Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Ицхоки Я.С. Импульсные и цифровые устройства [учебник]

.pdf
Скачиваний:
100
Добавлен:
27.10.2023
Размер:
20.98 Mб
Скачать

Графики таких распределений

показаны

(в логарифмическом май-

штабе)

на рис. 16;

пунктиром

показано

распределение

концентра­

ций носителей в бездрейфовом

транзисторе.

 

 

 

 

5.

Электрическое поле в базе. При неравномерном

распреде­

лении

примеси в базе возникает

электрическое поле,

направленное

в л-базе от эмнттерного перехода

к коллекторному.

Напряженность

этого

поля

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Фг 4>т

Х д , ( Ф г й

0,026 В).

 

 

(8.37)

 

 

 

 

 

У

бездрейфового транзистора y.N =

0

и £ р =

0.

 

 

но­

6.

Граничные

неравновесные концентрации

неосновных

сителей. При приложении к переходу внешнего напряжения

воз­

никает

либо инжекция в базу

неосновных

носителей

через переход

(при прямом его смещении), либо экстракция неосновных

носителей

. t

7-.tOs

. "un

to'" to'3

i i

to"

 

JOh

Рис 16.

из базы в переход (при обрат­ ном его смещении). В обоих случаях концентрации неос­ новных носителей (дырок в n-базе) у эмнттерного (х — 0) и коллекторного (x=w) пе­ реходов зависят от приложен­ ных к этим переходам напря­ жений:

P f i ( 0 ) = P ( 5 0 ( 0 ) е " « - б / Ф Г ;

(8.38)

эти формулы справедливы для дрейфовых и бездрейфовых транзи­

сторов как в стационарных, так и переходных режимах.

7. Распределение концентрации неосновных носителей при стационарном активном режиме транзистора. При нормальном

смещении

переходов транзистора в.б

=

—Uß > 0,

< 0)

имеет место

инжекция

дырок в л-базу через

эмиттерный

переход

и их экстракция

в коллекторный переход. В результате этого в ба­

зе устанавливается неравновесная концентрация дырок

рц (х), и

вдоль базы,

в направлении к коллектору,

протекает ток і — і {х)\

приближенно можно полагать, что этот ток в основном

является

д ы р о ч н ы м .

Дырочный ток содержит

в общем случае

и диффу­

зионную, и

дрейфовую

составляющие:

 

 

 

 

Р ди ф (*) =

—qSD

 

іп п п (x) =

q S

PAX)E0

, (8.39)

 

Р dx

P ДР w

 

ч е

Фг

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

Dp — коэффициент

диффузии дырок в базе. В

неоднородной

базе

Dp— Dp (*)• и

3 3

значением D , , = const

принимают

усред­

ненную по всем

сечениям величину Dp

(х).

pg (х)

находятся из

 

Г р а н и ч н ы е

значения концентрации

формул (38), после чего из решения уравнения непрерывности на­ ходится сама функция рд {х) [98—99]. При стационарном активном

170

режиме работы и пренебрежимо малом токе базы (ввиду чего при любом X ток I (л), s ір (х) s / к = / э = const) относительная ве­

личина концентрации дырок в базе выражается функцией [108]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

1 - е

-xN

(1— x/w)

=

Ф

 

 

, Хд,

(8.40)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

бездр

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

И)

 

"

 

где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(8.40а)

— граничная

 

концентрация

дырок

в базе

 

б е з д р е й ф о в о г о

транизстора,

выражаемая

функцией

рб (х) при х = 0

и y,N

= 0.

Графики функции (40) изо-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

бражены

на рис. 17. В

точке

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

x/w =

1

 

эта функция

равна

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

нулю при любом

значении

KN;

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

согласно

формуле

(38),

это

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

обусловлено

экстракцией ды­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

рок при —и'к.б

> ф т ,

ввиду

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

чего рб M =

0*>.

