Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Физ.хим.тв.тела / RealCrystal-4.ppt
Скачиваний:
25
Добавлен:
13.02.2015
Размер:
510.46 Кб
Скачать

Нестехиометрия в кристалле АВ

Разупорядоченность по Шоттки pA<<pB

BV VA'' 2h

KVA''

 

VA'' p2

pB

 

 

 

 

Частное условие электронейтральности будет иметь вид

2 VA'' p

Тогда концентрация вакансий А будет определяться выражением

''

3

 

 

 

 

 

''

 

K

 

'' 1 3

1 3

 

 

 

 

 

 

 

VA

4 VA

 

KVA'' pB ;

 

VA

 

 

 

 

pB

 

 

4

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

K

 

 

1 3

 

 

 

 

 

 

 

''

 

 

''

 

1 3

 

 

 

 

 

1 n

 

 

 

VA

 

 

 

 

 

 

 

VA

 

 

 

K P

 

pA

 

 

 

x K pi

4

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Нестехиометрия в кристалле А2В3

Разупорядоченность по Шоттки pA>>pB

2AV 3VB 6e'

KVB

VB 3 n6

2

 

 

 

pA

Частное условие электронейтральности будет иметь вид

2 VB n

Тогда концентрация вакансий B будет определяться выражением

26 VB 9 K

pA2 ;

VB 2

2 3 K1 9 pA2 9

 

VB

 

VB

xi Kdefect pi lm

l – сумма стехиометрических коэффициентов исходных m – сумма стехиометрических коэффициентов продуктов

Нестехиометрия в кристалле АВ

xi Kdefect pi lm

l – сумма стехиометрических коэффициентов исходных веществ

m – сумма стехиометрических коэффициентов продуктов реакции

О показатели степени в уравнении xi=Kpiz

Рассмотрим общий случай образования любых типов дефектов при растворении А в АВ

 

 

 

 

k

l AV

k

ai Ai

 

xAaii

 

 

 

K

i 1

 

 

 

 

i 1

 

 

plA

 

 

 

 

Учитывая принципы постоянства отношения числа разносортных узлов и электронейтральности кристалла, можно говорить об определенной эквивалентности образования различных дефектов

xA

 

ai

xA

a1

i

 

1

 

 

K plA

О показатели степени в уравнении xi=Kpiz

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ai

 

 

k

 

 

 

 

 

ai

 

 

 

k

 

 

 

 

 

 

 

ai

k

 

 

 

x

a1

 

 

ai

x

 

 

 

 

x

i 1

 

 

 

ai

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

A1

 

 

A1

 

 

 

A1

 

 

 

 

 

 

 

a

 

 

 

 

 

a

 

K

 

 

i 2

1

 

 

 

 

 

 

 

 

i 2

1

 

 

 

 

 

plA

 

 

 

 

 

 

 

plA

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Концентрация одного вида дефектов определяется выражением

x A1

Обозначив

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

k

 

ai

 

 

 

 

 

a

 

i 2

1

k

 

 

ai

m

i 1

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

k

 

 

 

 

 

 

 

ai

 

 

l

 

i 1

 

 

k

 

 

 

 

 

ai

 

 

 

K ' p Ai 1

 

ai

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

l

 

 

 

 

 

 

 

 

получаем

xA1

K ' pAm

О показатели степени

вуравнении xi=Kpiz

Вслучае образования простых (не ассоциированных) точечных

дефектов

l

xAi K ' pAm

l – число частиц, которое внедряется в кристалл из сосуществующей фазы (пар, расплав)

m – суммарное число частиц (или квазичастиц) различного вида, которые образовались в кристалле в результате внедрения l частиц из сосуществующей фазы

 

 

 

 

Квазихимический анализ

 

 

 

 

 

 

 

 

нестехиометрии PbS

 

 

 

Допустим, что при растворении S в PbS протекают следующие

 

 

реакции с образованием заряженных дефектов

 

 

 

 

 

 

S2v 2VPb

 

 

 

 

1,E-03

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n-тип

 

p-тип

 

 

 

S2v 2VPb'

2h

 

1,E-04

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

v

 

 

''

 

 

 

 

[n,p]lg

 

 

 

 

 

 

 

 

S2

2VPb 4h

 

 

1,E-05

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На участке –1< lg pS2 <1 условие

1,E-06

 

 

 

 

 

 

 

 

электронейтральности может

-4

-3

 

-2

-1

0

1

2

быть

[VPb'

] h или

2[VPb'' ]

h

 

 

 

lg pS2

 

 

 

p K

 

1/ 4

 

1/ 4

 

или

 

4K

 

1/ 6

p

1/ 6

 

 

 

 

'

pS

 

 

p

''

 

S2

 

 

 

 

 

VPb

 

 

2

 

 

 

 

VPb

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Квазихимический анализ

 

 

 

 

 

 

 

 

нестехиометрии PbS

 

 

 

Допустим, что при растворении Pb в PbS протекают следующие

 

 

реакции дефектообразования

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Pbv VS

 

 

 

1,E-03

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Pbv

VS

e'

 

 

1,E-04

 

n-тип

 

p-тип

 

 

 

Pbv

Pb

e'

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

lg [n,p]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

v

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2e'

1,E-05

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Pb

 

VS

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На участке –4< lg pS2 <-2 условие

 

1,E-06

 

 

 

 

 

 

 

 

 

электронейтральности может быть

-4

-3

-2

 

-1

0

 

1

2

 

 

 

 

 

] n

 

 

 

 

 

 

lg pS2

 

 

 

 

[VS ] n ;[Pbi

или 2[VS ] n

 

 

 

 

 

 

 

 

n K

1/ 2

1/ 2

n K

1/ 2

1/ 2

 

 

4K

 

1/ 4

p

1/ 4

 

 

pPb

 

pPb

 

n

 

Pb

 

 

 

 

VS

 

 

 

Pbi

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

VS

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Квазихимический анализ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

нестехиометрии PbS

 

 

 

Для перевода давления пара свинца в давление пара серы

 

 

 

воспользуемся константой диссоциации PbS для реакции

 

 

 

 

 

s

 

 

 

 

v

 

1 v

1,E-03

 

 

 

 

 

 

 

PbS

 

Pb

 

2 S2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n-тип

 

 

 

 

 

Kdiss

 

 

 

 

1/ 2

 

 

 

p-тип

 

 

 

pPb pS2

 

1,E-04

 

 

 

 

 

 

 

p

Pb

K

diss

p 1/ 2

lg[n,p]

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

S2

1,E-05

 

 

 

 

 

 

 

Тогда

 

 

 

 

 

 

 

 

1,E-06

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1/ 2

 

 

1/ 2

1/ 4

-4

-3

 

-2

-1

0

1

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n KVS

 

Kdiss pS2

 

 

 

lg pS2

 

 

 

 

 

 

1/ 2

 

1/ 2

1/ 4

 

4K

 

1/ 4

1/ 2

 

1/8

 

n KPb

Kdiss

pS2

n

 

 

Kdiss pS2

 

 

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

VS

 

 

 

 

 

Нестехиометрия трехкомпонентных соединений

Каждый из трех компонентов образует свою собственную подрешетку

Кристаллы с двумя подрешетками – катионной и анионной; третий компонент равномерно распределен в узлах катионной или анионной подрешеток

Соседние файлы в папке Физ.хим.тв.тела