книги из ГПНТБ / Арсенид галлия. Получение, свойства и применение
.pdf320 |
|
|
|
|
К О Н Т А К Т |
Л Р С Е Н И Д Г А Л Л И Я - |
М Е Т А Л Л |
|
|
|
[ГЛ. 7 |
|||||||||||
|
Из приведенного соотношении можно сделать следую |
|||||||||||||||||||||
щие |
выводы: |
|
|
|
|
|
|
|
|
\U\ ^> кТ |
|
|
|
|
|
|||||||
|
1. |
При |
|
обратных |
напряжениях |
|
плотность |
|||||||||||||||
тока равна /s |
п п |
е |
зависит от напряжения. |
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||||
|
2. |
Если |
построить |
зависимость |
In (/s/?i a )=/ (,'UT), |
|
по |
|||||||||||||||
лучим прямую линию с наклоном (eUD~\~'^)/k, |
отсекающую |
|||||||||||||||||||||
на оси ординат отрезок, равный 1п/1. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||||||
|
3. |
Вблизи |
U=0 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
Таким |
образом,1н |
|
- ^ - j = / ^ - ^ - j — п р я м а я |
линия |
с |
|||||||||||||||||
наклоном (\i-\-Uj)) /к |
= |
\\>в/к, отсекающая |
на оси |
орди |
||||||||||||||||||
нат |
отрезок, |
равный |
In (еЛ/к). |
Эти |
соотношения |
позво |
||||||||||||||||
ляют определить диффузионный потенциал |
Up и постоян |
|||||||||||||||||||||
ную |
Ричардсона |
А, |
еслп |
известно |
положение |
уровня |
||||||||||||||||
Фермп |
вдалп |
от |
барьера |
и.. Однако |
это |
справедливо, |
||||||||||||||||
только |
если |
трв не зависит от |
температуры, что |
выпол |
||||||||||||||||||
няется, |
когда \рв |
определяется |
разностью |
работ |
выхода, |
|||||||||||||||||
но может не выполняться при определяющей роли |
поверх |
|||||||||||||||||||||
ностных С О С Т О Я Н И Й . |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||||||
|
4. |
Прп прочих равных условиях / s |
пропорционально |
п. |
||||||||||||||||||
т. |
5. |
При прямых напряжениях U^>kT/e, |
|
j—jsex])(eU/kT), |
||||||||||||||||||
е. |
In |
j=f{U) |
|
— прямая |
линия |
с |
наклоном |
|
|
е/кТ, |
||||||||||||
отсекающая |
на |
оси |
токов |
отрезок, |
равный In |
/ s . |
Нак |
|||||||||||||||
лон прямой одинаков для всех барьеров. |
|
|
|
|
|
|
|
|||||||||||||||
|
Отклонения |
|
от |
теории |
Шоттки |
— Бете. |
|
П о и и- |
||||||||||||||
ж е н н е б а р ь е р а |
с и л а м и з е р к а л ь н о г о |
|
|
о т р а |
||||||||||||||||||
ж е н и я |
и в н е ш п и м |
э л е к т р и ч е с к и м |
|
п о л е й ! |
||||||||||||||||||
•[24, 38]. |
Под |
действием |
сил |
зеркальпого |
|
отраже |
||||||||||||||||
ния |
и |
внешнего |
электрического |
поля |
барьер |
|
у |
гра |
||||||||||||||
ницы |
с |
металлом |
понижается. Максимум |
барьера |
нахо- |
|||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
/ |
е |
у / 2 |
|
|
|
|
|
|
|
|
||
дится на расстоянии хт |
= |
^ |
^ |
|
|
от |
реальной |
по |
||||||||||||||
верхности |
|
металла, |
а |
понижение |
|
барьера |
[38] |
равно: |
||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
8л3е?,е |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
где |
Е |
— электрическое |
поле в |
плоскости |
ж т , |
ец |
— ди- |
|||||||||||||||
7.1] |
О Б Щ И Е З А К О Н О М Е Р Н О С Т И |
321 |
электрическая проницаемость сил зеркального |
отражения, |
|
Которую следует считать равной высокочастотной опти ческой диэлектрической проницаемости (так как элект
роны преодолевают расстояние хт за время, |
сравнимое |
с периодом колебаний электромагнитного |
излучения), |
но которая экспериментально у разных авторов получа
ется в широких |
пределах |
от 1 |
до статической |
величи |
|||
ны [39]. |
|
|
|
|
|
|
|
Зависимость |
плотности |
тока |
от иапряжеппя |
с учетом |
|||
понижения |
барьера Лг];в |
принимает |
вид |
|
|||
|
j = |
; s exp I |
|
1 Г |
eU |