Верхний из

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

графиков

(рис. 17)

относится

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

к бездрейфовому

 

транзистору.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

В этом случае Ер = 0, и сог­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ласно

формулам (39) ток в лю­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

бом сечении базы

 

является чи­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

сто диффузионным

(он пропор­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ционален

градиенту

| dp6 . dx ) .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Так

как

при

/ б = . 0

ток

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ір (х) =

const,

 

то

 

рассматри­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ваемый

график — прямая. Ос­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

тальные

графики

 

относятся к

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

дрейфовым

транзисторам.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Чем больше величина y.N,

тем в большей части базы концентра­

ция рб Xх) почти

неизменна и соответственно

dp^/dx ^

0. Поэтому

согласно

 

формулам

(39),

в

этой

части

базы

 

ір

Д И ф (*) s

0, а

«р др-С*) =

/ к =

const. При этом,

так как согласно

 

формуле

(37)

с увеличением

 

xN

 

возрастает

£ р , то в соответствии

 

со второй фор­

мулой

(39)

уменьшается

концентрация рб (х). Однако

при любом

значении х / Ѵ

с возрастанием

координаты x/w (рис. 17) постепенно

уменьшается

концентрация

рь(х),

а величина

| dp^/dx \ возрастает.

В соответствии с этим постепенно уменьшается дрейфовая состав­ ляющая дырочного тока и возрастает его диффузионная составляю­ щая, но их сумма в любом сечении базы при принятом условии по­

стоянна.

У коллекторного

перехода концентрация рб (w) = 0 и

ток /р (w)

при любом кfj является чисто диффузионным.

Поэтому

у коллекторного

перехода

величина dp^/dx не зависит от xN.~

8. Временем

пролета т т

называется среднее время,

в течение

*> При выводе функции (40) принималось pg (w) = 0

171

Рис. 18.

которого неосновные носители проходят через базу. В бездренфо-

вом транзисторе время пролета

равно

времена

диффузии

 

2DZ

 

(8.41)

 

 

 

В дрейфовом транзисторе

время

пролета

т т меньше т 0 ; их

отношение является функцией параметра KN [98—100, 108]:

iL

 

 

 

0,8

X

-

w

0,6

 

 

 

0,4

 

 

 

0,2

 

 

 

О

2 4 6

в

£

•1 + e

(8.42)

График функции (42) изображен на рис. 18. Время пролета связано с при­ водимым в справочнике [102] значением

п р е д е л ь н о й ч а с т о т ы fT про­

стым соотношением

1

(8.43)

2л/т

9. Условие входа транзистора в на­ сыщение. Рассмотрим карімну распре­ деления концентрации дырок ръ (х) в

л-базе транзистора ключевой схемы при заданных значениях Ек и RK (см. рис. 5), но различных значениях тока базы /g (рис. 19, а, 6). Мелким пунктиром на рис. 19 изображены кривые распределения

п-база

БезВрейфовыи.

Дрейфовый

 

б)

Рис.

19.

р а в н о в е с н о й .концентрации

pg 0 (х) (для возможности раз­

личения ординаты этих кривых показаны в преувеличенном виде). Остальные кривые относятся к различным значениям тока базы.

Крупным

пунктиром показаны кривые, соответствующие току ба­

зы

/g =

/бп. П Р И котором транзистор в х о д и т в

насыщение.

При

построении кривых не пренебрежено током базы

и в соответ-

172

ствии

с формулой (38) принято,

что при и'к_б <

0 концентрация

, Р б М

У коллекторного

перехода

хотя

и очень

мала,

но

все же

отлична от

нуля.

 

 

 

 

 

 

 

 

Пока

/g <

'би с

увеличением

тока

базы растет ток

коллек­

тора / к s

ß / б

и происходят описываемые ниже

изменения:

а) Почти пропорционально току базы возрастает концентрация

Рб (0)

у

эмиттерного

перехода

При этом согласно формуле (38)

повышается

напряжение

U's_6 =

— и'б.э

на эмиттерном

переходе.

б)

При любом фиксированном значении х почти пропорциональ­

но току базы повышается

градиент \dp^ldx\. Это особенно

отчетли­

во проявляется в бездрейфовом транзисторе (рис. 19, а), у которого

дырочный ток ір (х), текущий

вдоль

базы к коллектору,

является

чисто диффузионным, ввиду чего он пропорционален

градиенту

\dpeldx\. При фиксированном

же токе базы І^— const

этот гра­

диент

несколько

повышается

с уменьшением х\

это обусловлено

нарастанием

тока

ір (х) от значения

ір

(w) =

/ к

до

значения

'р (0) =

Л ( +

=

7Э; по этой

причине

кривые

рь(х)

оказыва­

ются

несколько

вогнутыми.

 

 

 

 

 

 

в) При любом токе /б "> 0 напряжение U6 э < 0; также и напряжение UK = UK_9= — ЕК + /К RK < 0 (рис.5). Поэтому соглас­ но равенствам (33а) можно записать (см. рис. 14).

