Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Арсенид галлия. Получение, свойства и применение

.pdf
Скачиваний:
103
Добавлен:
25.10.2023
Размер:
18.36 Mб
Скачать

320

 

 

 

 

К О Н Т А К Т

Л Р С Е Н И Д Г А Л Л И Я -

М Е Т А Л Л

 

 

 

[ГЛ. 7

 

Из приведенного соотношении можно сделать следую­

щие

выводы:

 

 

 

 

 

 

 

 

\U\ ^> кТ

 

 

 

 

 

 

1.

При

 

обратных

напряжениях

 

плотность

тока равна /s

п п

е

зависит от напряжения.

 

 

 

 

 

 

 

 

2.

Если

построить

зависимость

In (/s/?i a )=/ (,'UT),

 

по­

лучим прямую линию с наклоном (eUD~\~'^)/k,

отсекающую

на оси ординат отрезок, равный 1п/1.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3.

Вблизи

U=0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Таким

образом,1н

 

- ^ - j = / ^ - ^ - j — п р я м а я

линия

с

наклоном (\i-\-Uj)) /к

=

\\>в/к, отсекающая

на оси

орди­

нат

отрезок,

равный

In (еЛ/к).

Эти

соотношения

позво­

ляют определить диффузионный потенциал

Up и постоян­

ную

Ричардсона

А,

еслп

известно

положение

уровня

Фермп

вдалп

от

барьера

и.. Однако

это

справедливо,

только

если

трв не зависит от

температуры, что

выпол­

няется,

когда \рв

определяется

разностью

работ

выхода,

но может не выполняться при определяющей роли

поверх­

ностных С О С Т О Я Н И Й .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4.

Прп прочих равных условиях / s

пропорционально

п.

т.

5.

При прямых напряжениях U^>kT/e,

 

j—jsex])(eU/kT),

е.

In

j=f{U)

 

— прямая

линия

с

наклоном

 

 

е/кТ,

отсекающая

на

оси

токов

отрезок,

равный In

/ s .

Нак­

лон прямой одинаков для всех барьеров.

 

 

 

 

 

 

 

 

Отклонения

 

от

теории

Шоттки

— Бете.

 

П о и и-

ж е н н е б а р ь е р а

с и л а м и з е р к а л ь н о г о

 

 

о т р а ­

ж е н и я

и в н е ш п и м

э л е к т р и ч е с к и м

 

п о л е й !

•[24, 38].

Под

действием

сил

зеркальпого

 

отраже­

ния

и

внешнего

электрического

поля

барьер

 

у

гра­

ницы

с

металлом

понижается. Максимум

барьера

нахо-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/

е

у / 2

 

 

 

 

 

 

 

 

дится на расстоянии хт

=

^

^

 

 

от

реальной

по­

верхности

 

металла,

а

понижение

 

барьера

[38]

равно:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

3е?,е

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

Е

— электрическое

поле в

плоскости

ж т ,

ец

— ди-

7.1]

О Б Щ И Е З А К О Н О М Е Р Н О С Т И

321

электрическая проницаемость сил зеркального

отражения,

Которую следует считать равной высокочастотной опти­ ческой диэлектрической проницаемости (так как элект­

роны преодолевают расстояние хт за время,

сравнимое

с периодом колебаний электромагнитного

излучения),

но которая экспериментально у разных авторов получа­

ется в широких

пределах

от 1

до статической

величи­

ны [39].

 

 

 

 

 

 

 

Зависимость

плотности

тока

от иапряжеппя

с учетом

понижения

барьера Лг];в

принимает

вид

 

 

j =

; s exp I

 

1 Г

eU

 

(7.2)

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

Ее можно представить прп U^kTle

подобно

формуле

(7.1) [38], а

именно:

 

 

 

 

 

 

 

7 =

 

 

eU

 

 

Тогда

 

/ S e x P p W

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

т - 1

 

 

 

4

UT

U — кТ

> 1.

