Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Скачиваний:
30
Добавлен:
14.06.2020
Размер:
5.87 Mб
Скачать

великі струми насичення IKнас

та

IЕнас

, що визначаються рухом

основних носіїв p областей.

У

базі

відбувається накопичення

неосновних нерівноважних носіїв, опір бази і всього БТ різко знижується, Транзистор у цьому режимі вважають відкритим і насиченим, вихідний струм некерованим;

3 Активний режим (АР). ЕП увімкнено в прямому напрямі, КП

– у зворотному. Полярність напруги на електродах БТ, зображених на рисунку 6.3, відповідоє цьому режиму. В колі емітера транзистора

проходить струм IE за рахунок інжекції дірок з емітера до бази, а

колекторний струм IK залежить від струму емітерного. Це основний

режим роботи БТ як підсилювального приладу, коли вихідним струмом можна управляти за допомогою зміни вхідного струму;

4 Інверсний режим. Це також режим керованого вихідного струму, однак ЕП увімкнено у зворотному напрямі, КП – прямо.

6.1.3 Принцип дії біполярного транзистора в активному режимі

Принцип дії БТ розглянемо на прикладі схеми зі спільною базою (ССБ), яку показано на рисунку 6.4.

Рисунок 6.4 – Струми в БТ, то працює в активному режимі На рисунку суцільними стрілками показано діркові струми, або

ж умовно взяті (від “+” до “-”) напрями електронних струмів у p областях, пунктирними стрілками – електронні струми в базі.

61

При полярності напруги UЕБ , що показано на рисунку 6.4,

дірки з емітера інжектують до бази, а електрони – з бази до емітера, оскільки ЕП увімкнено в прямому напрямі. Через ЕП проходять

емітерні струми: дірковий EEP та

 

електронний

EEN . Отже,

в

зовнішньому колі проходить емітерний струм

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

UЕБ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

IE

IEP IEN

 

 

I0

(e ФТ

 

1).

 

(6.1)

 

Співвідношення

 

між складовими

струму

IE оцінюється

коефіцієнтом інжекції

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

IEP

 

 

 

 

IEP

 

 

 

 

1

 

 

 

(6.2)

 

 

I

 

 

 

I

 

 

 

 

IEN

 

 

 

 

 

I

E

 

 

EP

 

EN

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

IEP

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Унаслідок інжекції концентрація дірок у базі біля ЕП

підвищується

 

до

 

величини

PБЕ ,

 

яку

можна

визначити

за

формулою (2.8)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

UКБ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

P

 

 

n

e ФТ

,

 

 

 

 

 

 

 

(6.3)

 

 

 

 

БЕ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

де n0 - концентрація дірок у базі в стані рівноваги.

Розглянемо розподіл концентрації неосновних носіїв (дірок) у базі в цьому режимі. Протяжність бази позначимо координатою х, тоді межа ЕП відповідає випадку х=0, а межа КП – х = . При х=0 концентрація дірок визначається за формулою (6.3). Концентрацію дірок у базі біля КП ( x ) знаходять за виразом

 

 

 

 

 

 

U

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

P

 

n0

e ФТ

.

 

 

(6.4)

 

БK

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Розподіл неосновних носіїв у базі транзистора в установленому

режимі визначають за допомогою рівняння неперервності 1

 

2 (pn pn

)

 

 

pn pn

(6.5)

 

 

 

 

0

 

 

 

 

0

 

 

 

x

2

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

L p

 

 

 

розв’язання якого за граничних умов (6.3) та (6.4) при

Lp має

вигляд

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

62

 

 

 

pn

 

pБЕ

pБК

.