" к б ^ - ( | " к . . | - К - 8 | ) -

(8.44)

С ростом тока / к s

B/Q напряжение | UK_ э | уменьшается,

а напря­

жение I и'6_э \ растет

Но пока | UK,S \ > | ІІб_э \ напряжение UK_0 <

< 0, и на коллекторном переходе действует обратное смещение, абсолютная величина которого уменьшается с ростом тока базы. Поэтому согласно формуле (38) концентрация рб (ш ) У коллек­

торного

перехода

повышается;

правда,

при

£ / к . б

<

0

это

повы­

шение

микроскопически мало.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

10. С ростом тока базы описанные выше изменения

нарастают.

Но свойственный

активному

режиму

характер

процессов

 

не меняется

до тех пор, пока смещение

коллекторного

 

перехода

не станет

равно

нулю, что и является физическим

условием

входа транзистора

в на­

сыщение.

В

соответствии

с

равенствами

(44)

при

 

в х о д е

тран­

зистора

в

насыщение

выполняются

равенства:

 

 

 

 

 

 

 

 

^ б

=

^к-бн =

0;

и1э

= иб_эа = и к в

;

 

 

(8.45)

при этом

согласно

формуле

(38) pg (ш) =

рб0 .

 

 

 

 

 

П.

Пусть после

входа транзистора

в насыщение ток базы воз­

растает. Это возможно

при увеличении

напряжения

на эмиттерном

переходе

(1/э _б >

 

\UVB\),

 

с

чем

связано

дальнейшее

 

повышение

концентрации рб (0). Так как в

режиме насыщения

коллекторное

напряжение ІІт

=

const,

то согласно

равенству (44)

напряжение

на коллекторном переходе должно стать положительным, т. е. образуется прямое смещение перехода. Согласно же формуле (38)

при ик_б >

0 концентрация рб (w) быстро повышается с ростом

напряжения

из переходе В результате кривая рб (х) располагается

173

тем выше над пунктирной кривой, соответствующей входу транзи­

стора

в насыщение (рис. 19), чем сильнее выполняется неравенство

/б > ^бн-

Хотя после входа транзистора в насыщение коллекторный пе­

реход

смещен в прямом направлении, но это не препятствует про­

теканию тока коллектора (он лишь не может нарастать с ростом

тока базы

из-за ограничения тока IK=IKN^EK/RK

сопротив­

лением ЯК).

Это объясняется тем, что напряжение і / к б

>

0 всег­

да меньше контактной разности потенциалов на переходе.

Поэтому

электрическое поле в переходе, ослабляясь с ростом UK

б ,

не ме­

няет своего направления и остается отсасывающим для попадаю­

щих

в переход дырок.

 

 

 

 

После входа в насыщение бездрейфового

транзистора (рис. 19,а)

градиент | dpç/dx

\ в сечении

х = w

практически не меняется,

что

соответствует

постоянству

тока

/,( =

В остальных сече­

ниях базы этот градиент нз-за влияния тока базы возрастает тем

значительнее,

чем сильнее выполняется

неравенство

/g > /g,,

В дрейфовом транзисторе (рис. 19, б) характер

кривых р б (х) с ро'

стом тока /д >

/бн более сложен. Здесь постоянство тока

/,, =

/ к н

связано с такими особенностями кривых

рб (х): в сечении х =

w

до входа транзистора в насыщение дырочный

ток і р (ш)

является

чисто диффузионным; после же входа в насыщение, из-за появле­

ния

дрейфовой

составляющей тока значительной величины (так

как

рб (в>) 3> Рбо). вначале

с ростом

тока базы уменьшается

диффузионная

составляющая

тока ip(w),

а затем она становится

отрицательной

(производная

dp^ldx меняет знак); в сечении х = О,

где преобладает дрейфовая составляющая дырочного тока, те же особенности проявляются слабее. В результате концентрация

дырок у эмиттерного

перехода оказывается при І§ > / б и меньше

концентрации дырок

у коллекторного перехода.

Б.СВЯЗЬ СТАЦИОНАРНЫХ ТОКОВ ТРАНЗИСТОРА

СЗАРЯДОМ БАЗЫ

Установление связи токов транзистора с зарядом н е о с н о в ­

н ы х

носителей базы

важно

для анализа

переходных

процессов

в транзисторе методом

заряда

базы. Но раньше полезно

установить

таковую связь

в стационарных режимах

работы.

 

12.

