Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Мотт, Н. Электронные процессы в некристаллических веществах

.pdf
Скачиваний:
102
Добавлен:
22.10.2023
Размер:
18.34 Mб
Скачать

6

z,ie

2,z«

г,зг

2,40

1111

 

 

 

 

F,B-cm'

Ф и г . 9.8. a — спектральная зависимость оптической прозрачности^! изме­ нения ее под действием электрического поля в аморфном A s 2 S 3 .

б — сдвиг края оптического поглощения как функция электрическогополя [291].

0,8

1,0 /,г 1,4 1,6 1,8

г,о z,2 г,к г,б

 

Ьш, эВ

 

Ф и г . 9.9. Спектральная

зависимость фотопроводимости аморфного A s p S ,

 

[291].

 

1 — без подсветки; 2 — с подсветкой.

 

Xалъкогенидные

стекла

351

где Г — наклон

экспоненциального

края поглощения. Коломиец

и др. сообщают,

что AE/F2 ие зависит от длины волны, как

это

и следует ожидать из теории, и вычисляют отношение приведен­ ной эффективной массы к массе свободного электрона (т*1т = = 7,5 ± 0,5).

Коломиец и др. измерили также спектральное распределение фотопроводимости на постоянном токе в аморфных пленках As 2 S 3 .

 

 

 

Е,

эЗ

 

 

 

 

1,55

1,гч

1,оз

0,88

0,77

 

 

1

I

 

! '

1

 

80

Кристсити-1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ческий

1

 

 

 

5"

 

A s 2 S 3

/

 

 

 

50

 

 

 

 

 

а-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

I

 

 

 

 

 

 

а

 

 

 

 

 

 

 

чО

/

/ Аморфный

\

 

 

 

 

аго

ass

S

 

f ' i i

i

i

i

i i

i

i i

 

0,8

1,0

 

иг

1,ч

 

1,6

 

 

 

А., мкм

 

 

 

Ф И Г . 9.10.

Спектральное

распределение

рекоыбинационного излучения

в

кристаллическом

и аморфном

A s 2 S 3

при

77 К [291].

Их результаты показаны на фиг. 9.9. Максимум фоточувствитель­ ности при комнатной температуре лежит в области 2,40—2,45 эВ, что хорошо согласуется со значением Ео = 2,4 эВ, полученным экстраполяцией зависимости (Й(ое2 )1 / 2 от йю. Дополнительный максимум вблизи 1,2 эВ довольно хорошо совпадает с энергией, при которой Коломиец и др. наблюдали рекомбинационное излу­ чение (см. ниже).

На фиг. 9.10 показано спектральное распределение рекомбинационного излучения в кристаллическом и стеклообразном As 2 S 3 : при 77 К, полученное Коломийцем, Мамонтовой и Бабаевым [287]. Возбуждение излучения осуществлялось коротковолновым светом, модулированным с частотой 40 Гц. Максимум излучения в стекле находится при 1,13 эВ, в то время как в кристалле — при 1,265 эВ полуширины полос ( ~ 0 , 4 5 эВ) близки, но интенсивность излуче­ ния в стекле примерно в 80 раз меныпедчем в кристалле. Излучение с энергией, соответствующей переходу из зоны проводимости

352

Глава 9

в валентную зону, не наблюдалось. Эти и другие аналогичные экспе­ рименты Коломийца Дэвис и Мотт [122] использовали как доказа­ тельство существования в некоторых аморфных полупроводниках

35 г

30

25

го

15

 

е

s

10

12

 

 

 

 

 

 

Ьи>,

эБ

 

 

 

50

 

 

 

 

 

 

40

Ь

 

 

 

 

 

30

 

 

 

 

 

 

го

 

 

 

 

 

 

 

 

 

_|

L

 

 

 

 

Б

В

10

12

14

 

 

Ьш,

эБ

 

 

 

Ф и г . 9.11. Спектр отражения

A s 2 S 3

при комнатной температуре [904].

 

а — аморфный A S j S 5 ;

б — кристаллический

A s , S 3 .

 

высокой плотности локальных состояний вблизи середины запре­

щенной

зоны по

подвижности.