(6.6)

x

 

 

 

 

 

 

З формули (6.6) випливає, що градієнт концентрації неосновних носіїв у базі є величиною постійною стосовно координати х, тобто розподіл концентрації дірок у базі має лінійний характер (рисунок 6.5). З цього рисунка та формул (6.3) і (6.6) бачимо, що градієнт концентрації

дірок змінюється при зміні напруги UЕБ . Під дією цього градієнта

дірки дифундують через базу від емітера до колектора. Частина дірок, не досягши КП, рекомбінує в області бази з електронами. На місце

електронів, що рекомбінували, від джерела UЕБ надходять нові електрони, створюючи рекомбінаційну складову струму бази IБрек .

Рисунок 6.5 – Розподіл концентрації дірок у базі БТ, що працює в активному режимі

Дірки, що досягли КП, створюють колекторний дірковий струм

IKP , причому внаслідок рекомбінації в базі IKP IEP . Процес

перенесення неосновних носіїв через базу під дією градієнта концентрації характеризується коефіцієнтом перенесення,

 

I

KP

1

2

,

(6.7)

 

 

2

 

IEP

2L p

 

який визначає міру зменшення

колекторного діркового

струму IKP

стосовно емітерного струму IEP .

 

 

 

 

 

 

63

 

 

Дірки,

досягши

КП, який увімкнено у

зворотному напрямі,

потрапляють

у

його

прискорювальне

поле

і перекидаються

(екстрагуються) в

p область колектора.

Екстракція дірок може

супроводжуватись ударною іонізацією атомів НП і, як наслідок,

лавинним множенням носіїв (при зворотній напрузі U).

Дірки,

що

потрапили в колектор унаслідок екстракції (при малих

U)

або

ударної іонізації, порушують електричну нейтральність

p області,

і це викликає приплив електронів від джерела

U,

тобто

проходження в зовнішньому колі колектора струму

IK .

Процес

помноження носіїв у КП оцінюється коефіцієнтом помноження колекторного струму

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

M

IK

.

 

 

 

(6.8)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

IKP

 

 

 

 

IK

 

Важливо запам’ятати, що за нормальної роботи БТ М=1,

струм

IKP

називається керованим колектором струмом

IKкер

. Ця назва

зумовлена тим, що чим більше дірок інжектуються емітером до

бази,

тим

 

більша їх

кількість екстрагує до

колектора.

Отже,

струм

IKкер

 

IKP

пропорційний до емітерного струму

 

 

 

IK

 

 

 

 

 

 

 

IKкер h21Б I E ,

 

 

 

(6.9)

де

h21Б -

статичний коефіцієнт передачі

струму емітера.

Оскільки

IKкер

IKP IEP ,

то h21Б 1.

 

 

 

 

З формули (6.9) випливає найважливіша властивість БТ: керування вихідним струмом можливе при зміні струму вхідного. З

формули (6.9) означає, що IE IEP , тому що електронний струм IEN

малий внаслідок слабкої легованості бази.

При деяких напругах на КП UUпроб , коли в переході виникає явище пробою, коефіцієнт М зростає (М>1) і струм IK IKP

буде некерованим.

Через увімкнений у зворотному напрямі КП проходить дрейфовий струм неосновних носіїв, який називається зворотним

струмом колектора I0 . Цей струм проходить від “+” джерела U

через базу, КП, колектор до “-”U. Оскільки напрям цього струму

64

збігається з напрямом керованого колекторного струму IKкер , то можна

записати для повного колекторного струму БТ в схемі зі спільною базою в активному режимі

IK IKкер

IKнекер

h21Б IE I0 ,

(6.10)

де IKкер IKнекер - некерована складова колекторного струму в ССБ.

З рисунка 2.4 випливає, що загальний струм бази дорівнює

IБ IБрек IEN

I0

IБрек I0 .

(6.11)

Струм емітера для транзистора можна знайти, враховуючи, що

він має складові IEP h21Б IE

IБрек

та IEN . Додавши і віднявши

величину I0 , одержимо

 

 

 

IE h21Б IE IБрек IEN IКБ0 IКБ0

(6.12)

Враховуючи формули (6.10) та (6.11), з (6.12) врешті одержимо вираз першого закону Кірхгофа для струмів електродів БТ у довільній схемі ввімкнення:

 

IE IБ IК .