Связь

стационарного

тока

коллектора в активном режиме

с зарядом базы. Для

установления

такой

связи найдем

заряд Qp

дырок в базе. Рассмотрим элементарный объем базы Sdx. Заклю­ ченный в этом объеме заряд дырок dQp qep^ (x)Sdx. Отсюда

w

 

Qp = qeS^P6(x)dx,

(8.46)

 

о

 

т. е. заряд

дырок в базе пропорционален площади,

ограниченной

кривой рб (х) и осью абсцисс (рис. 19) на интервале (0, w).

Точное

выражение функции рд (я) является сложным. Так как

в активном

режиме ток базы /g < / к , то можно подставить в фор-

174

мулу (46) приближенное выражение (40) для функций р§ (1с). Ин­

тегрируя, найдем

где принято во внимание, что KN = w/LN. Сопоставляя результат интегрирования с выражением (42), запишем

!kLN

KNXt

' в ^

т т

Dp

2xD

2Dp

xL

Подставляя сюда выражение

xD

из формулы

(41), получаем

 

 

 

 

 

 

 

QP =

/ K T t .

 

 

 

 

 

(8.47)

 

Соотношение

(47)

справедливо

для

дрейфового

и

бездрейфо­

вого

тр анзистора

(в последнем

случае т т

= xD),

но

только

при

активном

режиме

работы.

Действительно,

из рассмотрения

кри­

вых

ре (•*)

и с -

'9) видно,

что

с

увеличением

тока

базы

при

'б >

^бп площадь,

ограниченная

кривой

 

ро(х),

возрастает;

сле­

довательно,

возрастает

и заряд

Qp.

Ток же коллектора

/ к

=

/ к в

остается

 

неизменным.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

13.

Связь стационарного

тока

базы

с

зарядом

базы.

Как из­

вестно,

в

изолированном

полупроводнике

скорость

уменьшения

избыточной концентрации носителей, обусловленная их рекомби­ нацией, пропорциональна избыточной концентрации неосновных носителей (дырок) и обратно пропорциональна времени их жизни (тр). т. е.

 

dp

^

р — рв

dn

— ра

 

 

dl

~~

Хр

' dt

~

хр

{ а )

В

базе транзистора

непрерывно

протекает -процесс

рекомби­

нации,

подчиняющийся в общем законам (а). Но база— не изолиро­

ванный

полупроводник,

и в

стационарном режиме несмотря на

рекомбинацию концентрация носителей остается неизменной. Это

получается

благодаря

замещению

рекомбинированных

носителей

таким же количеством

носителей,

поступающих

в базу: дырки по­

ступают из эмиттера в количестве,

превышающем их уход в кол­

лектор я

> / к ) ; электроны же доставляются током базы

в коли­

честве, равном их убыли из-за рекомбинации*'.

Исчезновение из"

базы рекомбинируемых

электронов

можно представить в виде

экви­

валентного

тока рекомбинации

/ р е к . который по величине

равен

току базы,

но втекает

в базу.

Принимая это во внимание,

пред­

ставим уравнение, (а) в виде

 

 

Яе ., = Яе

'

(8.48)

at

Тп

 

*> Электроны поступают и уходят из базы также через перехо­ ды транзистора. Ввиду малости (сравнительно с током базы) элект­ ронных токов через переходы их влиянием обычно пренебрегают.

175

где дЛя различения производная dnldl заменена на dnpeK/dt,

ибо

она не выражает

скорость изменения к о н ц е н т р а ц и и

элект­

ронов в базе (в

стационарном режиме я = «б = const).

Левая

часть уравнения (48) выражает скорость исчезновения заряда рекомбинируемых электронов в единице объема базы, т. е. объемную

плотность тока рекомбинации

/ р е к . Имея это в виду, умножим обе

части

уравнения на Sdx и проинтегрируем:

 

 

 

s \ /рек<**=

p6dx-

dx

 

 

О

И

 

 

 

При

интегрировании

учтено,

что под временем

жизни

т р = const

(в неоднородной базе

оно в разных сечениях

различно)

понимают

среднее по толщине базы (эффективное) значение, находимое опыт­ ным путем.

В уравнении (*) /peK Sd.v: ток рекомбинации, соответствую­

щий элементарному объему Sdx; поэтому первый интеграл выражает ток / р е к . Согласно формуле (46) выражение в квадратных скобках уравнения (*) представляет разность неравновесного и равновес­

ного

зарядов

дырок в базе. Таким образом,

получаем

 

 

 

 

 

(8.49)

где

принято,

что ввиду pQ 0 < pG также

и QpQ

<

Qp.

