Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Физические основы электроники. Контакты металл–полупроводник. Учебно-методическое пособие

.pdf
Скачиваний:
0
Добавлен:
15.08.2026
Размер:
909 Кб
Скачать

Министерство науки и высшего образования Российской Федерации НОВОСИБИРСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ

С.В. ДОРОГОЙ

ФИЗИЧЕСКИЕ ОСНОВЫ ЭЛЕКТРОНИКИ

КОНТАКТЫ МЕТАЛЛ–ПОЛУПРОВОДНИК

Учебно-методическое пособие

НОВОСИБИРСК

2019

1

УДК 621.382:53(075.8) Д 691

Рецензенты:

канд. техн. наук, доц. Н.И. Филимонова канд. техн. наук, доц. В.М. Меренков

Дорогой С.В.

Д 691 Физические основы электроники. Контакты металл–полу- проводник: учебно-методическое пособие / С.В. Дорогой. – Новосибирск: Изд-во НГТУ, 2019. – 50 с.

ISBN 978-5-7782-3994-4

Учебно-методическое пособие предназначено для проведения аудиторных практических занятий и самостоятельной работы по дисциплине «Физические основы электроники» для студентов II курса по направлениям 11.03.03 «Конструирование и технология электронных средств» и 11.03.02 «Инфокоммуникационные технологии и системы связи».

Работа подготовлена на кафедре конструирования и технологии радиоэлектронных средств и утверждена Редакционно-издательским советом университета в качестве учебно-методического пособия

 

УДК 621.382:53(075.8)

ISBN 978-5-7782-3994-4

© Дорогой С.В., 2019

 

© Hовосибиpский госудаpственный

 

технический унивеpситет, 2019

2

 

ОГЛАВЛЕНИЕ

 

Введение...................................................................................................................

4

1.

Контакты (барьеры, переходы) металл–полупроводник..................................

5

2.

Свойства, структура и зонные энергетические диаграммы контактов

 

 

металл–полупроводник.......................................................................................

7

3.

Выпрямляющий контакт металл–полупроводник n-типа..............................

10

4.

Выпрямляющий контакт металл–полупроводник p-типа..............................

14

5.

Омический контакт металл–полупроводник n-типа.......................................

16

6.

Омический контакт металл–полупроводник p-типа.......................................

18

7.

Напряженность электрического поля, потенциал на контакте

 

 

металл–полупроводник, ширина ОПЗ .............................................................

21

8.

Вольт-амперная характеристика контакта Шоттки........................................

29

9.

Эффект Шоттки (уменьшение барьера)...........................................................

36

10. Механизмы переноса заряда через контакт металл–полупроводник..........

39

11. Сравнение барьеров Шоттки и p–n-переходов..............................................

41

12. Задачи и решения.............................................................................................

43

Библиографический список..................................................................................

49

3

ВВЕДЕНИЕ

Во всех полупроводниковых приборах используются контакты металлаиполупроводника.Впособиирассмотренаоднаизтемкурса «Физические основы электроники» – классическая теория образования и работы идеальных контактов металл–полупроводник, основанная на явлении термоэлектронной эмиссии. Показано, как образуются выпрямляющие и невыпрямляющие контакты с полупроводниками n- и p-типов. Для понимания физических процессов в контактах использованы элементызоннойтеориииупрощенныезонныеэнергетическиедиаграммы. Дан подробный вывод уравнений для расчета физических параметров контактов, таких как напряженность электрического поля, потенциал, толщина области пространственного заряда, удельная емкость обедненной области, вольт-амперной характеристики. Проведено сравнение вольт-амперных характеристик диода на основе барьера Шоттки и полупроводникового диода. Представлены примеры решения задач.

4

1. КОНТАКТЫ (БАРЬЕРЫ, ПЕРЕХОДЫ) МЕТАЛЛ–ПОЛУПРОВОДНИК

Одними из первых полупроводниковых приборов, реально используемых в радиотехнике, были разработанные в начале ХХ в. кристаллические детекторы, в которых использовался контакт металлической проволочной пружины с естественными полупроводниками, такими как сульфид свинца (PbS), закись меди (Cu2O ), селен (Se), позднее их сме-

нил кремний. Работа таких детекторов основана на зависимости электрического сопротивления контакта от полярности прикладываемого напряжения.