|
(7.2) |
|
kT |
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
||
Ее можно представить прп U^kTle |
подобно |
формуле |
|||||
(7.1) [38], а |
именно: |
|
|
|
|
|
|
|
|
7 = |
|
|
eU |
|
|
Тогда |
|
/ S e x P p W |
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
т - 1 |
|
|
|
4 |
UT |
U — кТ |
> 1. |
|
|
|
|
|
|
||||
Таким образом, понижение барьера уменьшает наклон прямой ветви вольтамперной характеристики. Из-за этого понижеппя барьера отсутствует насыщение обратного тока. ' '• Б о л ь ш и е п р я м ы е с м е щ е н и я [М43,40]. При боль ших прямых смещениях выражения для тока, полученные
как по диодной, так и по диффузионной теории |
неверны, |
так как барьер уже недостаточно толст и высок, |
т. е. не |
выполняются исходные предположения теорий. Когда падение напряжения на барьере уменьшается настолько, что становится сравнимым с падением напряжения на последовательном сопротивлении, характеристика изги
бается |
книзу. |
Однако в этой области возможен заметный |
||
нагрев |
контакта, что приводит к изгибу |
вверх. Какой |
||
эффект |
преобладает, зависит |
от параметров контакта. |
||
Б о л ь ш и е |
о б р а т н ы е |
с м е щ е н и я . |
При больших |
|
обратных смещениях начинается лавинное умножение носи телей тока в области прострапствеииого заряда, и ток резко возрастает. Когда падеине напряжения на слое объемного заряда становится меньше падения напряжения на после довательном сопротивлении, характеристика ток — напря-
21 А р с е н и д галлия
322 К О Н Т А К Т А Р С Б Н Н Д Г А Л Л И Я - М Е Т А Л Л [ГЛ. 7
женив стаповится линейной с наклопом, обратно пропор циональным последовательному сопротивлению, до тех пор, пока не пачиется нагрев диода.
Н е о д н о р о д н а я п о в е р х н о с т ь п о д к о н т а к том. Неоднородность поверхности приводит к тому, что высота барьера пеодинакова по площади коптакта. Бете показал, что в этом случае характеристика ток — напря жение может не иметь экспоненциальных участков пли
иметь несколько участков с В > |
1. |
|
|
|
|
|
|||||
П р о м е ж у т о ч н ы й |
с л о й |
о к и с л а . Реальная поверх |
|||||||||
ность полупроводника |
обычно покрыта слоем |
окисла тол- |
|||||||||
|
|
|
|
о |
|
|
|
|
|
|
|
щиной порядка 10—50 А. При наличии достаточно |
толсто |
||||||||||
го слоя |
окисла |
между |
металлом |
и |
полупроводником за |
||||||
висимость прямого тока от напряжения |
прп |
U |
^>кТ1е |
||||||||
может |
быть |
представлепа [41, |
42] в |
форме |
|
|
|
||||
|
|
|
|
|
eU |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
/ |
= 7s ехр р - ^ , , |
|
|
|
|
(7.3) |
||
где |
d |
t |
|
|
|
d |
( |
|
|
|
|
|
2лле |
У'2 . |
, |
2лле |
|
\ 1 2 |
|||||
|
|
|
|
|
|
|
" п |
|
1" |
- |
|
|
|
|
|
|
|
|
П |
е |
|
ts |
(7.4) |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
/я = 7* |
envD{U) |
схр ( - ^ ) ; |
5(С7)-средппйкоэффициент |
||||||||
прозрачности |
слоя окисла, |
&, — его |
диэлектрическая |
||||||||
проницаемость, |
d — толщина. |
Из |
формулы |
(7.4) |
видпо, |
||||||
что 1) В2 увеличивается с увеличением d и п; 2) р., увелпчпвается с увеличением тока через диод, что может быть
ошибочно принято за проявление последовательного |
соп |
||||
ротивления; |
3) показатель экспоненты |
в |
формуле |
(7.3) |
|
изменяется |
с температурой не как ЦТ, |
а |
более сложно |
||
(между |
1/Т |
nl/УТ). |
|
|
|
К о н ц е н т р а ц и я э л е к т р и ч е с к о г о п о л я п а |
|||||
к"р а я х |
м е т а л л и ч е с к о г о к о ч т а к т а . |
Концентрация |
|||
электрического поля у краев контакта приводит к появлению токов утечки при обратном смещении и снижению общего напряжения пробоя контакта [43].
