
- •11 Основные модели роста кристаллов
- •6. Физико-химические основы зарождения и роста новой фазы в виде тонких пленок в технологических процессах
- •6.1. Основные модели роста кристаллов
- •6.2. Атомная структура кристаллической поверхности. Классификация поверхностей
- •Дефекты поверхности
- •6.3. Движущие процессы кристаллизации Термодинамический анализ процесса зарождения
- •Молекулярно-статистическая модель зарождения
- •Кинетические модели зарождения
- •Коалесценция и образование сплошного слоя
Коалесценция и образование сплошного слоя
В общем случае на первой стадии в результате кристаллизации на атомно-гладкой чужеродной подложке возникают устойчивые (т. е. закритические) зародыши новой фазы (рис. 6.15, а). При этом достигается максимальная их концентрация. Эта стадия протекает достаточно быстро, поэтому зародыши не успевают вырасти до значительной величины.
На второй стадии зародыши разрастаются в основном за счет двумерного пара адатомов, который непрерывно образуется вследствие продолжающейся адсорбции конденсируемого вещества (рис. 6.15,б). Поскольку в большинстве реализуемых на практике случаев размеры зародышей много меньше размеров свободных от них зон, называемых диффузионными зонами, то ростом зародышей за счет непосредственного попадания в них адатомов из материнской среды можно пренебречь.
В процессе роста зародышей наблюдается их слияние, называемое первичной коалесценцией, и формирование из них более крупных частиц вещества, которые обычно называют островками. Слияние зародышей может сопровождаться изменением их первоначальной формы и ориентации. На этой стадии отдельные зародыши могут также перемещаться по подложке и сливаться при столкновении. Однако миграция зародышей может происходить при относительно слабой связи их с подложкой и при достаточно высокой температуре, а также при внешнем воздействии, например электрическим полем или ионной бомбардировкой. Уменьшение концентрации зародышей вначале происходит очень быстро, а затем медленнее по мере роста их размеров.
Рис.6.15. Схема основных стадий роста кристалла на атомно-гладкой поверхности: а – образование зародышей; б – рост зародышей; в – коалесценция; г – образование «каналов»; д – образование пор; е – формирование сплошного слоя
На третьем этапе роста кристалла происходит слияние соседних островков в процессе их разрастания - вторичная коалесценция - и образование более крупных (рис. 6.15, в). Если в результате слияния островков обнажается достаточно большой участок подложки, то может происходить вторичное зародышеобразование. Наступает момент, когда начинается массовое слияние островков с образованием единой структуры в виде сетки. По мере завершения образования сплошной сетчатой структуры вторичная коалесценция замедляется. Образовавшаяся сетчатая пленка содержит большое количество пор и пустот различной формы, которые называются каналами. Такие каналы часто имеют удлиненную извилистую форму, иногда - кристаллографическую огранку. Они приблизительно равномерно распределены на участках пленки, имеющих одинаковую эффективную толщину, и характеризуются одинаковой шириной.
На четвертом этапе роста происходит медленное заполнение каналов - пустот. В ряде случаев при большой скорости осаждения в каналах возникают новые зародыши, которые очень медленно разрастаются и сливаются. Это особенно заметно в случае, когда участок с вторичными зародышами окружен сплошной тонкой пленкой. По мере зарастания каналов их длина уменьшается, в то время как их ширина изменяется незначительно (рис. 6.15, г). В процессе зарастания каналов происходит сглаживание рельефа пленки, поверхность ее становится гладкой, ровной, повторяющей микрорельеф поверхности подложки.
На пятом этапе происходит дальнейший рост пленки, увеличение ее толщины, наблюдаются дефекты в виде пор (рис. 6.15, д). Часто эта стадия роста сопровождается структурными изменениями, обусловленными рекристаллизационными процессами, протекающими одновременно с ростом слоя: уменьшается количество дефектов кристаллической решетки, происходят релаксация напряжений и фазовые переходы. На последнем этапе происходит формирование сплошного слоя (рис. 6.15,е).