 

Полагая

/б = /рек. запишем

 

 

 

 

 

Q p S / б Ѵ

 

 

(8.50)

Это

важное

соотношение справедливо

в любом

стационарном ре­

жиме — активном и режиме насыщения.

Но время жизни несколь­

ко меняется с изменением тока базы [98, 10б|. Основное значение

имеет

различие

величины

хѵ в активном режиме

и режиме

пасы»

щения. При этом у сплавных транзисторов эффективное

время

жизни

в насыщенной базе обычно уменьшается

(иногда примерно

в два

раза), а у дрейфовых транзисторов,

наоборот, оно

возра­

стает (иногда в несколько раз). При технических

расчетах

удобно

оперировать с двумя

с р е д н и м и

значениями

времени

жизни:

 

 

Т р «

[%а — в активном режиме,

 

 

 

 

ß

 

 

 

(8.5!)

 

 

 

 

 

( т : і — в режиме

насыщения.

 

 

Время

жизни т н

называют

временем

накопления

носителей

в базе.

Сопоставляя

равенства

(47) и"(50)

и учитывая, что в активном

режиме / в s; Bio,

получим

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

t ß s ß T T .

 

 

(8.52)

 

В

дальнейшем

нам понадобится

значение заряда базы

Qp

=

= Qi7> при котором транзистор в х о д и т в

насыщение (/Q = / Б И

) .

Полагая в этом случае в формуле (50) т р =

Тр, запишем

 

 

 

 

 

 

 

Q j s / 6 l I t p .

 

(8.53)

 

176

В КАЧЕСТВЕННАЯ КАРТИНА ПЕРЕХОДНЫХ ПРОЦЕССОВ В ТК

14. Инерционность ТК (в схеме с общим эмиттером) обусловлена в основном действием барьерных емкостей пе­ реходов и процессами накопления и рассасывания неоснов­ ных носителей в базе транзистора (в дрейфовом транзисто­ ре—-также и в области коллектора, прилегающей к базе).

15. Переходный процесс при отпирании транзистора. Не учитывая пока влияния барьерных емкостей, рассмот-

а)

IS То

 

->

Г

/ !

t

 

ha

в)

\

 

 

K l

 

 

/

1

t

 

 

 

 

 

 

Рис. 20.

Рис. 21.

рим характер переходного процесса, возникающего при пе­ репаде в момент t = 0 тока базы (рис. 20, а, б) от значения

/в = — / к 0 до значения

l t > Ып- Такой режим работы со­

здается при

Ку > Rtx

и перепаде

управляющей э. д. с.

от значения £ у ~ > 0 До£у" = — i t R t -

Д л я конкретности бу­

дем иметь в виду бездрейфовый транзистор.

При / < 0

характер распределения концентрации дырок

в базе отображен на рис. 21, а (в сильно растянутом масшта­

бе) самой нижней кривой. Здесь в сечении х = 0 dpo/dx ^

0

(так

как іэ

=

0)

и р б =

Рбо (так как

и3

= 0);

в сечении

X =w

арв/ахфО

 

(так

как і к = / к 0 )

и

Рб = 0

(так как

« к - б s Ек

и Ек

> фГ ).

 

 

 

 

При С>0 в базу поступают электроны; они частично ре-

комбинируют,

а частично увеличивают отрицательный

за-

177

ряд базы, нарушая ее нейтральность. Это обусловливает возникновение электрического поля, направленного в сто­ рону появившегося в базе отрицательного заряда. Поле, воздействуя на эмиттерный переход, вызывает инжекцию дырок в базу, нейтрализующих отрицательный заряд базы**. Процесс нейтрализации базы протекает чрезвычайно быст­ ро — практически мгновенно, и можно полагать, что в лю­ бой момент времени приращение заряда электронов в базе равно приращению заряда дырок**).

Инжектированные дырки диффундируют в глубь базы,

и через весьма малое время

Т0 (в бездрейфовом

транзисторе

Т0 s= то/б [101, 108]) начинает заметно

повышаться

гра­

диент

\dp^ldx

I также и у коллекторного перехода (рис. 21, а)

С этого

времени практически начинают нарастать

токи

і к

и /э =

/„ + it

(в момент t = 0 ток эмиттера

i3

=lt

замы­

кался через цепь базы).