П р и м е с и с г л у'б о к и м и у р о в п"я м и. Такие приме си являются^центрами рекомбинации и, так же как в р—п
7.IJ |
|
|
|
|
О Б Щ И Е З А К О Н О М Е Р Н О С Т И |
|
|
|
|
|
323 |
||||
иереходах по теории Шокли—Нонса—Саа, |
могут приводить |
||||||||||||||
к существенной |
рекомбинации в слое объемного заряда и |
||||||||||||||
увеличению р |
до |
двух [44]. Кроме того, |
экспериментально |
||||||||||||
наблюдались нереходиые явления в токе |
|
|
|
|
|
|
|||||||||
[45], при которых ток в обратном |
нап |
|
|
|
|
|
|
||||||||
равлении увеличивался при постоянном |
|
|
|
|
|
|
|||||||||
напряжении на барьере, стремясь со |
|
|
|
|
|
|
|||||||||
времеием it стационарной величине. Ха |
|
|
|
|
|
|
|||||||||
рактеристика |
логарифм тока — напря |
|
|
|
|
|
|
||||||||
жение |
оказывалась |
нелинейной, |
как |
|
|
|
|
|
|
||||||
шжазаио па рис. 7.2. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
В работе [21] учтен еще ряд факто |
|
|
|
|
|
|
|||||||||
ров, влияющих |
на зависимость тока от |
Рис. |
7.2. |
|
Харак |
||||||||||
напряжения. |
В |
|
результате |
получено |
|
||||||||||
выражение для |
тока, |
которое |
отлича |
теристика |
ток— |
||||||||||
напряжение барь |
|||||||||||||||
ется |
от |
(7.1) |
значением |
постоянной |
ера |
Шоттки |
с |
||||||||
Ричардсона |
|
|
|
|
|
|
|
глубокими |
при |
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
1 |
|
месями. |
|
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
— характеристика |
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
и |
момент |
времена |
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
(=0; |
г — установив |
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
шаяся |
характери |
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
стика. |
|
||
где / р |
учитывает |
рассеяиие |
носителей |
тока |
фононамп, |
||||||||||
/Q— квантовомехапическое |
отражение носителей |
тока |
от |
||||||||||||
барьера, |
a VR к |
VQ — эффективные скорости |
рекомбина |
||||||||||||
ции у |
вершины |
барьера и |
диффузии. Величины |
fp |
и |
/Q |
|||||||||
зависят от электрического поля и температуры и изме няются для арсенида галлия в пределах от 0,5 до 1 [21].
Таким образом, понижение барьера силами зеркаль ного изображения и внешним электрическим полем,- нали чие промежуточного слоя и глубоких примесей, неодно родность поверхности могут привести к тому, что зависи
мость тока от напряжения, оставаясь |
экспоненциальной, |
||
будет иметь меньший, |
чем по |
теории |
Шоттки, наклон |
(Р J> 1), Характеристика |
может |
быть иеэкспоненциальной |
|
из-за неоднородности поверхности и наличия глубоких примесей. Глубокие примесн вызывают переходные про цессы с большой постоянной времени.
Современная теория прохождения тока в контакте металл—полупроводник дана в работе [25].
7.1.3. Характеристика емкость — напряжение. Обычно измеряется динамическая емкость C—dQ/dU. При больших
21*
324 |
К О Н Т А К Т А Р С Е Н Н Д Г А Л Л И Я - М Е Т А Л Л |
[ГЛ. 7 |
прямых смещениях, наряду с зарядовой емкостью, может проявляться диффузионная Со — (/в+Лт.'где т—время
жпзни неосновных носителей тока в полупроводнике. Диффузионная емкость связана с инжекцией носителей тока в полупроводник пз металла. При обычных токах она не проявляется, так как инжекцпя в барьерах Шоттки мала. В арсеииде галлия, кроме того, мало время жизни.
Теория Шоттки—Бете. По теории Шоттки—Бете зарядовая емкость равна C—zSlinw (w — ширина слоя объемного заряда) и зависит от напряжения по закону
|
£ |
= 5 ^ |
- ^ - |
(7-5) |
Таким образом, S'2JC'2=f(U) |
представляет собой |
прямую |
||
линию с |
наклоном |
Sn/e&Na, отсекающую на оси напря |
||
жений отрезок, равный JJD. |
Однако в дальнейшем было |
|||
показано, |
что, хотя |
наклон |
характеристики |
реальных |
контактов соответствует в большинство случаев (7.5), напряжение отсечки может сильно отличаться от Uz>.
