- •5. Охарактеризуйте имс по степени интеграции и по функциональному признаку.
- •6. Дайте определение различным типам микросхем (полупроводниковая, гибридная, совмещенная).
- •8. Каким образом геометрические параметры полупроводниковых структур сказываются на электрофизические?
- •9. Приведите примеры конструкций полупроводниковых резисторов и конденсаторов и охарактеризуйте их.
- •Структура диффузионного резистора с использованием базового слоя (а), пинч-резистора (б) и эммитерного слоя (в)
- •12. Что такое коэффициент формы резистора и каким образом он может быть определен?
- •13. Каким образом на итоговое сопротивление резистора сказываются приконтактные области?
- •14. Какая емкость p-n-перехода используется при изготовлении полупроводникового диффузионного конденсатора?
- •17. Варианты изготовления диодов по биполярной технологии
- •Интегральные диоды (диодные включения транзистора)
- •Конструкции интегральных диодов
- •18. Приведите пример конструктивно-технологической реализации диодов и транзисторов Шоттки.
- •Конструкции (а, б) и принципиальная схема (в) транзисторов с диодами Шоттки с охранным кольцом (а) и с расширенным металлическим электродом (б)
- •25. Металлическая разводка и принципы ее проектирования
- •Сечение (а) и общий вид (б) пересечения металл — поликремний
- •Вид сверху (а) и разрез (б) диффузионной перемычки
- •26. Приведите пример и поясните технологического процесса изготовления тонких пленок для гимс.
- •27. Какие материалы используются для изготовления подложек гибридных и совмещенных имс? Требования к подложкам.
- •28.Поясните методику расчета геометрии пленочных резисторов.
- •Топология (а) и структура (б) прямолинейного резистора
- •Пленочные резисторы больших номиналов: меандр (а), змейка (б), полосковый (в).
- •Неправильное расположение контактных площадок
- •29. Поясните методику расчета пленочных конденсаторов.
- •Структура (а) и топологии (б, в, г) пленочных конденсаторов
- •30.Поясните методику расчета пленочных катушек индуктивности.
- •Топология катушекиндуктивности круглой (а) и прямоугольной (б) формы
- •Зависимость коэффициента k от соотношения диаметров
5. Охарактеризуйте имс по степени интеграции и по функциональному признаку.
По степени интеграции
Количественный показатель сложности ИС - степень интеграции.
По ГОСТ 17021-81: К' = lgN, где N - число элементов и компонентов; степень интеграции К получается путём округления до ближайшего целого К = [К'] (N=300, К=3).
6. Дайте определение различным типам микросхем (полупроводниковая, гибридная, совмещенная).
Полупроводниковые (твердотельные) ИС все элементы и ме- жэлементные соединения выполнены в объёме или на поверхности полупроводниковой подложки.
а) биполярные;
б) МОП (металл-оксид-полупроводник);
в) БИМОП (сочетание а) и б)).
Плёночные ИС - элементы, которых выполнены в виде разного рода плёнок, нанесённых на поверхность диэлектрической подложки. В зависимости от способа нанесения плёнок и связанной с ним толщиной различают:
а) тонкоплёночные ИС (толщина плёнок до 1-2 мкм);
б) толстоплёночные ИС (толщина плёнок от 10-20 мкм и выше).
Никакая комбинация напылённых плёнок не позволяет получить активные элементы типа транзисторов. Плёночные ИС содержат только пассивные компоненты (резисторы, конденсаторы и т.д.) и функции их крайне ограничены.
Гибридные ИС (микросборки) представляют собой комбинацию плёночных пассивных элементов, простых и сложных активных компонентов (в том числе в виде кристаллов), расположенных на общей подложке.
Силовые микросборки - для миниатюризации электронных преобразовательных устройств (например IGBT модули).
Совмещённые ИС - активные элементы выполнены в объёме и на поверхности полупроводникового кристалла, а пассивные нанесены в виде плёнок на предварительно изолированную поверхность того же кристалла.
Полупроводниковые ИС имеют высокую надёжность « надёжности одиночного транзистора и сравнительно невысокую стоимость.
Гибридные ИС имеют существенно меньшую плотность упаковки и дороже.
8. Каким образом геометрические параметры полупроводниковых структур сказываются на электрофизические?
Резисторы
Для расчета резистора необходимо иметь следующие исходные данные: заданное в принципиальной электрической схеме номинальное значение сопротивления R и допуск на него ∆R поверхностное сопротивление легированного слоя ρS, на основе которого формируется резистор; среднее значение мощности Р и максимально допустимая удельная мощность рассеяния Р0; основные технологические и конструктивные ограничения.
|
|
;
,
где
–
коэффициент формы резистора;
–
относительная погрешность коэффициента
формы резистора;
–
относительная погрешность воспроизведения
удельного поверхностного сопротивления
легированного слоя, для типовых
технологических процессов
= 0,05…0,1;
– температурный коэффициент сопротивления
резистора;
–
температурная погрешность сопротивления.
Конденсаторы
Для расчета конденсаторов требуются следующие исходные данные: необходимое значение емкости C и допуск на нее ∆C; рабочее напряжение U, В; интервал рабочих температур ∆T, °С; рабочая частота f, Гц; основные технологические и конструктивные ограничения. При расчете необходимо выбрать тип и конструкцию конденсатора, определить его геометрические размеры и занимаемую площадь. В большинстве случаев используется конденсатор на основе коллекторного перехода.
Емкость диффузионного конденсатора прямоугольной формы на основе обратно смещенного р-n-перехода
,
где С0 и С0б – удельные емкости донной и боковых частей р-n-пе-рехода; а, b и xj – геометрические размеры р-n-перехода.
Соотношение слагаемых зависит от отношения a/b. Оптимальным является отношение а/b = 1, при этом доля «боковой» емкости оказывается минимальной.
Важным параметром конденсатора является его добротность. Упрощенно ее можно определить из выражения
,
где f — рабочая частота; С – емкость конденсатора; R — сопротивление, включенное последовательно с обкладками конденсатора.