 

 

 

 

 

Таким образом, понижение барьера уменьшает наклон прямой ветви вольтамперной характеристики. Из-за этого понижеппя барьера отсутствует насыщение обратного тока. ' '• Б о л ь ш и е п р я м ы е с м е щ е н и я [М43,40]. При боль­ ших прямых смещениях выражения для тока, полученные

как по диодной, так и по диффузионной теории

неверны,

так как барьер уже недостаточно толст и высок,

т. е. не

выполняются исходные предположения теорий. Когда падение напряжения на барьере уменьшается настолько, что становится сравнимым с падением напряжения на последовательном сопротивлении, характеристика изги­

бается

книзу.

Однако в этой области возможен заметный

нагрев

контакта, что приводит к изгибу

вверх. Какой

эффект

преобладает, зависит

от параметров контакта.

Б о л ь ш и е

о б р а т н ы е

с м е щ е н и я .

При больших

обратных смещениях начинается лавинное умножение носи­ телей тока в области прострапствеииого заряда, и ток резко возрастает. Когда падеине напряжения на слое объемного заряда становится меньше падения напряжения на после­ довательном сопротивлении, характеристика ток — напря-

21 А р с е н и д галлия

322 К О Н Т А К Т А Р С Б Н Н Д Г А Л Л И Я - М Е Т А Л Л [ГЛ. 7

женив стаповится линейной с наклопом, обратно пропор­ циональным последовательному сопротивлению, до тех пор, пока не пачиется нагрев диода.

Н е о д н о р о д н а я п о в е р х н о с т ь п о д к о н т а к ­ том. Неоднородность поверхности приводит к тому, что высота барьера пеодинакова по площади коптакта. Бете показал, что в этом случае характеристика ток — напря­ жение может не иметь экспоненциальных участков пли

иметь несколько участков с В >

1.

 

 

 

 

 

П р о м е ж у т о ч н ы й

с л о й

о к и с л а . Реальная поверх­

ность полупроводника

обычно покрыта слоем

окисла тол-

 

 

 

 

о

 

 

 

 

 

 

 

щиной порядка 10—50 А. При наличии достаточно

толсто­

го слоя

окисла

между

металлом

и

полупроводником за­

висимость прямого тока от напряжения

прп

U

^>кТ1е

может

быть

представлепа [41,

42] в

форме

 

 

 

 

 

 

 

 

eU

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/

= 7s ехр р - ^ , ,

 

 

 

 

(7.3)

где

d

t

 

 

 

d

(

 

 

 

 

 

2лле

У'2 .

,

2лле

 

\ 1 2

 

 

 

 

 

 

 

" п

 

1"

-

 

 

 

 

 

 

 

 

П

е

 

ts

(7.4)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/я = 7*

envD{U)

схр ( - ^ ) ;

5(С7)-средппйкоэффициент

прозрачности

слоя окисла,

&, — его

диэлектрическая

проницаемость,

d — толщина.

Из

формулы

(7.4)

видпо,

что 1) В2 увеличивается с увеличением d и п; 2) р., увелпчпвается с увеличением тока через диод, что может быть

ошибочно принято за проявление последовательного

соп­

ротивления;

3) показатель экспоненты

в

формуле

(7.3)

изменяется

с температурой не как ЦТ,

а

более сложно

(между

1

nl/УТ).

 

 

 

К о н ц е н т р а ц и я э л е к т р и ч е с к о г о п о л я п а

к"р а я х

м е т а л л и ч е с к о г о к о ч т а к т а .

Концентрация

электрического поля у краев контакта приводит к появлению токов утечки при обратном смещении и снижению общего напряжения пробоя контакта [43].