Отклонения |
от теории Шоттки—Бете. |
В л и я н и е |
с в о б о д н ы х |
н о с и т е л е й т о к а . |
Учет свобод |
ных носителей тока [30, 46] приводит к поправке в выра жении (7.5)
Выражение вида (7.6) Вагнер [47] получил еще до созда
ния теории Шоттки. В работе [48] путем точного |
вычисле |
|||||
ния емкости |
без |
обычных приближений |
показано, |
что |
||
в случае сильно |
асимметричного р—?г-переходп |
напря |
||||
жение отсечки |
может |
быть значительно |
меньше |
Uд. |
||
В применении к барьерам Шоттки сильно |
асимметричным |
|||||
переходом |
считается |
контакт с полупроводником, |
||||
имеющим малую концентрацию свободных носителей тока (до 10" см-3).
П р о м е ж у т о ч н ы й с л о й . При достаточно толстом промежуточном слое напряжение отсечки может
значительно |
превосходить диффузионный |
потенциал |
|
[46, 49]. При этом, если заряд иа поверхностных |
состояни |
||
ях не зависит |
от |
напряжения, наклон характеристики |
|
соответствует |
(7.5), |
в противном случае — отличается. |
|
О Б Щ И Е З А К О Н О М Е Р Н О С Т И |
325 |
П р и м е с и с г л у б о к и м и у р о в н я м и . . |
Если |
концентрация глубоких примесей в полупроводнике срав нима с концентрацией мелких, в барьерах Шоттки при изменении смещения или освещении наблюдаются пере ходные явления, которые могут длиться в течение не скольких дней [46]. Зависимость емкости от постоянного смещения при наличии глубоких примесей впервые теоре тически получена Гудменом [46[. В работе [12] теория Гудмена развита дальше, и получена зависимость, связы вающая емкость с постоянным напряжением смещения и временем (при условии достаточно высокой частоты из мерительного сигнала, чтобы глубокие центры ие успевали перезаряжаться):
Ш |
1 |
|
eb\ND-NA+N% |
1 - e x p f — i - |
|
|
|
8 л |
|
|
|
|
|
|
|
- |
к (t) NGT |
e x p ( - - |
C |
' (7.7) |
|
|
|
|
|
8 |
|
где NA И Nn |
— концентрация соответственно |
акцепторов |
||||
и доноров |
в |
объеме |
полупроводника; iVy — равновесная |
|||
концентрация ионизованных глубоких примесей в области
объемного заряда; х={еп—ер)-1; |
еп и ер — соответственно |
|||||
скорости эмиссии электронов и дырок с глубоких |
приме |
|||||
сей; t — время; %(t) — толщина |
слоя между краем объем |
|||||
ного заряда и плоскостью, на которой уровень |
Ферми |
|||||
пересекает уровень |
глубоких |
примесей. |
Из |
формулы |
||
(7.6) видно, что в первый момент (t=0) |
S2lC2=f{U) |
— |
||||
прямая линия |
с наклоном, соответствующим теории Шот- |
|||||
тки —Цггт—- = |
—ттт |
кгт- -В стационарном |
же |
состо- |
||
яини при £-»• оо характеристика емкость—напряжение представляет собой кривую с выпуклостью вверх. Мето дика, развитая в работе [13], позволяет определять энер гию ионизации, концентрацию и сечение захвата одного или нескольких глубоких нримесей, если их энергии иони зации достаточно сильно различаются. Другая методика определения энергетических уровней нескольких одно временно присутствующих примесей предложена в ра боте [50]. При наличии глубоких примесей емкость уменьшается с увеличением частоты измерительного сиг нала и с понижением температуры. В работах [51—53] ис следована зависимость емкости от напряжения, частоты
326 К О Н Т А К Т А Р С Е Н И Д Г А Л Л И Я - М Е Т А Л Л [ГЛ. 7
и температуры для^резких асимметричных р—/г-переходов. Примененный в этих работах анализ пригоден и для
барьеров Шоттки. |
|
|
|
|
|
|
|
. . И з м е н е н и е |
э ф ф е к т и в н о й |
п л о щ а д и |
|||||
к о н т а к т а |
с |
н а п р я ж е н и е м 146]. |
Если по |
||||
верхность полупроводника под |
контактом имеет неров |
||||||
|
|
ности, то с увеличепием об |
|||||
|
|
ратного |
напряжения |
эффек |
|||
|
|
тивная |
. площадь |
контакта |
|||
|
|
уменьшается, |
как |
показано |
|||
|
|
на |
рис .7.3. При этом |
£ 2 / С 2 = |
|||
|
|
=/ |
(U)—кривая |
с |
выпукло |
||
|
|
стью вниз. |
|
|
|
||
Рпс. 7.3. Изменение эффектив ной площади барьера в кон такте металл—Полупроводник
в случае, когда поверхность полупроводника имеет не ровности.