(6.13)

З рівнянь (6.13) та (6.10) випливає

 

IБ IE IK

(1 h21Б )IE IКБ0 .

(6.14)

Порівнюючи формули (6.11) та (6.14), можна зробити висновок, що рекомбінаційна складова струму бази

IБрек (1 h21Б )IE .

(6.15)

В активному режимі (1 h21Б )IE IКБ0

, тобто напрям базового

струму визначається рекомбінаційною складовою.

1.1.4Вплив конструкції та режиму роботи транзистора на

 

 

h21Б .

 

 

 

 

IK

 

 

З формули (6.9) при Iкер

випливає, що

 

 

 

 

 

 

IKP

 

 

IEP

 

 

 

h

 

IK

 

IK

 

 

 

 

M .

(6.16)

 

IKP

IEP

IE

21Б

 

IE

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

65

 

 

 

Оскільки у нормальному режимі роботи транзистора М=1, то статичний коефіцієнт передачі струму емітера

h21Б .

(6.17)

Для поліпшення керувальних властивостей БТ потрібно збільшувати h21Б і, отже, його співмножники та .

Ефективність емітера (коефіцієнт інжекції ) можна підвищити, як це випливає з (6.2), збільшенням IEP і зменшенням IEN .

Це досягається виконанням умови NAE NДБ , про що говорилось у п.6.1.1. При цьому діркова складова емітерного струму IEP значно перевищує електронну IEN і коефіцієнт інжекції досягає величини

=0,995.

Зметою збільшення коефіцієнта перенесення треба згідно з формулою (6.7), зменшити активну ширину бази або збільшити

дифузійну довжину LP . Величину LP можна збільшити за рахунок зменшення ймовірності рекомбінації дірок, що можна здійснити при слабкому легуванні бази донорними домішками ( NДБ мала).

Зменшення до величини 0,1LP дозволяє отримати коефіцієнт перенесення =0,995. На коефіцієнт впливає також співвідношення площ переходів ПКП / ПЕП . Чим більше це співвідношення , тим

менше дірок розсіюється у базі і тим більша їх кількість потрапляє на КП.

Для сучасних БТ величина статичного коефіцієнта передачі струму емітера h21Б 0.99.

Значення коефіцієнта h21Б залежить також від струму емітера

IE і від напруги U.

 

 

Графік залежності h21Б

f (IE )

показаний на рисунку 6.6. В

області малих IE (ділянка I на рисунку 6.6) коефіцієнт

інжекції значно менший за

одиницю,

бо IEP IБрек , і більшість

дірок, інжектованих через ЕП, рекомбінують у базі з електронами.

66

Рисунок 6.6 – Залежність h21Б

від струму емітера

 

При збільшенні

IE (ділянка

II)

дифузійні струми зростають

швидше, ніж рекомбінаційні, і коефіцієнт перенесення

зростає,

збільшуючи h21Б .

При великих струмах емітера (ділянка III) значно

зростає інжекційна електронна складова струму емітера IEN за рахунок

електронів джерела U. Це приводить до зменшення частки діркового

струму через ЕП,

зменшується

 

і,

отже,

коефіцієнт

передачі

транзистора h21Б .

h21Б

f (U) визначають зміною (модуляцією)

Залежність

товщини бази (рисунок 6.7), а також лавинним

множенням

носіїв

Рисунок 6.7 – Залежність h21Б від напруги колектора

67

у КП під час пробою. При збільшенні Uтовщина запірного шару КП збільшується в напрямі базової області, оскільки NAK NДБ . Це супроводжується зменшенням активної ширини бази і, отже,

збільшенням коефіцієнта перенесення за формулою (6.7). При деякій

напрузі UUКБпроб виникає пробій КП, лавинне помноження носіїв

приводить до збільшення коефіцієнта М. Внаслідок цього, згідно з формулою (6.16), зростає і стає більшим за одиницю коефіцієнт

передачі h21Б .