П р и м е с и с г л у'б о к и м и у р о в п"я м и. Такие приме­ си являются^центрами рекомбинации и, так же как в рп

7.IJ

 

 

 

 

О Б Щ И Е З А К О Н О М Е Р Н О С Т И

 

 

 

 

 

323

иереходах по теории Шокли—Нонса—Саа,

могут приводить

к существенной

рекомбинации в слое объемного заряда и

увеличению р

до

двух [44]. Кроме того,

экспериментально

наблюдались нереходиые явления в токе

 

 

 

 

 

 

[45], при которых ток в обратном

нап­

 

 

 

 

 

 

равлении увеличивался при постоянном

 

 

 

 

 

 

напряжении на барьере, стремясь со

 

 

 

 

 

 

времеием it стационарной величине. Ха­

 

 

 

 

 

 

рактеристика

логарифм тока — напря­

 

 

 

 

 

 

жение

оказывалась

нелинейной,

как

 

 

 

 

 

 

шжазаио па рис. 7.2.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

В работе [21] учтен еще ряд факто­

 

 

 

 

 

 

ров, влияющих

на зависимость тока от

Рис.

7.2.

 

Харак­

напряжения.

В

 

результате

получено

 

выражение для

тока,

которое

отлича­

теристика

ток—

напряжение барь­

ется

от

(7.1)

значением

постоянной

ера

Шоттки

с

Ричардсона

 

 

 

 

 

 

 

глубокими

при­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

месями.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

— характеристика

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

и

момент

времена

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(=0;

г — установив­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

шаяся

характери­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

стика.

 

где / р

учитывает

рассеяиие

носителей

тока

фононамп,

/Q— квантовомехапическое

отражение носителей

тока

от

барьера,

a VR к

VQ — эффективные скорости

рекомбина­

ции у

вершины

барьера и

диффузии. Величины

fp

и

/Q

зависят от электрического поля и температуры и изме­ няются для арсенида галлия в пределах от 0,5 до 1 [21].

Таким образом, понижение барьера силами зеркаль­ ного изображения и внешним электрическим полем,- нали­ чие промежуточного слоя и глубоких примесей, неодно­ родность поверхности могут привести к тому, что зависи­

мость тока от напряжения, оставаясь

экспоненциальной,

будет иметь меньший,

чем по

теории

Шоттки, наклон

(Р J> 1), Характеристика

может

быть иеэкспоненциальной

из-за неоднородности поверхности и наличия глубоких примесей. Глубокие примесн вызывают переходные про­ цессы с большой постоянной времени.

Современная теория прохождения тока в контакте металл—полупроводник дана в работе [25].

7.1.3. Характеристика емкость напряжение. Обычно измеряется динамическая емкость C—dQ/dU. При больших

21*

324

К О Н Т А К Т А Р С Е Н Н Д Г А Л Л И Я - М Е Т А Л Л

[ГЛ. 7

прямых смещениях, наряду с зарядовой емкостью, может проявляться диффузионная Со — (/в+Лт.'где т—время

жпзни неосновных носителей тока в полупроводнике. Диффузионная емкость связана с инжекцией носителей тока в полупроводник пз металла. При обычных токах она не проявляется, так как инжекцпя в барьерах Шоттки мала. В арсеииде галлия, кроме того, мало время жизни.

Теория Шоттки—Бете. По теории Шоттки—Бете зарядовая емкость равна C—zSlinw (w — ширина слоя объемного заряда) и зависит от напряжения по закону

 

£

= 5 ^

- ^ -

(7-5)

Таким образом, S'2JC'2=f(U)

представляет собой

прямую

линию с

наклоном

Sn/e&Na, отсекающую на оси напря­

жений отрезок, равный JJD.

Однако в дальнейшем было

показано,

что, хотя

наклон

характеристики

реальных

контактов соответствует в большинство случаев (7.5), напряжение отсечки может сильно отличаться от Uz>.

Отклонения

от теории Шоттки—Бете.

В л и я н и е

с в о б о д н ы х

н о с и т е л е й т о к а .

Учет свобод­

ных носителей тока [30, 46] приводит к поправке в выра­ жении (7.5)

Выражение вида (7.6) Вагнер [47] получил еще до созда­

ния теории Шоттки. В работе [48] путем точного

вычисле­

ния емкости

без

обычных приближений

показано,

что

в случае сильно

асимметричного р—?г-переходп

напря­

жение отсечки

может

быть значительно

меньше

Uд.

