- •1.1 Зонная теория твёрдого тела. Простая модель энергетических зон. Электропроводность твёрдых тел. Собственные полупроводники.
- •1.2 Распределение носителей зарядов по энергетическим уровням в полупроводниках. Примесные полупроводники.
- •1.3 Уравнение электронейтральности. Явление дрейфа и диффузии в полупроводниках. Эффект Холла.
- •1.4 Неравновесные процессы в полупроводниках. Межзонные процессы рекомбинации и генерации. Математическая модель энергетических зон Кронига-Пенни.
- •1.5 Непрямые процессы в объёме и на поверхности полупроводника в условиях динамической неравновесности. Квазиуровни и квазипотенциалы Ферми. Явление переноса. Основные уравнения полупроводников.
- •2.1 Структура р-п перехода в состоянии термодинамического равновесия. Зонная диаграмма р-п перехода. Высота потенциального барьера, толщина области р-п перехода.
- •2.2 Работа р-п перехода при внешнем воздействии. Прямое и обратное смещение р-п перехода. Ширина р-п перехода. Барьерная ёмкость обратно смещённого р-п перехода.
- •2.3 Методы создания электронно-дырочных переходов. Технология изготовления полупроводниковых диодов.
- •Типы диодов по частотному диапазону:
- •Типы диодов по размеру перехода:
- •Типы диодов по конструкции:
- •2.4 Вольт- амперная характеристика р-п перехода. Математическая модель диода. Уравнение Шокли. Вах реального р-п перехода. Пробой р-п перехода.
- •Типы диодов по назначению:
- •3.1 Выпрямительные диоды, стабилитроны, стабисторы, диоды Шоттки. Разновидности и классификация полупроводниковых диодов.
- •Типы диодов по назначению:
- •Типы диодов по конструкции:
- •Переходные процессы в диодах с р-п переходом. Импульсные диоды.
- •4.1 Структура и принцип работы бт. Режимы работы биполярного транзистора и схемы включения. Распределение стационарных потоков носителей.
- •4.2 Статическая модель биполярного транзистора. Распределение концентрации носителей в области базы, эмиттера, коллектора. Математическая модель Эберса-Молла.
- •4.3 Параметры биполярного транзистора. Модели транзистора в режиме малого сигнала. Эквивалентные схемы (четырёхполюсника и физические).
- •4.4 Статические характеристики биполярных транзисторов.
- •4.6 Работа транзистора на нагрузку.
- •4.7 Квазистатический режим работы транзистора. Определение усилительных параметров транзистора через r и h-параметры четырёхполюсника.
- •4.8 Типы биполярных транзисторов. Конструкции и технологии производства.
- •Классификация полевых транзисторов.
- •5.2 Основные параметры полевых транзисторов. Полевой транзистор с управляющим р-п переходом (птуп). Структура птуп и основные особенности. Сравнение мдп и биполярных транзисторов.
- •6.1 Основные особенности конструкции и классификация тиристоров. Динисторы. Вах динистора, внутренняя положительная обратная связь в р-п-р-п структурах. Статические параметры динисторов.
- •6.2 Тринистор - управляемый тиристор. Вах тринистора, зависимость параметров от тока управления. Симисторы, конструкция и вах.
- •7.1 Механизм генерации излучения в полупроводниках. Некогерентные излучатели - излучающие диоды.
- •7.2 Сид и ик-диоды. Световые и электрические параметры сид.
1.2 Распределение носителей зарядов по энергетическим уровням в полупроводниках. Примесные полупроводники.
Распределение в твердом теле определяется числом электронов dn в см3 , занимая энергетические уровни dE (интервал).
Классическая система, то в кач-ве вероятности применяется ф-я Максвелла-Больцмана:
Базе-Эйнштейна:
f= [1-e (-E-EБ/k*T)]-1
Ферми-Дирака:
f= [1+e (-E-EF)]-1
EF уровень, который при Т, занят электроном с вероятностью 1/2.
Следствием
этого является:
- при Т=0, т.к. …
- вероятность иметь уровень в занятом состоянии, при повышенной Т растет, а при пониженной падает.
-
Т
больше 0 и
,
следовательно, EF
определяет
энергетический уровень, вероятность
заполнения которого = ½, кривая симметрична
относительно EF
и вероятность E2
выше
EF
на ∆Е = вероятности освободившегося
уровня E2.
Таким
образом, вероятность такого события,
что некоторый уровень занят дыркой, а
не электроном =>
Примесные полупроводники.
Примесный полупроводник - это полупроводник, электрофизические свойства которого определяются, в основном, примесями других химических элементов.
Процесс введения примесей в полупроводник называется легированием полупроводника, а сами примеси называют легирующими.
Роль примесей могут играть и всевозможные дефекты структуры кристаллической решетки полупроводника.
При малой концентрации примесей (1021...1023 м-3) примесные атомы создают дополнительные дискретные энергетические уровни в запрещенной зоне полупроводника. Такой полупроводник называется невырожденным. Повышение концентрации примесных атомов в полупроводнике до 1024...1025 м-3 сопровождается появлением в запрещенной зоне полупроводника вместо дискретных уровней зон примесных уровней. Такие полупроводники называют вырожденными.
Различают два основных вида примесей, которые используются для преднамеренного легирования полупроводников и создающих преимущественно электронный или дырочный тип проводимости. Примеси, введение которых в полупроводник создает электронный тип проводимости, называются донорными. Примесь, создающая дырочную проводимость, называется акцепторной.
1.3 Уравнение электронейтральности. Явление дрейфа и диффузии в полупроводниках. Эффект Холла.
Уравнение электронейтральности:
Полупроводник, на который не действует электрическое поле – электрически нейтрален.
Введение примесей с концентрацией n-доноров и акцепторных примесей приводит к появлению дополнительных электронов и дырок.
Все атомы примесей ионизированы.
Условие электронейтральности: p+Nd=n+Na
Можно рассчитать концентрацию n и p, зная температуру и концентрацию доноров и акцепторов: Ni/Nd<<1 nn≈ni2/Nd
Явление дрейфа и диффузии в полупроводниках.
На движение заряженных частиц влияют четыре основных фактора: температура, электрические и магнитные поля и градиент концентрации. Тепловое движение частиц в силу его хаотичности обуславливает лишь рассеяние потока частиц, однако на направленное движение не влияет. Рассмотрим процесс переноса электронов и дырок в условиях стационарной неравновесности при отсутствии магнитного поля.
При наличии градиента концентрации носителей зарядов возникает диффузионная составляющая плотности тока:
Отрицательный знак означает тот факт, что вектор плотности диффузионного тока направлен в сторону, противоположную градиенту концентрации дырок.
Если явления дрейфа и диффузии наблюдаются одновременно, то в этом случае для одномерной модели можно записать следующие соотношения для плотности электронного и дырочного тока.
Между явлениями дрейфа и диффузии существует некоторая связь, которая количественно определяется соотношением Эйнштейна.
Эффект Холла.
Эффект Холла возникает в полупроводнике, находящемся в постоянном магнитном поле.
;
;
σ=σ1+σ2=σ0c*e(-∆E/k*T)+σoпр*e(-∆E/k*T);
∆Eпр<<∆E
σ1- собственная проводимость, σ2- примесная проводимость.