Н е |
п о л н о с т ь ю |
|
и о н и з о в а н н ы е |
м е л |
|
к и е |
д о н о р ы . Для этого |
|
случая |
зависимость |
емкости |
от напряжения была |
получе |
|
на в работе [54]. Она доволь но сложна.
1 — м е т а л л ; г — п о л у п р о в о д н и к ; |
Б о л ь ш и е |
п р я м ы е |
|||||
3 — г р а н и ц а с л о я о б ъ е м н о г о з а р я д а |
|||||||
п р и п р я м ы х |
и м а л ы х |
о б р а т н ы х |
|
на |
с м е щ е н и я . |
По |
теории |
п р я ж е н и я х ; |
4 — г р а н и ц а |
с л о я |
Шоттки при больших пря |
||||
о б ъ е м н о г о |
з а р я д а |
п р и б о л ь ш и х |
|||||
о б р а т н ы х н а п р я ж е н и я х . |
|
|
мых смещениях емкость стре |
||||
|
|
|
|
|
мится к бесконечности. Од |
||
нако при |
точном расчете |
[30] оказывается, |
что |
емкость |
|||
достигает максимума, а затем уменьшается, |
стремясь к |
||||||
геометрической |
емкости |
С г е о ы = е . 5 / 4 л ^ где |
I — расстоя |
||||
ние между электродами. |
|
|
|
|
|||
Таким образом, точное вычисление дифференциальной емкости барьера Шоттки показывает, что напряжение отсечки меньше диффузионного потенциала; величина с!азличия зависит от концентрации носителей тока в полу проводнике. Наличие промежуточного слоя, напротив, приводит к тому, что напряжение отсечки может быть зна чительно больше диффузионного потенциала. Зависимость SilLz=f (U) может быть ие прямолинейной из-за: 1) про межуточного слоя, заряд на котором зависит от напря жения; 2) глубоких примесей в объеме полупроводника или в области контакта; 3) неровной поверхности контакта, в результате чего эффективная площадь контакта зависит от напряжения.
7.1 J |
О Б Щ И Е З А К О Н О М Е Р Н О С Т И |
327 |
7.1.4. |
Фотоэлектрические свойства. Если на |
барьер |
Шоттки падает излучение из области собственного погло щения полупроводника, происходят те же явления, что •ар—n-переходе: генерируемые светом электронно-дырочные
пары |
разделяются |
полем барьера, и создается фото-э. д. с , |
а при |
включении |
на внешнюю нагрузку течет фототок. |
В работе [55] получено выражение для фототока. Это выра жение для монохроматического света с учетом изменения коэффициента поглощения в слое объемного заряда [56] имеет вид
где N — поток |
фотонов, |
входящий |
в |
полупроводник; |
(5 — квантовый |
выход внутреннего |
фотоэффекта; w — |
||
ширина слоя |
объемного |
заряда; |
К{х) |
— коэффициент |
поглощения света в слое объемного заряда, зависящий от электрического поля через коордпнату х (расстояние от поверхности); К0 — коэффициент поглощения света в об ласти полупроводника без поля; L — диффузионная длина неосновных носителей тока. Если барьер Шоттки облу чается фотонами с энергией из области примесного погло щения, фоточувствительность вызывается двумя причи на™: 1) возбуждением носителей тока с глубоких уров ней (если они есть) и 2) фотоэмиссией электронов из ме талла (подобно фотоэмиссии в вакуум), в случае которой
выполняется |
закон |
Фаулера Ill$-^(hv—я];в), |
справедли |
вый для hv > |
я|)в |
при условии, что толщина |
металличе |
ского слоя, через который освещается барьер, значительно меньше расстояния, на котором энергия возбужденных излучением электронов уменьшается в е раз. Здесь 7ф — фототок, отнесенный к числу падающих фотонов. Таким
обиазом, |
в области примесного |
поглощения функция |
||
/ф7 2 |
= / (hv) |
должна |
быть прямой линией, отсекающей на |
|
оси |
hv величину, |
равную высоте |
барьера 1])в=еС/в+(д., |
|
если в полупроводнике или в области контакта нет глу боких примесей. Глубокие примеси приводят к избыточной фоточувствительностп.