В применении к барьерам Шоттки сильно

асимметричным

переходом

считается

контакт с полупроводником,

имеющим малую концентрацию свободных носителей тока (до 10" см-3).

П р о м е ж у т о ч н ы й с л о й . При достаточно толстом промежуточном слое напряжение отсечки может

значительно

превосходить диффузионный

потенциал

[46, 49]. При этом, если заряд иа поверхностных

состояни­

ях не зависит

от

напряжения, наклон характеристики

соответствует

(7.5),

в противном случае — отличается.

О Б Щ И Е З А К О Н О М Е Р Н О С Т И

325

П р и м е с и с г л у б о к и м и у р о в н я м и . .

Если

концентрация глубоких примесей в полупроводнике срав­ нима с концентрацией мелких, в барьерах Шоттки при изменении смещения или освещении наблюдаются пере­ ходные явления, которые могут длиться в течение не­ скольких дней [46]. Зависимость емкости от постоянного смещения при наличии глубоких примесей впервые теоре­ тически получена Гудменом [46[. В работе [12] теория Гудмена развита дальше, и получена зависимость, связы­ вающая емкость с постоянным напряжением смещения и временем (при условии достаточно высокой частоты из­ мерительного сигнала, чтобы глубокие центры ие успевали перезаряжаться):

Ш

1

 

eb\ND-NA+N%

1 - e x p f — i -

 

 

8 л

 

 

 

 

 

 

-

к (t) NGT

e x p ( - -

C

' (7.7)

 

 

 

 

 

8

 

где NA И Nn

— концентрация соответственно

акцепторов

и доноров

в

объеме

полупроводника; iVy — равновесная

концентрация ионизованных глубоких примесей в области

объемного заряда; х={еп—ер)-1;

еп и ер — соответственно

скорости эмиссии электронов и дырок с глубоких

приме­

сей; t — время; %(t) — толщина

слоя между краем объем­

ного заряда и плоскостью, на которой уровень

Ферми

пересекает уровень

глубоких

примесей.

Из

формулы

(7.6) видно, что в первый момент (t=0)

S2lC2=f{U)

прямая линия

с наклоном, соответствующим теории Шот-

тки Цггт—- =

ттт

кгт- -В стационарном

же

состо-

яини при £-»• оо характеристика емкость—напряжение представляет собой кривую с выпуклостью вверх. Мето­ дика, развитая в работе [13], позволяет определять энер­ гию ионизации, концентрацию и сечение захвата одного или нескольких глубоких нримесей, если их энергии иони­ зации достаточно сильно различаются. Другая методика определения энергетических уровней нескольких одно­ временно присутствующих примесей предложена в ра­ боте [50]. При наличии глубоких примесей емкость уменьшается с увеличением частоты измерительного сиг­ нала и с понижением температуры. В работах [51—53] ис­ следована зависимость емкости от напряжения, частоты

326 К О Н Т А К Т А Р С Е Н И Д Г А Л Л И Я - М Е Т А Л Л [ГЛ. 7

и температуры для^резких асимметричных р—/г-переходов. Примененный в этих работах анализ пригоден и для

барьеров Шоттки.

 

 

 

 

 

 

. . И з м е н е н и е

э ф ф е к т и в н о й

п л о щ а д и

к о н т а к т а

с

н а п р я ж е н и е м 146].

Если по­

верхность полупроводника под

контактом имеет неров­

 

 

ности, то с увеличепием об­

 

 

ратного

напряжения

эффек­

 

 

тивная

. площадь

контакта

 

 

уменьшается,

как

показано

 

 

на

рис .7.3. При этом

£ 2 / С 2 =

 

 

=/

(U)—кривая

с

выпукло­

 

 

стью вниз.

 

 

 

Рпс. 7.3. Изменение эффектив­ ной площади барьера в кон­ такте металлПолупроводник

в случае, когда поверхность полупроводника имеет не­ ровности.