В1938 г. немецкий физик Вальтер Шоттки предположил, что потенциальный барьер между металлом и полупроводником создается неподвижным пространственным зарядом, а не за счет возникновения промежуточного химического соединения. В дальнейшем выпрямляющие контакты такого типа стали называться контактами с барьером Шоттки (БШ) или диодами Шоттки (ДШ).

В1938 г. английский физик Невилл Мотт предложил теоретическую модель для контактов металла к тонким слоям полупроводника. Образующийся при этом барьер получил название барьера Мотта.

ДиодыШотткинаосновеполупроводников(Si,GaAs)используются

висточниках питания для выпрямления переменного тока, в качестве затвора полевого транзистора вместо управляющего p–n-перехода, в цифровой электронике для повышения скорости переключения биполярного транзистора, в фотодетекторах и солнечных элементах.

Также широкое применение нашли невыпрямляющие или омические контакты металл-полупроводник, используемые для подключения внутренних областей полупроводниковых приборов к внешним выводам.

5

В связи с тем, что электрофизические свойства металла и полупроводника существенно различаются, контакт между ними (в отличие от p–n-перехода) может быть выпрямляющим либо невыпрямляющим. Можно выделить следующие возможные варианты таких контактов:

выпрямляющий контакт или контакт Шоттки (КШ) с полупроводниками n- и p-типа;

невыпрямляющий или омический контакт с полупроводниками n- и p-типа.

Тип контакта зависит, прежде всего, от соотношения работ выхода электронов из металла Pm иполупроводника PS . За начало отсчета при-

нимается энергия электрона в вакууме E0 , равная нулю. В вакууме от-

сутствует влияние других атомов или молекул на электрон. Энергетический уровень E0 считают расположенным вблизи поверхности твер-

дого тела на удалении порядка 1000 межатомных расстояний (а не на Луне), когда влияние заряда зеркального отображения становится пренебрежимо малым и электрон можно считать свободным.

Структура диода Шоттки и схема включения показана на рис. 1.

неомический

полупроводник

омический

контакт

 

n-тип

 

 

 

n+ тип

 

контакт

металл 1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

металл 2

 

 

ОПЗ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

x

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

xn +

 

U

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Анод (+)

Катод (-)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

+U

Рис. 1. Диод Шоттки, схема прямого включения и условное обозначение

6

2. СВОЙСТВА, СТРУКТУРА И ЗОННЫЕ ЭНЕРГЕТИЧЕСКИЕ ДИАГРАММЫ КОНТАКТОВ МЕТАЛЛ–ПОЛУПРОВОДНИК

Классическиепредставленияо свойствахконтактирующихструктур опираются на зонную теорию энергетического спектра твердых тел, их физические и термодинамические характеристики. Наглядную информацию о свойствах контактирующих материалов можно получить из энергетической зонной диаграммы E(x). В качестве примера на рис. 2 показаны зонные диаграммы примесных полупроводников n- и p-типов. Основным правилом при построении диаграмм в состоянии термодинамического равновесия является постоянство энергетических уровней, отображаемых на диаграммах в виде горизонтальных линий.

В дальнейшем оси координат, энергетические уровни Ea, Ed и Ei

отображать не будем, чтобы не усложнять рисунки.

Обращаем внимание на то, что энергия электронов в разрешенных зонах увеличивается вверх, а энергия дырок – вниз.

Под работой выхода понимается разность энергий между уровнем в вакууме E0 и уровнем Ферми, по смыслу – это энергия, которую дол-

жен иметь электрон, чтобы покинуть твердое тело. В свою очередь, уровень Ферми представляет собой электрохимический потенциал, отнесенный к одной частице, или химический потенциал в присутствии электрического поля. По определению, химический потенциал есть работа по увеличению числа частиц в системе на единицу.

Термин работа выхода применим только для электронов. Для дырок,являющихсянематериальнымичастицами,он неиспользуется.При описании контакта металл–полупроводник p-типа удобно рассматривать перемещение электронов через межфазную границу, следствием

7

которого будет изменение концентрации дырок в полупроводнике или концентрации свободных состояний в валентной зоне. Работа выхода электронов в полупроводнике p-типа, также как и в полупроводнике n- типа, определяется как разность энергий между уровнем вакуума и уровнем Ферми.

