
- •11 Основные модели роста кристаллов
- •6. Физико-химические основы зарождения и роста новой фазы в виде тонких пленок в технологических процессах
- •6.1. Основные модели роста кристаллов
- •6.2. Атомная структура кристаллической поверхности. Классификация поверхностей
- •Дефекты поверхности
- •6.3. Движущие процессы кристаллизации Термодинамический анализ процесса зарождения
- •Молекулярно-статистическая модель зарождения
- •Кинетические модели зарождения
- •Коалесценция и образование сплошного слоя
6.3. Движущие процессы кристаллизации Термодинамический анализ процесса зарождения
Условно можно выделить равновесные, квазиравновесные и кинетические модели, описывающие механизм зарождения и роста объемных кристаллов и слоев с учетом термодинамического, квантово-механического и молекулярно-статистического анализов элементарных актов. Различные модели кристаллизации дополняют друг друга и различаются учетом разных процессов: движения фазовой границы, распределения агрегатов по размерам на поверхности, заполнения узлов кристаллической решетки и т. д.
Имеется определенная связь между уровнем развития технологии и развитием отдельных теоретических моделей. Так, до появления микроэлектроники, пленочной и эпитаксиальной технологии преобладал термодинамический подход. Это связано с тем, что объектом исследований был медленно растущий кристалл (в условиях, близких к равновесным) или естественный (природный) кристалл. Использование кинетических моделей было затруднено без применения ЭВМ.
При кристаллизации на атомно-гладких поверхностях кристаллы возникают в результате двух элементарных процессов, не зависящих от того, происходит ли кристаллизация из паровой, жидкой или твердой фазы:
1) в результате возникновения способного к росту зародыша субмикроскопического размера;
2) вследствие разрастания и превращения этого зародыша в макроскопический кристалл, ограниченный поверхностями, характерными для соответствующего кристалла и условий роста.
Предпосылкой для возникновения кристаллических зародышей из неупорядоченной гомогенной фазы является наличие движущей силы процесса — пересыщения или переохлаждения.
При этом следует делать различие между гомогенным и гетерогенным образованием зародышей. При гомогенном образовании зародышей имеет место фазовый переход (например, расплав—кристалл) при отсутствии границ раздела, т. е. внутри самой фазы за счет случайных колебаний плотности и кинетической энергии без участия посторонних поверхностей раздела. Если кристаллизация происходит на стенках сосуда, на других кристаллах (т. е. при участии посторонних поверхностей раздела), говорят о гетерогенном образовании зародышей.
Весьма часто необходимо значительное переохлаждение или пересыщение, чтобы вызвать образование зародышей. Это становится понятным, если учесть, что для возникновения зародышей необходимо затратить энергию или совершить работу (работу образования зародышей), которая имеет смысл энергии активации.
Если, например, пересыщение недостаточно велико, то зародыш может не образоваться, тогда фазовый переход не произойдет. Если же во время фазового перехода кристаллическая фаза уже имеется, например в форме заранее внесенных кристаллов, то величина работы образования зародышей значительно снижается, и фазовый переход происходит уже при меньших пересыщениях.
Гомогенное образование зародышей. Термодинамический анализ образования зародышей из гомогенной фазы, например из расплава, основан на установлении изменения энергии Гиббса системы, происходящего при фазовом переходе. Рассмотрим изменение энергии Гиббса чистого вещества как функцию температуры (рис. 6.8). Энергия Гиббса обеих фаз (кристалла и его расплава) в точке плавленияТплодинакова. НижеТплустойчива кристаллическая фаза, так как она обладает меньшей энергией Гиббса. ВышеТплтермодинамически устойчив расплав по той же причине. С термодинамических позиций фазовый переходрасплав - кристаллвозможен уже при бесконечно малом переохлаждении, так как он обеспечивает уменьшение энергии Гиббса. Практически же фазовый переходрасплав - кристаллнаступает при значительно большемТ.
Причина задержки фазового превращения заключается в том, что возникновение кристаллической фазы связано не только с изменением объема, но и с образованием новой поверхности раздела. Изменение энергии Гиббса Gп, связанное с образованием поверхности новой фазы, является положительным, а объема Gоб — отрицательным. По этой причине положительное изменение свободной энергии противодействует процессу фазового перехода расплав - кристалл.
Рис.6.8. Зависимость энергии Гиббса кристалла (1) и его расплава (2) от температуры |
Рис.6.9. Зависимость энергии образования зародыша от его радиуса |
Кроме того, следует учитывать изменение энергии Гиббса Gдеф, которое связано с упругой деформацией зародышей при фазовом переходе.
Общее изменение энергии Гиббса образования зародышей оказывается суммой трех слагаемых:
,
(6.8)
где ΔGоб - объемная составляющая; ΔGn - поверхностная составляющая.
Энергия
деформации должна учитываться лишь при
образовании зародышей новой фазы
внутри твердой фазы, например при
полиморфных фазовых превращениях, при
кристаллизации стекол или в процессах
осаждения. Без учета деформационного
слагаемого уравнение запишется в виде
.