За краем основного оптического поглощения в области более

высоких

энергий

структура спектра в стеклообразном A s 2 S 3

выражена значительно слабее, чем в случае кристаллического As 2 S 3 . На фиг. 9.11 сравниваются спектры отражения стеклообразного

Халъкогепидпые стекла.

353

и кристаллического As 2 S 3 , измеренные до 14 эВ

[904] г ) . Общая

форма кривых при переходе от кристалла к стеклу сохраняется, но первая группа пиков, расположенная в области 2—6 эВ, заметно смещается в сторону меньших энергий. Это верно и в том случае, если для кристалла взять усредненную кривую для двух рассматриваемых направлений поляризации излучения. (Отме­ тим, что данные для % || Ъ получить не удалось, так как трудно приготовить образцы требуемой ориентации.) Особый интерес

Ер = Z,3

Ф и г. 9.12. Предполагаемая энергетическая зависимость плотности состоя­

нии для аморфного A s 2 S 3 .

а — нелегнрованный As 2 S 3 ; б As.S3 , легированный серебром.

представляет глубокий минимум отражения вблизи 8 эВ; воз­ можно, что электронные переходы, ответственные за структуру, лежащую выше этой энергии, связаны с более глубоко лежащим максимумом плотности состояний в валентной зоне. Подобие этих минимумов в стеклообразном и кристаллическом A s 2 S 3 дает возможность предполагать, что плотность состояний в валентной зоне при переходе из кристаллического в стеклообразное состоя­ ние существенно не изменяется. Аналогичным образом ведет себя A s 2 S 3 (см. 9.4).

Электрические

свойства аморфного A s 2 S 3

были

исследованы

в работах

[22, 149, 396, 514]. В соответствии

с данными Эдмонда,

удельное

сопротивление A s 2 S 3 при 130° С имеет значение 2,0 X

X 10 1 2

Ом-см,

а наклон прямой, описывающей зависимость In а

от i/T,

равен 1,045

эВ. Если температурный коэффициент измене-

х ) Данные о

спектре отражения в кристаллическом и стеклообразном

A s 2 S 3 содержатся

также в работах Аидриеша, Соболева и

Лермана [849],

Соболева, Донецких и Хворостенко [997], Велле,

Коломипца и Павлова

[864]. —

Прим.

персе.

 

 

2 3 — 0 1 1 4 2

354 Глава 9

ния ширины запрещенной зоны 8 принять равным 7 - Ю - ' 1 эВ - К"^ (из оптических данных, рассмотренных выше), то значение энергии активации проводимости при комнатной температуре будет равно 1,045—V2 В X 300 = 0,94 эВ (см. 7.4.2).

Используя данные, содержащиеся в приведенных выше графи­ ках, предположительную картину энергетического спектра элек­ тронов в аморфном A s 2 S 3 можно представить в виде схемы, изо­ браженной на фиг. 9.12, а. В связи с тем, что термо-э.д.с. в халькогенидных стеклах обычно соответствует р-типу проводимости, мы предполагаем, что уровень Ферми располагается блгоке к ва­ лентной зоне, и принимаем для EF — Ev величину порядка 1 эВ. Спектр, изображенный на этой схеме, выбирался так, чтобы оп соответствовал приблизительно значению энергии активации, по­ лученному нз данных по проводимости (0,94 эВ) и значению энер­

гии

максимума

рекомбинацпоиного

излучения,

приведенному

к

комнатной

температуре (1,05 эВ). Таким образом,

величина

2

(EF

— E Y )

для

этого материала

значительно

меньше

оптиче­

ской н фотоэлектрической ширины запрещенной .зоны, равной 2,3—2,4 эВ. Пик фотопроводимости, наблюдавшийся Коломийцем и др. вблизи 1,2 эВ, по-видимому, обусловлен возбуждением дырок плн электронов с примесных уровней, лежащих вблизи EF, на уровни Еу или Ес соответственно.