Н е

п о л н о с т ь ю

и о н и з о в а н н ы е

м е л ­

к и е

д о н о р ы . Для этого

случая

зависимость

емкости

от напряжения была

получе­

на в работе [54]. Она доволь­ но сложна.

1 — м е т а л л ; г — п о л у п р о в о д н и к ;

Б о л ь ш и е

п р я м ы е

3 — г р а н и ц а с л о я о б ъ е м н о г о з а р я д а

п р и п р я м ы х

и м а л ы х

о б р а т н ы х

 

на ­

с м е щ е н и я .

По

теории

п р я ж е н и я х ;

4 — г р а н и ц а

с л о я

Шоттки при больших пря­

о б ъ е м н о г о

з а р я д а

п р и б о л ь ш и х

о б р а т н ы х н а п р я ж е н и я х .

 

 

мых смещениях емкость стре­

 

 

 

 

 

мится к бесконечности. Од­

нако при

точном расчете

[30] оказывается,

что

емкость

достигает максимума, а затем уменьшается,

стремясь к

геометрической

емкости

С г е о ы = е . 5 / 4 л ^ где

I — расстоя­

ние между электродами.

 

 

 

 

Таким образом, точное вычисление дифференциальной емкости барьера Шоттки показывает, что напряжение отсечки меньше диффузионного потенциала; величина с!азличия зависит от концентрации носителей тока в полу­ проводнике. Наличие промежуточного слоя, напротив, приводит к тому, что напряжение отсечки может быть зна­ чительно больше диффузионного потенциала. Зависимость SilLz=f (U) может быть ие прямолинейной из-за: 1) про­ межуточного слоя, заряд на котором зависит от напря­ жения; 2) глубоких примесей в объеме полупроводника или в области контакта; 3) неровной поверхности контакта, в результате чего эффективная площадь контакта зависит от напряжения.

7.1 J

О Б Щ И Е З А К О Н О М Е Р Н О С Т И

327

7.1.4.

Фотоэлектрические свойства. Если на

барьер

Шоттки падает излучение из области собственного погло­ щения полупроводника, происходят те же явления, что •ар—n-переходе: генерируемые светом электронно-дырочные

пары

разделяются

полем барьера, и создается фото-э. д. с ,

а при

включении

на внешнюю нагрузку течет фототок.

В работе [55] получено выражение для фототока. Это выра­ жение для монохроматического света с учетом изменения коэффициента поглощения в слое объемного заряда [56] имеет вид

где N — поток

фотонов,

входящий

в

полупроводник;

(5 — квантовый

выход внутреннего

фотоэффекта; w —

ширина слоя

объемного

заряда;

К{х)

— коэффициент

поглощения света в слое объемного заряда, зависящий от электрического поля через коордпнату х (расстояние от поверхности); К0 — коэффициент поглощения света в об­ ласти полупроводника без поля; L — диффузионная длина неосновных носителей тока. Если барьер Шоттки облу­ чается фотонами с энергией из области примесного погло­ щения, фоточувствительность вызывается двумя причи­ на™: 1) возбуждением носителей тока с глубоких уров­ ней (если они есть) и 2) фотоэмиссией электронов из ме­ талла (подобно фотоэмиссии в вакуум), в случае которой

выполняется

закон

Фаулера Ill$-^(hv—я];в),

справедли­

вый для hv >

я|)в

при условии, что толщина

металличе­

ского слоя, через который освещается барьер, значительно меньше расстояния, на котором энергия возбужденных излучением электронов уменьшается в е раз. Здесь 7ф — фототок, отнесенный к числу падающих фотонов. Таким

обиазом,

в области примесного

поглощения функция

7 2

= / (hv)

должна

быть прямой линией, отсекающей на

оси

hv величину,

равную высоте

барьера 1])в=еС/в+(д.,

если в полупроводнике или в области контакта нет глу­ боких примесей. Глубокие примеси приводят к избыточной фоточувствительностп.