Изменение ΔGоб пропорционально объему возникающей фазы V~r3; изменение ΔGп пропорционально поверхности s ~ r2, где r — радиус зародышей. Определим для частного случая (шарообразный зародыш радиусом r) величины ΔGоб и ΔGп. Обозначим через Gж энергию Гиббса расплава, приходящуюся на единицу объема, а через Gк — соответствующую энергию Гиббса кристалла. Тогда
,
(6.9)
где Δqоб - удельное изменение объемной энергии при фазовом переходе.
Известно, что ΔG = ΔH -TΔS, а для энтропии плавления можно принять Sпл=Нпл/Тпл. Отсюда получим
(6.10)
.
(6.11)
Аналогичным образом получим выражение для ΔGп:
,
(6.12)
где σк-ж - межфазная энергия границы раздела кристалл - расплав.
Тогда общее изменение энергии Гиббса запишется в виде
.
(6.13)
Из выражений (6.9), (6.12), (6.13) следует, что ΔGоб, ΔGп и ΔG являются функциями радиуса зародыша r, зависимости которых представлены на рис. 6.9. Максимуму на кривой ΔG соответствует критический радиус зародыша r*. Критическим считается зародыш такого размера, при котором вероятности отрыва и присоединения атома к нему равны.
Зародыш, который меньше этой величины, нестабилен и растворяется вновь, так как его увеличение связано с повышением энергии Гиббса. Зародыш с радиусом больше r*, напротив, устойчив и способен расти, так как при присоединении к нему атомов ΔG уменьшается. Зародыши с r<r* называются субзародышами, а с r>r*— сверхзародышами. Величина r* находится из условия
.
(6.14)
Отсюда получим
.
(6.15)
После подстановки выражения (6.15) в выражение (6.13) получим уравнение для изменения энергии Гиббса при образовании зародыша критического размера:
.
(6.16)
Критический радиус r* является функцией переохлаждения ΔT. Чем больше ΔT, тем меньше становится r*, т. е. чем больше переохлаждение, тем меньше по размерам могут быть зародыши, которые способны расти.
Поскольку изменение ΔG на стадии образования критического зародыша положительно (рис. 6.9), то для возникновения зародышей необходимо затратить работу, так называемую работу образования зародышей A3. Величина этой работы зависит от величины зародыша. Работа образования зародыша должна производиться вплоть до достижения критического размера r*. В этом случае Aз=ΔG*. Только после этого система начнет самопроизвольно переходить в устойчивое состояние с выделением энергии.
Анализ процесса гомогенного зарождения показывает, что работа образования зародыша является не единственным фактором, определяющим скорость его образования. Для вязких расплавов скорость этого процесса зависит еще и от вероятности перехода атомов из расплава в зародыш, т. е. вероятности преодоления энергетического барьера путем диффузии атомов в переходном слое. Тогда скорость образования зародышей запишется в виде
,
(6.17)
где ΔGдиф - энергия Гиббса процесса диффузии.
Зависимость (6.17) имеет максимум (рис. 6.10). Наличие максимума скорости образования зародышей можно объяснить следующим образом. С понижением температуры (т. е. с увеличением переохлаждения ΔТ) работа образования зародышей уменьшается, что приводит к увеличению скорости образования зародышей. Вместе с тем происходит повышение вязкости расплава, что уменьшает диффузионную подвижность атомов в нем. Это приводит к уменьшению скорости образования зародышей.
Гетерогенное образование зародышей. При гетерогенном зарождении необходимо учитывать силы межатомного взаимодействия между частицами как внутри маточной фазы, так и с подложкой. Соотношение этих сил и определяет краевой угол смачивания капельки (зародыша) θ материнской фазы на подложке (рис. 6.11).
Рис.6.10. Зависимость скорости образования зародышей от переохлаждения расплава: 1 – диффузионная (вязкостная) область; 2 – область, в которой процесс кристаллизации лимитируется зарождением; 3 – метастабильная область
Рассмотрим термодинамическую теорию гетерогенного образования зародышей на примере кристаллизации из паровой фазы. Схема взаимодействия пара и подложки дана на рис. 6.12. Представим атомно-гладкую подложку, находящуюся в среде однородного пересыщенного пара или в условиях, когда на нее падает молекулярный пучок. В этом случае предполагается возникновение зародыша критических размеров (рис. 6.12, положение 4), который способен расти самопроизвольно с уменьшением энергии Гиббса.
Рис.6.11. Форма зародышей кристаллической фазы: а – шаровой сегмент; б – шестигранник; в - диск
Форма зародышей, а значит, и их энергия образования Гиббса зависят от поверхностной энергии подложки. У кристаллов с изотропной (или слабо анизотропной) поверхностной энергией зародыш имеет форму сферического купола (рис. 6.11,а). У более анизотропных кристаллов критические зародыши могут быть в форме диска или многогранника (рис. 6.11,в, б). Для простоты рассмотрим куполообразный сферический зародыш. Если учитывать лишь поверхностные энергии и считать, что даже малый зародыш обладает объемными свойствами, то форма зародыша зависит от контактного угла θ, определяемого из капиллярной теории выражением
,
(6.18)
где σп-к, σк-з, σз-п - межфазные энергии в системе пар - кристалл, кристалл - зародыш, зародыш - пар соответственно.