Значения С (или ст0) для аморфного A s 2 S 3 очень низки (см. фиг. 7.8). По-видимому, это обусловлено тем, что у края валент­ ной зоны имеется широкий интервал энергий (возможно, около 0,4 эВ), занятый локализованными состояниями, в результате чего ток прн комнатной температуре в основном переносится дырками по этим состояниям. Еще одно доказательство этого предположения вытекает из того, что в опытах по дрейфу, выпол­ ненных Ингом и Нейхартом и описанных ниже, не удалось раз­ решить времена переноса, а также из результатов исследования свойств A s 2 S 3 при сплавлении его с серебром и другими примесями. Влияние серебра на электрические свойства аморфного A s 2 S 3 ока­ зывается очень сильным. Хотя различные авторы [23, 149, 396] при­ водят довольно противоречивые оценки величины эффекта, все они находят, что при увеличении содержания A g проводимость возра­ стает на несколько порядков. Одновременно на несколько десятых электронвольта уменьшается энергия активации проводимости Е. Оптическая ширина запрещенной зоны Е0 также уменьшается, но в значительно меньшей степени. Добавление 1 % Ag, по данным Эдмонда, приводит к уменьшению Е на 0,24 эВ, а Е0 — на 0,04 эВ.

Гетов и др. [196] и Андрейчин [21] сообщают об

уменьшении Е0

на 0,1 эВ. Значение же G при введении Ag в A s 2 S 3

увеличивается.

Мы думаем, что схема энергетического спектра, приведенная на фиг. 9.12, б, объясняет ситуацию, наблюдаемую в 'As 2 S 3 Ag 0 , 0 5 - Предположим, что при введении A g уровень Ферми не сдвигается

Халъкогеиидиые стекла

355

по отношению к вершине валентной зоны, но область энергий, занятая локализованными состояниями, уменьшается 1 ) . Это при­ водит к уменьшению энергии активации проводимости EF — Ev и к увеличению плотности нелокализованных состояний при энер­ гиях ниже Ev (о чем свидетельствует увеличение С). Следователь­ но, мы предполагаем, что повышенная проводимость возникает не за счет образования примесных уровней, а за счет изменения структуры вещества, вызванного присутствием серебра, которое приводит к уменьшению беспорядка. Заметим, что на фиг. 9.12, б в качестве оптической ширины запрещенной зоны выбрана вели­

чина

Ее — Ев, а не £ А Ev, так как первая разность меньше,

чем

вторая.

О влиянии других примесей на проводимость и край оптичес­ кого поглощения A s 2 S 3 сообщалось Гетовым и др. [196] и Андрейчиным и др. [21, 23]. Золото и олово действуют так же, как серебро. Медь и свинец при концентрации 0,6% приводят к смещению края оптического поглощения в сторону меньших энергий примерно на 0,5 эВ.

Интересно отметить, что добавление серебра увеличивает про­ водимость не только аморфного A s 2 S 3 , но и As2 Se3 и в то же вре­ мя уменьшает проводимость As2 Se2 Te (см. 9.6). Однако увеличе­ ние проводимости As2 Se3 при введении тех же концентраций Ag намного меньше того, которое наблюдается в As 2 S 3 . Это не кажет­ ся удивительным: проводимость As2 Se3 при комнатной температуре обусловлена движением носителей заряда по нелокализовэнным состояниям л; 103 —104 О м - 1 ' С м - 1 ) , и поэтому механизм, пред­ ложенный здесь для As 2 S 3 , не реализуется.

Как упоминалось выше, фотопроводимость аморфного As2 Ssпри комнатной температуре имеет максимум вблизи 2,4 эВ [169,.

291]. Более детальное исследование

процессов генерации

и пере­

носа

фотоносителей было выполнено Ингом и Нейхартом 2 ) в се­

рии

экспериментов,

аналогичных

тем,

которые

проводились-

в аморфном селене и описаны в гл. 7 и 10. В этих

экспериментах

носители генерируются в тонком слое вблизи одной

из поверхно­

стей, и при соответствующей полярности напряжения на

электро­

де,

расположенном

на противоположной

поверхности

пленки,

можно наблюдать прохождение через пленку дырок илп элект­ ронов. Эксперименты, в которых не удается разрешать время переноса, но в которых можно измерять общий накопленный за­ ряд в зависимости от длины волны возбуждающего излучения, да-

х ) По-видимому, преждевременно рассуждать о том, каким образом серебро способствует уменьшению области энергпй, но если локализация в некоторой степени обусловлена случайными электрическими полями точеч­ ных дефектов, то ионы серебра могут экранировать эти поля и таким образом уменьшать число локализованных состояний.