328 |
К О Н Т А К Т А Р С В Н Н Д Г А Л Л И Я - М Е Т А Л Л |
[ГЛ. 7 |
7.2.Методика создания контактов арсенид галлпя — металл
7.2.1.Методика создания выпрямляющих контактов. Выпрямляющие контакты арсенид галлпя—металл со здаются нанесением металла на очищенную поверхность арсенпда галлия. Для этого используются методы:
вакуумного напыления, электрохимического осаждения и химического осаждения.
Вакуумное напыленпо позволяет получить топкий слой металла практически любой формы и площади иа поверх ности полупроводпика. Техника вакуумного напыления рассматривалась в ряде монографий (см., например, [М45]). Для создания контакта с арсенпдом галлия чаще всего используется золото, так как оно легко распыляется, дает контакт с наибольшой высотой барьера и коэффици ент пропускания его слабо зависит от длины волны излу чения в той областп спектра, в которой обычно исполь-
0
зуются фотоэлементы из арсеппда галлия (4000—9000 А) [57, 58]. Для этой же цели иногда используются и другие металлы: серебро, медь, алюминий, платина [59,60]. Для предотвращения образования промежуточных слоев часто металл напыляют на поверхность арсенпда галлия, сколотую в высоком вакууме ( Ю - 9 мм рт. ст.). Однако почти идеальный барьер Шоттки получается и напыле нием на химически травлеиую поверхность [61].
Электрохимическое осаждение металлов основано па явлении электролиза растворов. Техника электрохимиче ского осажденпя металлов приводится в ряде монографий
[М46, М47]. В |
случае арсенида галлия для |
получения |
|
выпрямляющих |
контактов чаще всего |
осаждались золото |
|
и никель [62]. |
|
|
|
Химическое |
осаждение — наиболее |
простой |
метод, не |
требует специального оборудования и токоподводов к по лупроводнику и позволяет получить структуры, близкие к идеальным. Для осажденпя металла пластина арсенида галлия погружается в нагретый до определенной темпе ратуры раствор на заданное время [63]. Составы раствора указаны в табл. 7.1.
Для уменьшения поверхностных утечек, увеличения напряжения пробоя и получения идеальных структур часто вокруг барьера Шоттки изготавливают охранные
Т а б л и ц а 7.1
О с а ж д а е м ы й
металл
Золото
Никель
Серебро
Индий
Олово
Цинк
С о с т а в растворов для |
Т е м п е р а |
К о н т а к т н ы й ме |
|
|
т у р а о с а |
|
Л и т е |
||
осаждения металлов |
ждения, |
талл или к а т а |
П р и м е ч а н и е |
р а т у р а |
|
°С |
лизатор |
|
|
Золотохлористоводородная Комнат кислота (2 г/л), Плавиковая ная кислота (250 мл/л)
Хлористый никель (30 г/л), Натрий гипофосфит (10 г/л), 90—100 Лимонная кислота (65 г/л), Хлористый аммоний (50 г/л).
Азотнокислое серебро (4 г/л),
Нашатырный спирт (75 г/л). 30—50
Пиросульфат натрия (100 г/л)
Сернокислый пидий (60 г/л), 100 Едкий натр (3 г/л)
Хлористое олово (30 г/л), |
|
•Едкий натр (60 г/л) |
90 • |
Сернокислый цинк (10 г/л), |
90-100 |
Едкий натр (15 г/л) |
При осаждении переме шивать
8-10*) Алюминий **) При осаждении на слой олова или цинка алюми ний не нужен
—— При осаждении пере
|
мешивать |
Алюминий **) |
Очень хорошо осажда |
|
ется на предварительно |
|
осажденный тонкий слой |
Алюминий **) |
серебра |
|
|
— |
— |
[67]
[67]
[63]
[66]
[63,64]
[63]
*) Д о б а в и т ь в р а с т в о р н а ш а т ы р н ы й |
с п и р т д о п е р е х о д а о к р а с к и и з з е л е н о й в с и н ю ю . |
**) О б е р н у т ь (не п л о т н о ) а р с е н и д г а л |
л и я а л ю м и и и е н о й ф о л ь г о й . |
