Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Учебно-методическое пособие.doc
Скачиваний:
0
Добавлен:
01.05.2025
Размер:
5.1 Mб
Скачать

6.2 Исходные данные для проектирования топологии.

  1. Схемотехнические данные и требования.

Схемотехнические данные являются главными при проектировании ГИС, так как они определяют связи и параметры элементов, их функциональное назначение и условия эксплуатации.

К ним относятся:

  1. схема электрическая принципиальная;

  2. перечень элементов схемы, их параметры и характеристики (номинальные значения, электрические и тепловые режимы, стабильность во времени и т.д.)

  3. условия эксплуатации;

  4. рабочий диапазон частот.

  1. Технологические данные и ограничения.

Технологические данные и ограничения характеризуют возможность изготовления ГИС с заданными параметрами. Основными технологическими данными является параметры структурных элементов ГИС: подложек, плёночных элементов, проводников, контактных площадок, межслойной изоляции и защитного слоя, а так же требования по точности изготовления плёночных элементов. Характеристики основных материалов подложек, плёночных проводников, контактных площадок и защитных слоёв приведены в таблицах 6.1-6.3.

Технологические ограничения, как правило, как правило, заимствуются из конкретного технологического процесса и обусловлены современным уровнем плёночной технологии. К ним относится точность изготовления контура плёночных элементов, точность воспроизведения физических свойств плёнок в процессе изготовления.

При использовании биметаллических масок для формирования рисунка, ошибка по контуру =10мкм; ошибка в линейных размерах l=b=10мкм; ошибка совмещения масок с подложкой с=(13)мкм.

Основные технологические требования:

  1. последовательное нанесение слоёв плёночной структуры;

  2. оригинал топологи ГИС должен выполнятся в прямоугольной системе координат в масштабе 10:1 или 20:1;

  3. при разработке топологических чертежей должны предусматриваться поля. При масочном методе не менее 0,5 мм, при фотолитографии не менее 1мм;

  4. для совмещения элементов, расположенных в разных слоях, предусматривают перекрытие не менее 200мкм при масочном методе и 100мкм при фотолитографии;

  5. для измерения номиналов элементов предусматриваются контактные площадки размером не менее 200200мкм;

  6. компоненты устанавливают на расстоянии не менее 0,5 мм от плёночных элементов и не менее 600мкм от контактной площадки; минимальное расстояние между компонентами составляет 300мкм;

  7. длина проволочных выводов компонентов 600мкм-3мм; не рекомендуется делать перегиб вывода через навесной компонент;

  8. минимальное расстояние между пленочными элементами 300мкм при масочном методе и 100мкм при фотолитографии;

  9. минимально допустимая ширина плёночных резисторов и проводников составляет 200мкм при масочном методе и 50мкм при фотолитографии;

  10. у тонкоплёночных конденсаторов нижняя обкладка должна выступать за контур верхней обкладки не менее чем на 200мкм, а диэлектрик должен выступать за контур нижней обкладки не менее чем на 100мкм;

  11. минимально допустимые размеры контактных площадок для приварки гибких выводов 200150мкм, для припайки 400400мкм;

  12. минимально допустимые размеры контактных площадок для монтажа компонентов с шариковыми выводами 0,10,2мм;

  13. не рекомендуется проектировать пленочные резисторы с числом квадратов менее 0,1 и конденсаторы с площадями менее 0,50,5мм и суммарной площадью более 2см2.

Таблица 6.1

Характеристики материалов подложек гибридных ГИС.

Характеристика

Материал

Стекло

Ситал СТ50-1

Плавленный кварц

Керамика

Металл*

Полимид* ПМ-1

С41-1

С48-3

22ХС(96 AL2O3)

Поликор

Глазурование

Брокерит (98 BeO)

Класс чистоты обработки поверхности

14

14

1314

14

12

1214

14

Высота микронеровностей 0,45мкм

1214

1214

Температурный коэффициент линейного расширения ТКЛР(107) при Т=20300С,град-1

412

482

502

55

605

7075

7378

70

62

200

Коэффициент теплопроводности, Вт/(мС)

1

1,5

1,5

715

10

3045

1,21,7

210

40

4,5

Диэлектрическая проницаемость при f=106Гц и Т=20С

7,5

3,28

58,5

3,8

10,3

10,5

1316

6,49,5

67

3,5

Тангенс угла диэлектрических потерь (104) при f=106Гц и Т=20С

20

15

20

--

6

10

18

16

6

30

Объёмное сопротивление при Т=25С, Омсм

1017

1014

--

1015

--

--

--

1014

1014

1017

Электрическая прочность, кВ/мм

40

40

--

--

50

--

50

20

--

15

* используется в гибридных БИС и МСБ.