Ом·см. контактная разность потенциаловUk=0,35 В. Приложенное обратное напряжениеUобр=-5 В, площадь поперечного сечения – 1 мм2.
4.14. Определить ширину p-nперехода в кремнии при Т=300К при отсутствии внешнего напряжения, если концентрация примесей вnиpобластях соответственноNд=0,1·1021 м-3; Na=20·1021 м-3. Считать примеси ионизированными.
4.15.Решить предыдущую задачу при наличии прямого напряжения 0,5 В.
4.16. Решить задачу 4.14 при наличии на переходе обратного напряжения Uобр= -5 В.
4.17. Определить ширину p-nперехода в германии, если концентрация примесей при Т=300К,Nд=0,2·10-21м-3 Na=20·1021м-3
4.18. Решить предыдущую задачу с учетом наличия прямого напряжения Uпр=0,35 В.
4.19. Решить задачу 4.17 с учетом наличия обратного напряжения Uобр= -3,5 В.
4.20. Удельная проводимость p-области германия с резкимp-nпереходомσр=10 См/см, а удельная проводимостьn-областиσn=1 См/см относительная диэлектрическая проницаемостьε=16. В равновесном состоянииUk=0,35 В. Найти: а) барьерную емкость перехода имеющего площадь поперечного сеченияS=0,05 мм2,Uобр= 5 и 10 В.
4.21. Решить предыдущую задачу для кремния.
4.22. Определить барьерную емкость p-nперехода в германии, кремнии и арсениде галлия, если концентрация доноров вn-области равна концентрации акцепторов вp-областиNGe=2,0·10-21 м-3,NSi=1,5·1021 м-3,NGaAs=4,0·1021м-3.
4.23. Решить задачу 4.22 с учетом наличия смещения Uпр=2 В
4.24. Решить задачу 4.22 с учетом наличия обратного смещения Uобр= -2,5 В.
4.25. В равновесном состоянии высота потенциального барьера сплавного p-nперехода равна 0,2 В, концентрация акцепторных примесейNa=3·1014см-3. Требуется: а) вычислить ширинуp-nперехода для обратных напряжений, равных 0,1 и 10 В;б) для прямого напряжения0,1В; в) найти барьерную емкость соответствующую обратным напряжениям, равным напряжениям, равным 0,1 и 10 В, если площадь перехода 1мм2.
4.26. Кремниевый p-nпереход имеетS=1 мм2,Сб=300 пФ, если подводитьсяUобр= -10 В. а) найти изменение емкости, если обратное напряжение становитьсяUобр= -20 В. б) максимальную напряженность электрического поля в обедненном слое приUобр= -10 В (ε=12).
4.27. Определить диффузионную емкость и высоту потенциального барьера p-nперехода германиевого диода, еслиρр=1015 см-3,nn=1016 см-3Обратный ток насыщенияI0=5 мкА;Uпр=0,2 В;τ=100 мкс.
4.28. Определить максимальную напряженность диффузионного поля p-nперехода в кремнии, германии, арсениде галлия, если концентрации доноровnи акцепторов вnобласти равныТGe=1021 м-3;NSi=2·1021м-3;NGaAs=3·1021 м-3.
4.29. Построить график зависимости барьерной емкости германиевого p-nперехода от приложенного напряжения в диапазоне -3,5 В <U ≤ 0,5 В;Nд= Nд=2·1021 м3.
4.30. Построить график зависимости барьерной емкости кремниевого p-nперехода от приложенного напряжения в диапазоне 2 В<U≤1 В.
4.31. Построить график зависимости барьерной емкости арсенидгаллиевого p-nперехода от приложенного напряжения в диапазоне -3 В<U≤1,5 В.
4.32. У германиевого диода p-nпереход имеет площадь поперечного сечения 10-6 м2. Расстояние от границы до каждого контакта 0,1 мм. Удельное сопротивлениеp-области 4,2·10-4Ом·м и время жизни неосновных носителей зарядов р-области 2,08·10-8Ом·м и время жизниτр=150 мкс. Определить обратный ток насыщения диода, если подвижность электроновμn=0,3 м2/(В·с), подвижность дырокμр=0,15 м2/(В·с),ni=2,5·1019при 300К.