Особый интерес представляет рассмотрение первичной и вторичной коалесценции, механизмов и причин, вызывающих интенсивное перемещение, изменение формы и ориентации островков, так как от этих стадий во многом зависит формирование структуры кристалла и его свойств. Рассмотрим эти стадии более подробно.
Вследствие миграции или разрастания зародышей соседние частицы начинают соприкасаться. Дальнейшее изменение формы контактирующих островков слоя зависит от сил связи атомов конденсата и подложки. Если взаимодействие между островками сильнее, чем их взаимодействие с подложкой, а температура достаточно велика для заметного протекания диффузионных процессов, то за определенный промежуток времени под действием сил поверхностного натяжения происходит слияние островков. При этом они утрачивают свою исходную форму, и образуется единый островок более равновесной конфигурации (рис. 6.16, а). К коалесценции также относится диффузионное перераспределение массы через двумерный пар, когда более крупная частица - островок - увеличивается за счет испарения мелких, но при этом непосредственно с ними не соприкасается.
В случае низкой температуры или когда изменение формы самих островков затруднено (например, вследствие наличия слоя оксида на поверхности), в результате контактирования частиц - островков - происходит их объединение - коагуляция. При этом в отличие от коалесценции наблюдается незначительное изменение исходной формы частиц - островков, которое ограничивается областью соприкосновения островков, т. е. участками с наибольшей кривизной поверхности.
Рис.6.16. Схема срастания частиц: а – при коалесценции; б – без коалесценции; 1 – соприкасающиеся частицы; 2 – слияние и срастание частиц; 3 – вытеснение (а) и увеличение (б) межзеренной границы
Островки часто приобретают неравновесную форму в виде плоских образований, которые характеризуются большой удельной поверхностной энергией. Такие образования по достижении определенного размера становятся неустойчивыми и происходит стягивание островков в плоскости подложки. В последнем случае существенно уменьшается величина поверхности. Такое изменение формы островка сопровождается уменьшением величины удельной поверхности (величины поверхности, приходящейся на единицу объема) и обусловлено уменьшением энергии Гиббса. В этом случае может изменяться не только форма островка, но и его ориентация относительно подложки.
Первичная коалесценция характеризуется массопереносом осаждаемого вещества по поверхности подложки. Массоперенос при этом осуществляется двумя способами: диффузионным перераспределением массы осажденного вещества через двумерный пар адатомов и миграцией зародышей по подложке. В зависимости от условий может преобладать тот или иной механизм массопереноса. Возможны случаи, когда оба механизма вносят сопоставимый вклад.
Островки, которые благоприятно ориентированы, имеют большую скорость роста и, следовательно, более крупные размеры. Даже при одинаковой скорости роста более крупными будут те островки, которые возникли в более ранний период осаждения. При соприкосновении двух островков сферической формы с некоторым радиусом кривизны между ними образуется шейка. Радиус кривизны шейки изменяется со временем вследствие массопереноса вещества от сфер к шейке. Движущая сила массопереноса обратно пропорциональна радиусу шейки и осуществляется по механизму объемной или преимущественно поверхностной диффузии.
Возможны такие случаи, когда образование сплошной пленки происходит без заметной коалесценции. Это относится, прежде всего, к случаям роста ограненных частиц для вещества с высокой упругостью насыщенного пара. Схема срастания частиц без коалесценции приведена на рис. 6.16, б. Две кристаллические частицы срастаются механически без изменения огранки, взаимного расположения и ориентировки. Если две частицы имеют разные ориентировки, то объединенная частица представляет собой сросток, разделенный плоской границей (А - А на рис. 6.16,б). Для роста без коалесценции характерно то, что процесс образования зародышей прекращается на самой ранней стадии. В последующем новые зародыши не образуются, а происходит лишь разрастание старых.