2 ) I n g , Neyhart, частное сообщение.

23*

356

Глава 9

гот спектральное распределение квантового выхода свободных но­ сителей. Если время переноса удается разрешить, то для выясне­ ния механизма движения носителей заряда измеряется время переноса как функция напряженности поля и толщины образца. Учитывая важность таких экспериментов, рассмотрим довольно •сложные результаты, полученные Ингом и Нейхартом на A s 2 S 3 .

Измерения проводились на двух экспериментальных установ­ ках. На одной из них (фиг. 9.13, а) наблюдается падение напряжения

ю

Ф и г . 9.13. Экспериментальные установки для исследования процесса переноса.

а

установка для измерения переходной фотопроводимости; б —• установка для измере­

1

 

ния' фоторазрядки (Инг

и Нейхарт, частное сообщение).

электрод;

4

стеклянная подложка со

слоем S n O j ; 2 — слой

As«S; з —. золотой

катодный

повторитель; 5 —

источник

напряжения;

е —

источник света;

7 —. прерыва­

тель;

s

электрический эонд; 9 — зарядный коротрон;

10 — подвижный

столик;

11 —.

 

 

электрометрический

усилитель; 12

—. самописец.

 

 

на сопротивлении R сразу же после подачи на образец крат­ ковременного импульса сильно поглощающегося света. Как описы­ валось в 7.7, в том случае, когда время переноса хорошо разре­ шается, сигнал является линейно нарастающей функцией време­ ни. Ни для дырок, ни для электронов в A s 2 S 3 такого типа сигнал не наблюдался. Напротив, имелся быстрый начальный рост сигна-

Халъкогепидпые стекла

357

ла, который затем замедлялся со временем по

логарифмическому

закону. Такая форма импульса интерпретируется как следствие разброса времен переноса за счет прилипания и освобождения носителей заряда с ловушек, распределенных по энергии. Далее,

было обнаружено, что

скорость спада импульсов напряжения х )

не

зависит

от

толщины образцов,

но

пропорциональна

ехр

(fiF^t/lcT)

и,

таким

образом, находится

в

соответствии с мо­

делью Френкеля — Пула для эмиссии с ловушек в присутствии электрического поля (§ 7.8).

Если взять диэлектрическую постоянную х = 6,4, определен­ ную для объемных образцов, то оказывается, что константа пере­ носа В для дырок точно равна значению, вытекающему из модели Френкеля — Пула (4 е31 к)1/*, а для электронов — в 2 раза меньше.

На фиг. 9.13, б показана вторая установка, использованная Ингом и Нейхартом. На свободную поверхность слоя осаждаются ионы, генерируемые с помощью коронного разряда, и таким образом в слое создается электрическое поле той или другой полярности. После этого слой непрерывно освещается и одно­ временно электростатическим способом регистрируется спад по­ верхностного потенциала. Эта установка позволяет использовать более высокие поля, не достигая пробоя. На фиг. 9.14, а и б показана полевая зависимость переходных фототоков дырок и элек­ тронов, пропорциональных начальным скоростям спада напряже­ ния, деленным на толщину образца. Результаты при низких полях для дырок подтверждают ограничение интервала по фото­ току, полученное в экспериментах с импульсами света, однако независимость фототока от толщины, наблюдаемая при высоких полях, заставляет думать, что механизм фотогенерации зависит от поля. Для электронов ограничение переноса нельзя преодолеть даже при самых высоких полях; это указывает на то, что длина свободного пробега электронов очень мала.

Спектральная зависимость коэффициента поглощения и фото­

чувствительности при фиксированном поле в

аморфном A s 2 S 3

показана иа фиг. 9.14, в. С увеличением длины

волны фотоответ

быстро уменьшается. Следует подчеркнуть, что

это не связано

с уменьшением скорости возбуждения, хотя значение ос. и падает, число поглощенных фотонов для указанных толщин фактически остается постоянным. Одно из возможных объяснений зависимо­ сти квантового выхода от длины волны предлагалось в 7.5.

