
- •"Мати" - российский государственный технологический университет имени к.Э. Циолковского
- •Лабораторная работа №1
- •Содержание
- •Введение
- •Правила техники безопасности.
- •Раздел 1. Теоретические основы нанесения тонких пленок вакуумным магнетронным распылением.
- •Раздел 2. Теоретические основы четырехзондового метода.
- •Раздел 3. Оборудование для определения толщины нанесенных пленок.
- •Раздел 4. Экспериментальная часть.
- •Раздел 5. Результаты
- •Список литературы:
Раздел 4. Экспериментальная часть.
Объект исследования: кремневая пластина с нанесенным слоем АК-1 толщиной 1 мкм (без литографии, без сжижения). Толщина пластины 400 мкм.
На первом этапе работы проводим измерение удельного поверхностного сопротивления исследуемого образца на установке ИУС-3.
Необходимо измерить показатель в 20 точках и построить график распределения по подложке.
Результаты измерений удельного сопротивления по 20 точкам:
1. 0,024 Ом/кв.
2. 0,022 Ом/кв.
3. 0,021 Ом/кв.
4. 0,021 Ом/кв.
5. 0,023 Ом/кв.
6. 0,023 Ом/кв.
7. 0,023 Ом/кв.
8. 0,021 Ом/кв.
9. 0,022 Ом/кв.
10. 0,021 Ом/кв.
11. 0,023 Ом/кв.
12. 0,021 Ом/кв.
13. 0,021 Ом/кв.
14. 0,021 Ом/кв.
15. 0,021 Ом/кв.
16. 0,020 Ом/кв.
17. 0,021 Ом/кв.
18. 0,023 Ом/кв.
19. 0,021 Ом/кв.
20. 0,021 Ом/кв.
Рис.4.1. Распределение поверхностного удельного сопротивления (Ом/кв) на поверхности исследуемого покрытия.
Методы исследования: четырехзондовый метод
Определили min, max, среднее и среднее по пластине значения:
min: 0,020 [Ом / кв]
max: 0,024 [Ом / кв]
Среднее:
+
= 0,022
0,002 [Ом / кв]
Среднее
по пластине:
= 0,0214 [Ом / кв]
На втором этапе выбрали 3 точки с максимально различными значениями Ps для дальнейшего измерения толщины слоя тонкой пленки в этих областях методом стилусной профилометрии на приборе AlphaStep D-100.
1
область:
=
0,024 Ом / кв иh
= 1,01 мкм
7
область:
=
0,023 Ом / кв иh
= 1,02 нм
19
область:=
0,021 Ом / кв иh
= 1,06 нм
Рис.4.2. Зависимость удельного сопротивления от толщины слоя пленки.
Раздел 5. Результаты
В данной лабораторной работе выполнено исследование характеристик нанотолщинных покрытий, полученных методом вакуумного напыления на установке МАГНА – 2М. По итогам выполненной лабораторной работы можно сделать следующий вывод: толщина пленки в разных точках разная; распределение удельного поверхностного сопротивления на поверхностях покрытия не равномерное и с увеличением толщины пленки сопротивление уменьшается.
Список литературы:
Юнусов У.Д. Ручная работа, 2014 г
http://www.docme.ru/doc/227154/poyasnitelnaya-zapiska-1
http://www.physics.by/e107_files/mono/monograf_gremenok_pdf/gr_gl5.pdf
http://www.intertech-corp.ru/aboutproduct.asp?gr=21&subgr=71&prid=203