- •Оглавление
- •Введение
- •1 Вопросы автоматизации химводоочитски, водоподготовки, химико-технологического мониторинга.
- •1.1 Основные положения водно-химического режима.
- •1.2 Назначение химводоочистки.
- •1.3 Водоподготовка
- •1.4 Автоматизация установок химической очистки воды.
- •К непрерывным процессам химической очистки воды относят:
- •14.1 Регулирование подогрева исходной воды
- •1.4.2 Регулирование производительности водоподготовительной установки
- •1.4.3 Регулирование дозировки реагентов и уровня шлама в осветителях.
- •1.4.4 Регулирование шламового режима
- •2 Требования к схтм вхр и операторским интерфейсам схтм врх.
- •2.1 Назначение схтм
- •2.2 Требования к функционированию и структуре схтм
- •3 Принцип действия, состав и правила эксплуатации устройств химического контроля (на примере устройства подготовки пробы (упп) и приборов серии лидер).
- •3.1 Принцип действия и устройство подготовки пробы (упп)
- •3.2 Назначение и состав комплектных стендов контроля вхр
- •3.2.3 Анализатор натрия ан-12м
- •3.2.4 Назначение прибора контроля вхр "лидер-500"
- •4 Заключение
- •Список используемой литературы.
НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ
МОСКОВСКИЙ ЭНЕРГЕТИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ
Кафедра Автоматизированных Систем
Управления Тепловыми Процессами
Отче по преддипломной практике
Тема:
«Автоматизация химводоочитски, водоподготовки.
Химико-технологического анализа».
Студент: Осинцев М. М.
Группа: ТФ-06-12
Преподаватель: Мерзликина Е. И.
Москва 2016 г.
Оглавление
Y
Оглавление 2
Введение 3
1 Вопросы автоматизации химводоочитски, водоподготовки, химико-технологического мониторинга. 3
1.1 Основные положения водно-химического режима. 4
1.2 Назначение химводоочистки. 4
1.3 Водоподготовка 7
1.4 Автоматизация установок химической очистки воды. 8
14.1 Регулирование подогрева исходной воды 10
1.4.2 Регулирование производительности водоподготовительной установки 11
1.4.3 Регулирование дозировки реагентов и уровня шлама в осветителях. 12
1.4.4 Регулирование шламового режима 13
2 Требования к СХТМ ВХР и операторским интерфейсам СХТМ ВРХ. 14
2.1 НАЗНАЧЕНИЕ СХТМ 14
2.2 Требования к функционированию и структуре СХТМ 15
3 Принцип действия, состав и правила эксплуатации устройств химического контроля (на примере устройства подготовки пробы (УПП) и приборов серии лидер). 18
3.1 Принцип действия и устройство подготовки пробы (УПП) 18
3.2 Назначение и состав комплектных стендов контроля ВХР 20
3.2.1 УЭП - кондуктометр КАЦ-037 20
3.2.2 рН-метр рН-011М 20
3.2.3 анализатор натрия АН-12М 21
3.2.4 Назначение прибора контроля ВХР "ЛИДЕР-500" 21
4 Заключение 22
Список используемой литературы. 22
Введение
Цель данной работы — это изучение назначения, состава, принципа действия оборудования химводоочистки и водоподготовки.
Основная задача работы состоит в изучении принципа действия, состава и правил эксплуатации устройств химического контроля на примере устройства подготовки пробы (УПП) и приборов серии Лидер НПП «Техноприбор».
Объектом исследования является системы водоочистки и химводоподготовки современных ТЭЦ и КЭС.
Тема, посвященная обработке воды для энергетических объектов, в настоящее время приобрела актуальность в связи с двумя основными моментами:
Неизбежностью замены устаревшего энергетического оборудования на современное и более совершенное, но требующего строгого соблюдения норм эксплуатации.
Химический состав воды, циркулирующей в паровых котлах оказывает значительное влияние на их безаварийную работу, что относиться и к остальному основному энергетическому оборудованию.
1 Вопросы автоматизации химводоочитски, водоподготовки, химико-технологического мониторинга.
1.1 Основные положения водно-химического режима.
Безаварийная и экономичная эксплуатация оборудования ТЭЦ в значительной степени обуславливается комплексом технологических мероприятий, определяемых термином «водно-химический режим» [4].
Водно-химическим режимом называется совокупность мероприятий, обеспечивающих работу основного и вспомогательного оборудования электростанции без повреждений и снижения экономичности, вызываемых коррозией внутренних поверхностей нагрева, образованием отложений на теплопередающих поверхностях и в проточной части турбин, шлама в оборудовании, насосах, трубопроводах [1].
Водно-химический режим ТЭЦ обеспечивается:
- подготовкой химобессоленной и химочищенной воды;
- коррекционной обработкой питательной и котловой воды;
- антикоррозионной защитой оборудования и трубопроводов;
- удалением коррозионно-активных газов термическим и химическими способами;
- выведением солей с помощью продувок котлов;
- консервацией оборудования на время простоев оборудования;
- постоянным контролем качества воды, пара и конденсата;
- контролем за внутренним состоянием поверхностей нагрева;
- своевременным выполнением химических очисток оборудования.
Водно-химический режим поддерживается качеством воды, которое должно соответствовать требованиям действующих нормативных документов и обеспечивать работу оборудования без повреждений и снижения экономичности. Ухудшение качества воды приводит к образованию отложений солей и продуктов коррозии в тракте ТЭЦ, что ухудшает теплопередачу, увеличивает гидравлическое сопротивление и приводит к перерасходу топлива [3].