6.1.5 Схема вмикання транзистора зі спільним емітером та спільним колектором

Схему БТ зі спільною базою докладно розглянуто у п. 6.1.3. Розглянемо тепер особливості й основні кількісні співвідношення для схем зі спільним емітером (ССЕ) та спільним колектором (ССК).

Схема зі спільним емітером.

БТ у названій схемі вмикання показано на рисунку 6.8 для випадку активного режиму. Фізичні процеси в транзисторі аналогічні

Рисунок 6.8 – Струми БТ у схемі зі спільним емітером

68

значення h21E

до процесів у ССБ. Під дією напруги в колі емітера проходитьUБE , в

колі емітера проходить струм IE . У базі цей струм розгалужується. Основна його частина йде до колектора, створюючи керовану складову вихідного струму. Друга, менша частина струму IE , йде в коло бази, створюючи струм бази рекомбінації. Назустріч струму рекомбінації через базу проходить зворотний струм колектора I0 . Таким чином,

вираз (6.10) є справедливим і для цієї схеми. Але оскільки вхідний струм в ССЕ є струм бази IБ , то потрібно одержати залежність IК від

IБ . З цією метою до формули (6.10) потрібно підставити значення IE з формули (6.13). Одержимо

 

 

 

 

 

 

I

0

h

21

Б

(I

Б

I

К

) I

,

звідки

 

 

 

 

 

 

 

K

 

 

 

 

 

КБ0

 

 

h21Б

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

I

K

 

 

I

Б

 

 

 

 

 

I

 

.

 

 

(6.18)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1 h21Б

 

 

 

1 h21Б

 

КБ0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Уводячи позначення

 

 

 

 

h21Б

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

h

 

 

 

 

 

,

 

 

 

 

 

 

 

(6.19)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

21E

 

 

1 h

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

21Б

 

 

 

 

 

 

 

 

 

вираз (6.18) можна одержати у вигляді

 

 

 

 

 

IK

h21E IБ

(1 h21E )IКБ0 .

 

 

 

(6.20)

З формули (6.20) випливає, що ССЕ струм колектора має керовану складову h21E IБ , що залежить від вхідного струму, і

некеровану IKE0 (1 h21E )IКБ0 .

Коефіцієнт пропорційності h21E , який установлює зв’язок між керованою складовою IK і струмом бази, називають статичним коефіцієнтом передачі базового струму. При значеннях h21Б =0,95-0,99

становлять відповідно 19-99.

69

Переваги ССЕ:

1)високий статичний коефіцієнт передачі вхідного струму h21E h21Б - добрі підсилювальні властивості БТ у схемі зі спільним емітером;

2)значно більший вхідний опір ССЕ порівняно з ССБ, оскільки при

однакових вхідних напругах UЕБ UБЕ струм бази IБ значно

менший ніж струм емітера IЕ (див.(6.14)).

Недоліком схеми зі спільним емітером є те, що некерована складова її колекторного струму в (1 h21E ) разів більша, ніж в ССБ, оскільки

струм IКБ0 як одна зі складових вхідного струму

IБ підсилюється

транзистором.

 

 

 

Схема зі спільним колектором

 

БТ у схемі

ввімкнення зі спільним колектором показано на

рисунку 6.9. Режим

роботи транзистора – активний,

вхідна напруга

Рисунок 6.9 – Струми БТ у схемі зі спільним колектором

схеми U,

вихідна

- UEK ,

вхідний струм IБ ,

вихідний IE .

За формулами (6.10) та

(6.13) одержуємо

 

I

E

 

1

I

Б

 

 

1

I

КБ0

(6.21)

 

 

 

 

 

1 h21Б

 

1 h21Б

 

 

 

 

 

 

 

 

Позначаючи

70