E

Энергия электронов Энергия дырок

 

 

 

 

 

 

 

 

E0=0

(в вакууме)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

PSn

 

 

 

 

 

 

 

 

 

np

 

 

 

 

 

 

 

nn

 

 

Ec

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ec

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ed

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

PSp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EFn

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Eg

 

Eg

 

 

 

 

 

 

 

 

Ei

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ei

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EFp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ea

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ev

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ev

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

pp

 

 

 

 

 

 

 

pn

 

 

 

 

 

 

p-тип

 

 

 

 

n-тип

 

 

 

Координата в кристалле

x

 

Рис. 2. Зонные энергетические диаграммы полупроводников n- и p-типов:

χ – сродство к электрону, энергия, эВ; Eg – ширина запрещенной зоны, эВ; EC – дно зоны проводимости; EV – потолок валентной

зоны; Ei – энергия середины запрещенной зоны

E

Ec EV

;

 

 

i

2

 

 

 

 

Ed – энергия ионизации доноров; Ea – энергия ионизации акцепто-

ров; – неподвижный ион акцепторной примеси; – неподвижный ион донорной примеси; – электрон, подвижный носитель заряда, на зонной диаграмме располагается в зоне прово-

димости; – дырка, подвижный носитель заряда, на зонной диаграмме располагается в валентной зоне; np, nn – концентрации электронов в полупроводнике p- и n-типа; pn, pp – концентрации дырок в полупроводнике n- и p-типа; PSp, PSn – работа выхода из полупроводников p- и n-типа, эВ

Концентрацияносителейзаряда(электронов)вметаллевсегдананесколько порядков выше концентрации основных носителей заряда (ОНЗ) в примесном полупроводнике n-типа. С точки зрения процесса

8

диффузии поток электронов при физическом соприкосновении двух тел должен быть направлен из области с большей концентрации в область с меньшей концентрацией. Однако при определенных условиях, когда

термодинамическая работа выхода из металла Pm больше, чем работа выхода из полупроводника PS , электроны могут переходить из полу-

проводника n-типа на свободные уровни в металле, находящиеся ниже, чем в полупроводнике.

Аналогичный процесс происходит и в случае полупроводника p-типа.

Классическиепредставленияо свойствахконтактирующихструктур опираются на зонную теорию энергетического спектра твердых тел, их физические итермодинамическиехарактеристики.Основным правилом при построении диаграмм в состоянии термодинамического равновесия является общий уровень Ферми, отображаемый на диаграммах E(x) в виде горизонтальной линии.

При контактировании металла с полупроводником объемные свойства материалов не изменяются. Изменения происходят только в приконтактной области полупроводника, где происходит обеднение или обогащение основными носителями заряда. Значение термодинамической работы выхода в нейтральной области полупроводника остается неизменным.

9

3. ВЫПРЯМЛЯЮЩИЙ КОНТАКТ МЕТАЛЛ–ПОЛУПРОВОДНИК n-ТИПА

Рассмотрим подробно, как образуется такой контакт. Этот тип контактаможетбытьреализован,еслиуровеньФермивметалле EFm лежит

ниже уровня Ферми полупроводника (EFm EFn ) или работа выхода из металла больше работы выхода полупроводника n-типа (Pm PSn ).

В этом случае электроны, зоны проводимости полупроводника, находятся на более высоких энергетических уровнях, чем электроны в металле. Поэтому электроны стремятся перейти из полупроводника на

свободныеуровнивметалле,находящиесяниже EFn ,новыше EFm .Та-

ким образом, выполняется один из критериев протекания самопроизвольных процессов – стремление системы уменьшить свою внутреннюю энергию.

На рис. 3 показано образование выпрямляющего контакта металл– полупроводник n-типа.

На рис. 3 не отображен уровень донорной примеси, расположенный между уровнем Ферми и дном зоны проводимости, и используется гипотеза обеднения – практическое отсутствие носителей заряда в ОПЗ (n Nd при 0 x xn ). В металле энергетические уровни ниже EFm

полностью заняты, а выше EFm – свободны. Работа выхода электронов изметалла Pm ,полупроводника n-типа PSn ,полупроводника p-типа PSp

отсчитывается от соответствующего уровня Ферми до нулевого уровня в вакууме, эВ:

Pm E0 EFm ,

(1)

10

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]