Оуэн и Робертсон

[398] измерили зависимость электропровод­

ности A s 2 S 3 и A s 2 S 3

+ 0,2% A g от частоты приложенного

элек­

трического поля. Их результаты для образца, легированного

сере-

г ) Как уже упоминалось выше, правильнее проводить анализ зависимо­ сти времени переноса от толщины образца и напряженности электрического поля.— Прим. перев.

1,000

 

-

Положительный

-

заряд

I

I

0,100

 

 

 

I

 

2,8 мкм—-J—J

1

1^5,9 мкм

~

1,9MKM—S /

f

t

'3

 

 

 

 

I

 

 

 

 

%0,0W

 

 

 

I

 

 

 

 

 

0,001

i i i /1MI

p

1 I Mill

 

W *

10s

 

10 s

 

 

Поле,

В-см'

0,1000

g

S 0,0100

I

I

3 QOO/0

§

I

Отрицательный. 6

заряд

1,9шм~\^/

у

1,8 мкм

/

5,9мкму г

/

Пмкм

/

1,9 мкм

Коэффициен

поглощения

0,0001

1 1

1 |

 

0,01

 

 

 

10ч

101

10°

4 ООО

4500

5000

 

 

Поле,В-см"'

 

Длина

волны,

о

 

 

 

Л

Л ios

10" !

ST

1

I0J I

Ф п г. 9.14.

Зависимость от электрического поля переходных

фототоков

в аморфном A s 2 S 3 при длине волны

 

излучения 4000 А и потоке 4

-101 -2

фотон - см - 2 - с - 1 .

а — фототок,

обусловленный дырками; б — фототок, обусловленный

электронами; в

— спектральная зависимость сигнала ф о т о ­

 

разрядки п коэффициента поглощения

в аморфном

A s 2 S s .

Халъкогенидные стекла

359

бром, показаны на фиг. 9.15. При частотах, меньших 10° Гц, про­ водимость увеличивается с частотой по степенному закону с пока­ зателем степени, несколько меньшим единицы. Как обсуждалось в 7.4.4, такую зависимость можно объяснить с точки зрения перескоковой проводимости по состояниям, лежащим вблизи

-гз\

I

I

I

I

I

L

'

I

I

I

 

I

L

Z4

25

26

2 7

28

2

3

4

5

 

6

1

8

9

 

 

10*/Т,

К'1

 

 

 

Логарифм

 

частоты

 

Ф и г. 9.15. а — температурная

зависимость

проводимости,

измеренной на

постоянном и переменном токе при различных частотах до 100 кГц в аморф­

ном A s 2

S 3 ,

легированном Ag .

б — частотная зависим ость

проводимости тех же образцов при комнат­

ной

температуре [398].

уровня Ферми. Исходя из результатов, изложенных выше, и пред­

положений, сделанных в 7.4.4 (см. фиг. 7.16),

можно оценить

плотность состояний вблизи уровня Ферми N

(EF),

Она оказа­

лась порядка 101 8 с м ~ 3 - э В - 1 . Для чистого A s 2 S 3 ,

соответствующее

значение получается

несколько меньше.

 

 

Несмотря на то

что интерпретация механизма

проводимости

на переменном токе включает в себя ряд неопределенностей, оцен­

ка величины N (EF)

очень хорошо согласуется

со значением

пол­

ной концентрации

свободных спинов ( ~ 6 - 1 0 1 7

с м - 3 ) , найденным

Тауцем, Маисом и Вудом [498] (см. также [98])

из измерений

маг­

нитной воприимчивости. (Эти авторы рассматривают свои резуль­ таты как оценку плотности локализованных состояний в «хвосте» валентной зоны.)

Что касается оптических и электрических свойств, то бинар­ ная система As — S, включающая в себя и нестехиометрические составы, детально не исследовалась. Однако имеются указания на то, что эта система может представлять интерес. На фиг. 9.16 показаны температура размягчения Та и фазовая диаграмма

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