328

К О Н Т А К Т А Р С В Н Н Д Г А Л Л И Я - М Е Т А Л Л

[ГЛ. 7

7.2.Методика создания контактов арсенид галлпя — металл

7.2.1.Методика создания выпрямляющих контактов. Выпрямляющие контакты арсенид галлпя—металл со­ здаются нанесением металла на очищенную поверхность арсенпда галлия. Для этого используются методы:

вакуумного напыления, электрохимического осаждения и химического осаждения.

Вакуумное напыленпо позволяет получить топкий слой металла практически любой формы и площади иа поверх­ ности полупроводпика. Техника вакуумного напыления рассматривалась в ряде монографий (см., например, [М45]). Для создания контакта с арсенпдом галлия чаще всего используется золото, так как оно легко распыляется, дает контакт с наибольшой высотой барьера и коэффици­ ент пропускания его слабо зависит от длины волны излу­ чения в той областп спектра, в которой обычно исполь-

0

зуются фотоэлементы из арсеппда галлия (4000—9000 А) [57, 58]. Для этой же цели иногда используются и другие металлы: серебро, медь, алюминий, платина [59,60]. Для предотвращения образования промежуточных слоев часто металл напыляют на поверхность арсенпда галлия, сколотую в высоком вакууме ( Ю - 9 мм рт. ст.). Однако почти идеальный барьер Шоттки получается и напыле­ нием на химически травлеиую поверхность [61].

Электрохимическое осаждение металлов основано па явлении электролиза растворов. Техника электрохимиче­ ского осажденпя металлов приводится в ряде монографий

[М46, М47]. В

случае арсенида галлия для

получения

выпрямляющих

контактов чаще всего

осаждались золото

и никель [62].

 

 

 

Химическое

осаждение — наиболее

простой

метод, не

требует специального оборудования и токоподводов к по­ лупроводнику и позволяет получить структуры, близкие к идеальным. Для осажденпя металла пластина арсенида галлия погружается в нагретый до определенной темпе­ ратуры раствор на заданное время [63]. Составы раствора указаны в табл. 7.1.

Для уменьшения поверхностных утечек, увеличения напряжения пробоя и получения идеальных структур часто вокруг барьера Шоттки изготавливают охранные

Т а б л и ц а 7.1

О с а ж д а е м ы й

металл

Золото

Никель

Серебро

Индий

Олово

Цинк

С о с т а в растворов для

Т е м п е р а ­

К о н т а к т н ы й ме ­

 

 

т у р а о с а ­

 

Л и т е ­

осаждения металлов

ждения,

талл или к а т а ­

П р и м е ч а н и е

р а т у р а

 

°С

лизатор

 

 

Золотохлористоводородная Комнат­ кислота (2 г/л), Плавиковая ная кислота (250 мл/л)

Хлористый никель (30 г/л), Натрий гипофосфит (10 г/л), 90—100 Лимонная кислота (65 г/л), Хлористый аммоний (50 г/л).

Азотнокислое серебро (4 г/л),

Нашатырный спирт (75 г/л). 30—50

Пиросульфат натрия (100 г/л)

Сернокислый пидий (60 г/л), 100 Едкий натр (3 г/л)

Хлористое олово (30 г/л),

 

•Едкий натр (60 г/л)

90 •

Сернокислый цинк (10 г/л),

90-100

Едкий натр (15 г/л)

При осаждении переме­ шивать

8-10*) Алюминий **) При осаждении на слой олова или цинка алюми­ ний не нужен

При осаждении пере­

 

мешивать

Алюминий **)

Очень хорошо осажда­

 

ется на предварительно

 

осажденный тонкий слой

Алюминий **)

серебра

 

[67]

[67]

[63]

[66]

[63,64]

[63]

*) Д о б а в и т ь в р а с т в о р н а ш а т ы р н ы й

с п и р т д о п е р е х о д а о к р а с к и и з з е л е н о й в с и н ю ю .

**) О б е р н у т ь (не п л о т н о ) а р с е н и д г а л

л и я а л ю м и и и е н о й ф о л ь г о й .

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