Содержание.

1. Введение……………………………………………………. 1

2. Основные компоненты RTP-систем…………………….2

3. Системы управления температурой подложки в RTP……………………………………………………………9

4. Модель термического режима реактора……………..10

5. Перспективные методы управления температурой подложки………………………………………………..…13

6. Расчет облученности и распределения температуры по подложке…………………………………………….…15

7. Список литературы………………………………………21

Московский государственный институт электронной техники (технический университет)

Курсовая Работа

по теме

Обеспечение равномерности нагрева подложки в быстрых термических процессах.

Выполнил Труфанов К.В.

Проверил Антоненко К

Москва 2001