
- •Квантовые и оптоэлектронныеприборыиустройства
- •СмирновЕ.А.
- •Введение
- •Оптическоеизлучение
- •1.1.Свойства оптического излученияиспособыегоописания
- •Особенности оптическогоизлучения
- •Оптическиепереходы
- •Спонтанноеизлучение
- •Вынужденноеизлучение
- •Вынужденноепоглощение
- •СвязьмеждукоэффициентамиЭйнштейна
- •АнализсоотношениймеждукоэффициентамиЭйнштейна
- •Ширинаиформалинийизлучения
- •Естественнаяширинаиформалинийизлучения
- •Однородноеуширениелинииизлучения
- •Неоднородноеуширениелинииизлучения
- •ДифференциальныеиинтегральныекоэффициентыЭйнштейна
- •2.Усилениеоптическогоизлучения
- •Прохождениеоптическогоизлучениячерезвещество
- •Инверсиянаселенностейиактивныесреды
- •Коэффициентусиленияактивнойсреды
- •Схемысозданияинверсиинаселенностей
- •Насыщениеусилениявактивнойсреде
- •Параметрнасыщенияактивнойсреды
- •Генерациялазерного излучения
- •Принципработылазера
- •Условиестационарнойгенерациилазера
- •Насыщениеусилениявлазере
- •Выходная(энергетическая)характеристикалазера
- •Пороговоеусловиегенерации
- •Пороговаямощностьнакачки
- •Графикэнергетическойхарактеристикилазера
- •Оптическиерезонаторы
- •Особенностиоптическихрезонаторов
- •Основныетипыоптическихрезонаторов
- •Устойчивостьоптическихрезонаторов
- •Собственныеколебанияоптическогорезонатора
- •Продольныемоды
- •Методыселекциипродольныхмод
- •Поперечныемоды
- •Методыселекциипоперечных модлазера
- •Кпдлазеров
- •КпДтвердотельныхлазеров
- •КпДнакачкиТтл
- •КпДактивнойсредыТтл
- •КпДоптическогорезонатораТтл
- •КпДгазоразрядных лазеров
- •КпДнакачкиГрл
- •КпДактивнойсредыиоптическогорезонатораГрл
- •КпДинжекционныхполупроводниковыхлазеров
- •Мощность(энергия)накачкилазера
- •Основные типы лазеров
- •Газоразрядныелазеры
- •Гелий-неоновыелазеры
- •Контрольныевопросы
- •Молекулярныелазерына углекисломгазе
- •Контрольныевопросы
- •Лазерына парахметаллов
- •Контрольныевопросы
- •Твердотельныеижидкостные лазеры
- •Контрольныевопросы
- •Инжекционныеполупроводниковыелазеры
- •Списоклитературы
Пороговаямощностьнакачки
Активнаясредалазеравыполняетфункциинекоеготрансформаторамощностинакачкивиндуцированноеизлучение(рис.3.8).Первоначально
мощностьнакачкисопределеннымКПД(ηнак)трансформируетсявмощ-ностьвозбужденияАСРвозАС.Далеевпроцессерелаксацииактивнойсреды
РвозАСстойилиинойэффективностьюηАСтрансформируетсявпотокин-дуцированных квантов.
Рис.3.8.Трансформациямощностинакачкивизлучение
Определим пороговую мощность накачки(Рнак. п)– мощность накачки,которую необходимо затратить, чтобы вывести лазер на порог генерации, ко-гдаχ0=χст=χпор.Пороговыеусловиявыполняются дляточкиАназави-
симостиχус =f(t)и,какследствие,дляточкиСнавременнойзависимости
Рнак=f(t)(рис.3.7).ВточкеСмощностьнакачкиравнапороговоймощности
Рнак.п,частькоторойпередаетсявактивнойсреде РпАС=ηнакРнак.п.На
порогегенерации
поринд(n2n1)поринд(2t21t1)PпАС/нак.Отсю-
давытекает,чтовеличинаРАСпопределяетпороговыйуровеньинверсии
∆nпор= (n2–n1)пор=А n0,гдеА= 10–3…10–1– коэффициент, зависящий отсвойств активной среды и определяющий минимальную долю всех частицn0системы, которые должны быть возбуждены, для вывода лазера на порог ге-нерации.Каждаяизвозбуждаемыхчастицдолжнаполучитьпорциюэнергии
hνвоз, предопределяемую структурой энергетических уровней АС. Например,в АС, построенной по четырехуровневой схеме создания инверсии населен-ностей:hνвоз=W4–W1.Сучетомизложенного,напорогегенерацииза один
цикл возбуждения активная среда объемомVдолжнаполучать энергиюWпАС=Аn0Vhνвоз.Еслиэквивалентноевремяжизнивозбужденнойчастицынаверхнемлазерном уровне(ВЛУ)составляетtВЛУ,тоза1счастицасможет
совершить1/tВЛУпереходоввнизспотерейэнергии.Тогдапороговаямощ-
ностьвозбужденияАСсоставит WАСп=Аn0Vhνвоз/tВЛУ,апороговаямощностьнакачки можетбытьнайденакак
Рнак.п
РпАС
нак
AnVhвоз
0 .накt
ВЛУ
Пороговая мощность накачки являетсясвоеобразным пьедесталом, накоторый нужно подняться, чтобы началась лазерная генерация. Чем нижепьедестал, тем меньше затраты на компенсацию потерь и эффективнее про-цесснакачки лазера.
