
- •Оглавление
- •Введение
- •Глава 1. Особенности проектирования имс
- •Глава 2. Проектирование гибридных интегральных микросхем (гис)
- •2.1 Конструктивно-технологические особенности.
- •2.2 Определение функциональной сложности.
- •2.3 Методы оптимизации гис по критерию функциональной точности.
- •Глава 3. Расчет и проектирование пленочных резисторов.
- •3.1 Расчет геометрических размеров резисторов.
- •3.2 Выбор и обоснование материала резистивной пленки.
- •3.3. Расчет и проектирование контактного перехода типа “пленка-пленка”.
- •3.4 Проектирование подгоняемых резисторов.
- •3.5. Точность отношения резисторов.
- •Глава 4. Расчет и проектирование пленочных конденсаторов.
- •4.1 Конструктивно-технологические особенности и основные параметры.
- •4.2 Расчет геометрических размеров конденсаторов.
- •4.3 Потери в пленочных конденсаторах.
- •4.4 Планарные конденсаторы.
- •Последовательность расчета геометрических размеров пленочных конденсаторов.
- •4.5. Проектирование прецизионных конденсаторов.
- •Глава 5. Расчет и проектирование rc-структур с распределенными параметрами.
- •5.1 Тонкопленочные rc-структуры с распределенными параметрами.
- •5.2 Режекторные фильтры на основе rc-структур.
- •5.3 Влияние погрешностей геометрии rc-структуры на электрические характеристики режекторных фильтров.
- •5.4 Избирательные rc-усилители.
- •5.5 Активные фильтры на основе rc-структур.
- •5.6. Конструктивный расчет фильтров на основе rc-структур.
- •Глава 6. Основы оптимального проектирования гис
- •6.1 Зависимости погрешности выходного параметра от физических и геометрических параметров элементов.
- •6.2 Исходные данные для проектирования топологии.
- •Схемотехнические данные и требования.
- •Технологические данные и ограничения.
- •3. Конструктивные данные и требования.
- •6.3 Конструктивные методы защиты имс от воздействия дестабилизирующих факторов.
- •6.4 Бескорпусная герметизация гис.
- •Глава 7. Разработка топологии и конструкции гис.
- •7.1. Принципы практического проектирования и компоновки топологической структуры гис.
- •7.2. Разработка коммутационной схемы соединений.
- •Заключение
- •Литература
- •Приложение 1.
- •Приложение 2. Проектирование фильтров на основе rc—структур с распределенными параметрами средствами Microwave Office. Введение
- •Схемы и результаты моделирования
- •Широкая микрополосковая двухпроводная линия из проводников с различным сопротивлением
- •Однопроводная линия над проводящим слоем
- •Базовая схема используется как элемент других схем
- •Заземление подсхемы в схеме
- •Составные или гибридные rc-структуры и lc-цепи
- •Локальные экстремумы
6.2 Исходные данные для проектирования топологии.
Схемотехнические данные и требования.
Схемотехнические данные являются главными при проектировании ГИС, так как они определяют связи и параметры элементов, их функциональное назначение и условия эксплуатации.
К ним относятся:
схема электрическая принципиальная;
перечень элементов схемы, их параметры и характеристики (номинальные значения, электрические и тепловые режимы, стабильность во времени и т.д.)
условия эксплуатации;
рабочий диапазон частот.
Технологические данные и ограничения.
Технологические данные и ограничения характеризуют возможность изготовления ГИС с заданными параметрами. Основными технологическими данными является параметры структурных элементов ГИС: подложек, плёночных элементов, проводников, контактных площадок, межслойной изоляции и защитного слоя, а так же требования по точности изготовления плёночных элементов. Характеристики основных материалов подложек, плёночных проводников, контактных площадок и защитных слоёв приведены в таблицах 6.1-6.3.