4.33. В германиевом p-nпереходе удельные сопротивления:ρр=4,2·10-2Ом·м иρn=2,08·102Ом·м;μр=0,15 м2/(В·с);μn=0,3 м2/(В·с);ni=2,5·1019м-3. Время жизни неосновных носителей зарядаτn=75мксτр=150 мкс. Площадь поперечного сечения S=10-6 м2(Т=300К). Определить плотность обратного тока насыщения.
4.34. Кремниевый p-nпереход имеетδр=103 См/м;δn=20 См/м. Время жизни неосновных носителейτn=1 мкс. Определить: отношение дырочной составляющей тока и электронной составляющей вp-nпереходе; б) плотность обратного тока насыщения и плотность тока текущего приUпр=0,3 В;Т=300К;ni=1,4·1016 м-3;μn=0,12 м2/(В·с);μр=0,05 м2/(В·с).
4.35. Материал p-nперехода имеетρр=1,3·103 Ом·м,ρn=4,6·10-3 Ом·м приТ=300К. Времена жизни неосновных носителей τp=100мкс;τn=150 мкс;S=1 мм2. Вычислить обратный ток насыщения, еслиμp=4,8·10-2 м2/(В·с);μn=0,135 м2/(В·с). Протяженностьnиpобластей много больше диффузионной длины. Чему будет равен обратный ток насыщения, если в таком жеp-nпереходе создатьpиnобласти длинной 50 мкм каждая?
4.36. Ток, текущий в идеальном p-nпереходе при большом обратном напряжении иТ=300К, равен 2·10-7А. Найти ток, текущий при прямом напряжении, равном 0,1 В.
4.37. Вычислить прямое напряжение при токе диода 1 мА, если обратный ток насыщения IoприТ=300К равен: а). 1 мкА; б). 1 мА.
4.38. Рассчитать и построить вольтамперную характеристику идеального полупроводникового диода, если обратный ток насыщения Io=10 мкА. Расчет проводить в интервале напряжений от 0 до -10В (через 1) и от 0 до 0,5В через 0,5В. Для сравнения провести расчеты и построить вторую ВАХ для температуры Т=300К+ΔT. ΔТопределяется согласноN– последней цифры номера зачетной книжки.
Таблица 3.1
N |
0 |
1 |
2 |
3 |
4 |
5 |
6 |
7 |
8 |
9 |
ΔТ |
-30 |
-20 |
-10 |
10 |
20 |
30 |
40 |
50 |
60 |
70 |
4.39. Прямой ток кремниевого диода I=1 мА. Чему равна диффузионная длиннаLинтектированных носителей заряда, если диффузионная емкостьсдиф=1 мкФ. Считать что концентрация примеси в р-области много больше концентрации вnобласти, уровень инжекции мал и толщина базы существенно больше диффузионной длины свободного пробега.
4.40. Рассчитать график зависимости силы тока протекающего через кремниевый p-nпереход от температуры приUобр=-7 В. Принять площадь перехода 0,5мм2диффузионную длину электронов и дырок 1·10-4 м, время жизни носителей общих знаков 2·10-4 с. Рабочий диапазон температур 200-400К (ΔЕ=10К). концентрация основных носителей заряда определяется из таблицы 3.2 и совпадает с последней цифрой номера Вашей зачетной книжки.
Таблица 3.2
N |
0 |
1 |
2 |
3 |
4 |
5 |
6 |
7 |
8 |
9 |
Nд, 1021 м-3 |
0,9 |
0,1 |
0,2 |
0,8 |
1 |
2,0 |
8,0 |
5,0 |
0,0 |
10,0 |
Na, 1021 м-3 |
0,4 |
0,2 |
0,5 |
0,5 |
1 |
5,0 |
5,0 |
8,0 |
10,0 |
20,0 |
Литература: [9] 9.45-9.47, 10:49; [10]Гл.5; [11] 3.1, 3.2, 4.2, гл.6