Графикэнергетическойхарактеристикилазера
Используя (3.4), можно графически отобразить энергетическую харак-теристикуР=f(Pнак) лазера (рис. 3.9), которая оказывается сдвинутой по осиабсциссвправоотносительноначалакоординат.Мощностьизлучениялазера
становится конечной при превышении уровня накачки значенияРнак. п, не-обходимого для выведения лазера на порог генерации. В соответствии с (3.4)идеальнаяэнергетическаяхарактеристика (кривая1)линейна.
Pmax
P
0
Рис.3.9.Выходнаяхарактеристикалазера:1–идеальная;2–реальная;
3–припониженном уровнепотерь
НаклонэнергетическойхарактеристикиврабочейточкеА–уголφ'определяетсядифференциальным КПД:
диф
tg'
Pнак
P .
Pнак.п
ПолныйжеКПДлазераопределяетсяугломφнаклоналинииОА,про-
веденнойизначала координатврабочуюточку,
0tgP/Pнак.Значение
полного КПД тем выше и ближе к дифференциальному, чем ниже затратымощностиРнак. п, необходимые для выведения лазера на порог генерации.Отличиереальныхэнергетическиххарактеристик(кривые2,3)отидеальной
проявляетсявнасыщенииуровнягенерациисростомнакачкииегодаль-
нейшим спадом. Это обусловлено рядом факторов, неучтенных при получе-ниивыражения(3.4) иприводящихкзависимостиγ1,γ2отPнак.
На левой ветви выходной характеристики ростPнаксопровождаетсяувеличением инверсии ∆n=n2–n1, соответствующим повышением ненасы-щенного показателя усиления χ0и, как следствие, возрастанием коэффициен-таК= χ0/χстпревышения усиления над потерями, приводящего к росту уров-нягенерацииР~(К–1).НоодновременносростомPнакрастетитепловая
мощностьPT= αTPнак, гдеαT– коэффициент тепловых потерь. Следова-тельно, повышаются температура активной средыТи тепловые скорости ча-стицυТ.Усилениетепловогодвиженияувеличиваетчастотуатом-атомных
соударений (νa-a), сокращая времяt2жизни частиц в возбужденном состоя-ниииувеличиваяпотериэнергиивозбужденныхчастицзасчетспонтанныхи
безызлучательных переходов (А21↑).Врезультате инверсияАС уменьшает-ся(∆n↓),аследом спадает и мощностьизлучения (P↓).
ДальнейшийнагревАС(Т↑)засчетростаPнакусиливаетбольцманов-
ское заселение верхнего и нижнего лазерных уровнейni= n0еxp (Wi/kT).Причем абсолютный температурный прирост населенности нижнего уровня,расположенногоближекосновномуэнергетическомусостоянию,превышает
прирост верхнего уровня:δn1(Т) > δn2(Т).Следовательно, инверсия насе-ленностей∆n=(n2–n1)↓ и, как ивпредыдущемслучае,P↓.
В газоразрядных лазерах при больших уровнях накачкиPнак↑ =UI↑ –повышенныхуровняхтока,азначитиповышеннойконцентрацииэлектронов
увеличивается частота электрон-атомных столкновений (νe-a). Этот процесссопровождаетсявозрастанием вероятности электронного возбуждения ча-стицактивнойсредыиприводит,какправило,кпреимущественномудопол-
нительному заселению нижнего лазерного уровня (n1↑), что вначале умень-шает, а потом срывает инверсию ∆nнаселенностей и, соответственно,мощ-ностьгенерации.
При повышенных уровнях мощности накачкиPнак, а следовательно,ивысокихтемпературахможетвозникнутьнеравномерныйпорадиусуrнагревактивнойсреды.ПосколькупоказательпреломленияАСзависитотее
температурыnAC=f(T),тотемпературныйградиентgradТ(r)можетвызвать
и радиальный градиент показателя преломления gradnAC(r).Следовательно,возникает различие оптических путей, проходимых осевыми и периферий-нымилучамивАСпротяженностьюL:δLопт=LδnАС.Эторазличиеоптиче-
скихпутейэквивалентнопоявлениюлинзовогоэффектавобъемеактивной
среды и приводит к нарушению хода лучей в оптическом резонаторе. Лучи,изначально распространявшиесяпараллельно оптической оси, будут расфо-кусироваться термической линзой. В итоге часть потока квантов покидает ОРчерез боковую поверхность, увеличивая потери излучения, таким образом,уменьшая превышение усиления над потерями и мощность лазерного излу-ченияР. Наиболее заметно эффект термической линзы проявляется в твердо-тельных лазерах на основе легированных оптических стекол. По сравнениюс активными кристаллическими средами оптические стекла обладают низкойтеплопроводностью. При заметной неравномерности плотности поглощенноймощности накачки это свойство стекол вызывает при нагреве большие гради-ентыпоказателяпреломления.
В инжекционных полупроводниковых лазерах рост тока накачки со-провождается повышением температуры кристалла. Вследствие этого суще-ственно возрастают потериза счет спонтанных и безызлучательных перехо-дов, и снижается уровень генерируемой мощности. Для поддержания опти-мальной температуры кристалла в мощных полупроводниковых лазерах ис-пользуются массивные радиаторы, часто снабжаемые микрохолодильникаминаосновеэффектаПельтье.