Технологические ограничения, как правило, как правило, заимствуются из конкретного технологического процесса и обусловлены современным уровнем плёночной технологии. К ним относится точность изготовления контура плёночных элементов, точность воспроизведения физических свойств плёнок в процессе изготовления.
При использовании биметаллических масок для формирования рисунка, ошибка по контуру =10мкм; ошибка в линейных размерах l=b=10мкм; ошибка совмещения масок с подложкой с=(13)мкм.
Основные технологические требования:
последовательное нанесение слоёв плёночной структуры;
оригинал топологи ГИС должен выполнятся в прямоугольной системе координат в масштабе 10:1 или 20:1;
при разработке топологических чертежей должны предусматриваться поля. При масочном методе не менее 0,5 мм, при фотолитографии не менее 1мм;
для совмещения элементов, расположенных в разных слоях, предусматривают перекрытие не менее 200мкм при масочном методе и 100мкм при фотолитографии;
для измерения номиналов элементов предусматриваются контактные площадки размером не менее 200200мкм;
компоненты устанавливают на расстоянии не менее 0,5 мм от плёночных элементов и не менее 600мкм от контактной площадки; минимальное расстояние между компонентами составляет 300мкм;
длина проволочных выводов компонентов 600мкм-3мм; не рекомендуется делать перегиб вывода через навесной компонент;
минимальное расстояние между пленочными элементами 300мкм при масочном методе и 100мкм при фотолитографии;
минимально допустимая ширина плёночных резисторов и проводников составляет 200мкм при масочном методе и 50мкм при фотолитографии;
у тонкоплёночных конденсаторов нижняя обкладка должна выступать за контур верхней обкладки не менее чем на 200мкм, а диэлектрик должен выступать за контур нижней обкладки не менее чем на 100мкм;
минимально допустимые размеры контактных площадок для приварки гибких выводов 200150мкм, для припайки 400400мкм;
минимально допустимые размеры контактных площадок для монтажа компонентов с шариковыми выводами 0,10,2мм;
не рекомендуется проектировать пленочные резисторы с числом квадратов менее 0,1 и конденсаторы с площадями менее 0,50,5мм и суммарной площадью более 2см2.
Таблица 6.1
Характеристики материалов подложек гибридных ГИС.
Характеристика
|
Материал |
|||||||||
|
Стекло |
Ситал СТ50-1 |
Плавленный кварц |
Керамика |
Металл* |
Полимид* ПМ-1 |
||||
|
С41-1 |
С48-3 |
|
|
22ХС(96 AL2O3) |
Поликор |
Глазурование |
Брокерит (98 BeO) |
|
|
Класс чистоты обработки поверхности |
14 |
14 |
1314 |
14 |
12 |
1214 |
14 |
Высота микронеровностей 0,45мкм |
1214 |
1214 |
Температурный коэффициент линейного расширения ТКЛР(107) при Т=20300С,град-1 |
412 |
482 |
502 |
55 |
605 |
7075 |
7378 |
70 |
62 |
200 |
Коэффициент теплопроводности, Вт/(мС) |
1 |
1,5 |
1,5 |
715 |
10 |
3045 |
1,21,7 |
210 |
40 |
4,5 |
Диэлектрическая проницаемость при f=106Гц и Т=20С |
7,5 |
3,28 |
58,5 |
3,8 |
10,3 |
10,5 |
1316 |
6,49,5 |
67 |
3,5 |
Тангенс угла диэлектрических потерь (104) при f=106Гц и Т=20С |
20 |
15 |
20 |
-- |
6 |
10 |
18 |
16 |
6 |
30 |
Объёмное сопротивление при Т=25С, Омсм |
1017 |
1014 |
-- |
1015 |
-- |
-- |
-- |
1014 |
1014 |
1017 |
Электрическая прочность, кВ/мм |
40 |
40 |
-- |
-- |
50 |
-- |
50 |
20 |
-- |
15 |
* используется в гибридных БИС и МСБ.