 

 

 

 

 

 

 

 

С течением времени заряд дырок в базе

растет; кривые

распределения

концентрации дырок,в базе в некоторые мо­

менты времени показаны на рис. 21, б (в более сжатом мас­

штабе). Как видно, с течением времени градиенты

| dp^ldx \

у обоих переходов повышаются; соответственно нарастают

токи коллектора (см рис. 20, в) и эмиттера. В некоторый мо­

мент Та ток коллектора достигает значения

/ к

н =

 

EK/RK.

Соответствующая этому моменту кривая ро(х) показана на

рис. 21, б крупным пунктиром. При / > 7 Ѵ транзистор на­

ходится в насыщенном состоянии (/„

= I к в

= const) и гра­

диент

I dp5/dx

I в сечении х = ш н е меняется. Но заряд дырок

продолжает нарастать, и кривые Ра(х) сдвигаются в указан­

ном на рис. 21, б направлении, стремясь (строго говоря, при

t = оо)

к положению, соответствующему

стационарному

режиму. Этот режим определяется током базы

lt.

 

 

 

При достижений стационарного состояния заряд дырок

(а также заряд электронов) возрастает на величину AQp

=

= Qp — Qpo = QP

= Ifap

[см. формулу (50)]. При отсутст­

вии

рекомбинации

длительность

переходного

процесса

*> Это поле действует и на коллекторный переход, но оно лишь

повышает

его обратное смещающее напряжение.

 

 

 

 

 

**> При описании

процесса нейтрализации

базы

принято,

что

причиной инжекции дырок является приток в базу электронов,

доставляемых т о к о м

базы. В других случаях в качестве причины

инжекции дырок принимают н а п р я ж е н и е ,

подаваемое

на пе­

реход,

а появление т о к а базы рассматривают

как следствие. Од­

нако при принятом рассмотрении процессов невозможно

различить

и отделить причину от следствия.

 

 

 

 

 

 

 

178

была бы равна Qp/lt = т р ; в действительности же она будет несколько больше.

16. Связь между зарядом базы и током коллектора в пе­

реходном режиме. До входа транзистора в насыщение каж­ дая из кривых pô(x) (рис. 21, б) соответствует некоторому то­ ку tK (0 < 'um определяемому градиентом | dpo/dx | в сече­ нии X —W. Сравним эти кривые с кривыми рв(х) стационар­ ного режима (см. рис. 19, а) таким образом, чтобы сравни­ ваемые кривые относились к одному и тому же току коллек­

тора [і к (0 = Iк = ВІ5]. При

этом будем

интересоваться

не тонкой структурой кривых,

а величиной

интеграла (46),

•определяющего заряд базы. Сравниваемые кривые разли­ чаются по двум причинам.

Во-первых, из-за длительности пролета т т в переходном процессе изменения концентрации носителей у коллектор­ ного перехода отстают от таковых изменений у эмиттернопг перехода. Но т т <^ т р . Поэтому обусловленное этой причи­ ной различие зарядов базы в стационарном и переходном

режимах весьма

мало.

 

 

 

 

 

Во-вторых, кривая. р5(х) стационарного режима, отно­

сящаяся к току

/ к =

Bf б <

^кн. соответствует

току базы

<

-^бн и току

эмиттера

/ э

= / в + h <

/ к +

/бнАна­

логичная кривая переходного

процесса, относящаяся к то­

ку ік(і) = / к , соответствует току базы lt>

^бн и току эмит­

тера

«э = +

^б" >

/к +

/бнПоэтому

градиенты кон­

центраций сравниваемых кривых у коллекторного перехода одинаковы, а у эмиттерного — различны. Однако, если вследствие неравенства^ > 1 ток базы It «С iK(t) (что в пе­ реходном режиме справедливо при не очень малой величине І„), то можно принять, что при одинаковых токах коллекто­ ра iK(t) =ІК соответствующие им заряды в базе прибли­ зительно одинаковы, т. е. Qp(t) = Qp. Такое приближение,

;применяемое при технических расчетах, существенно их

упрощает;

оно

позволяет распространить

простое

соотно­

шение (47)

и на

переходный

режим

работы:

 

 

 

 

Qp(t)^iK(t)TT

к < / „ „ ) .

 

(8.54)

Это соотношение справедливо и для дрейфовых транзисторов.

17. Переходный процесс

при запирании транзистора.

Пусть при / <

0 бездрейфовый транзисторе

ключевой схе­

мы находился

в стационарном

насыщенном

состоянии, ха

растеризуемом токами / к н wit

> ^бн (рис. 22, а, б). Соот­

ветствующее

распределение концентрации

дырок в базе

179

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