Выведем выражение для критического значения энергии Гиббса ΔGi*. Энергия Гиббса образования зародыша, содержащего i атомов, состоит из двух слагаемых — объемного и поверхностного. Складывая энергии, относящиеся к разным поверхностям раздела купола и используя выражение (6.18), получим для поверхностного члена
(6.19)
где f(θ)– геометрический фактор, определяемый из выражения
.
(6.20)
Рис.6.12. Схема взаимодействия пара и подложки: 1 – атом в паре; 2 – адсорбированный атом; 3 – адсорбированная двухатомная частица; 4 – зародыш докритического размера; 5 – двухатомная частица в паре; А – процесс адсорбции; Б – поверхностная диффузия; В – рост зародыша за счет поверхностной диффузии атомов; Г – рост зародыша за счет атомов из паровой фазы
Объемный член определяется выражением
,
(6.21)
где Δqa — удельное объемное изменение энергии Гиббса при образовании зародыша из пересыщенного адсорбционного слоя адатомов, определяемое как
,
или
,
(6.22)
где
Vа
— атомный объем;
—
истинная и равновесная концентрации
адатомов в адсорбционном слое
соответственно.
Заметим, что для достаточно больших концентраций адатомов вместо поверхностных концентраций следует рассматривать поверхностные активности.
В рассматриваемом случае для равновесия между концентрацией адатомов в паре и в адсорбционном слое справедливо соотношение (6.7). Таким образом, Δqа выражает степень пересыщения в системе. Общее изменение энергии Гиббса с учетом уравнений (6.19) и (6.21) запишется в виде
.
(6.23)
Радиус критического зародыша находится из условия, определяемого выражением (6.14):
.
(6.24)
Подставив уравнение (6.24) в уравнение (6.23), получим выражение для изменения энергии Гиббса при образовании критического зародыша:
(6.25)
Таким образом, изменение свободной энергии образования критического зародыша тем меньше, чем больше движущая сила и чем меньше значение контактного угла θ. Присоединение к критическому зародышу еще одного или нескольких атомов приводит к образованию уже устойчивого центра кристаллизации. При этом энергия Гиббса этого центра кристаллизации уменьшается (рис. 6.13).
Сравнивая
выражения для энергии Гиббса образования
зародыша критического размера при
гомогенной и гетерогенной кристаллизации,
можно записать
Между выражениями (6.15) и (6.25) для радиуса критического зародыша при гомогенной и гетерогенной кристаллизации существует формальное тождество. Однако, так как гетерогенное образование зародышей происходит при значениях Δqоб и Δqа, отличающихся от соответствующих значений, при гомогенном образовании зародышей критические радиусы для обоих типов зародышей различны.
|
|
Рис.6.13. Зависимость энергии Гиббса образования зародышей (а) и концентрации зародышей (б) от числа атомов в зародыше: 1 – равновесная концентрация зародышей; 2 – их действительная концентрация
Определим
скорость образования зародышей. На
поверхности подложки возникают скопления
атомов различных размеров: докритического
(субзародыши), критического и закритического
(сверхзародыши). Скорость образования
зародышей критического размера для
квазистационарного случая определяется
как произведение равновесной концентрации
критических зародышей
на частоту присоединения атомов к
зародышуω*:
,
(6.26)
где Z — фактор неравновесности (фактор Зельдовича), учитывающий отношение концентрации критических зародышей в квазистационарном состоянии к их концентрации в состоянии метастабильного равновесия и градиент концентрации. Для случая двумерного зародыша
(6.27)
и обычно имеет величину от 10-2до 10-1.
Для
определения величины
рассмотрим
общуюG
системы подложка
- адсорбат. Эта энергия
складывается из суммы произведений
числа агрегатов разных размеров (ni)
на соответствующие
энергии образования Gi
и из энтропийного члена Sсм,
обусловленного распределением этих
агрегатов по n0
позициям на единичной
площадке подложки (плотность узлов
адсорбции):
(6.28)
Концентрацию зародышей критического размера в условиях равновесия находим из условия минимума G по их концентрации (рис. 6.13, а):
(6.29)
и получаем
(6.30)
Теперь
определим ω*.
Частота присоединения атомов к зародышу
определяется произведением числа
адатомов, примыкающих к докритическому
скоплению атомов (субзародышу)
,
на частоту диффузионного перескока
адсорбированного атома
,
где
— длина периферии купола:а
— расстояние между позициями адсорбции
(их число равно n0);
—частота
колебаний адсорбированного атома
(~1012
. . . 1013
с-1);
—
энергия активации поверхностной
диффузии:
.
(6.31)
Скорость поступления атомов из пара (однородная паровая фаза или молекулярный пучок), называемая плотностью потока jкон, выражается в кинетической теории газов уравнением (6.12).
Концентрация
адатомов связана с плотностью потока
пара и временем жизни адатомов выражением
.
Отсюда следует, что
.
(6.32)
Таким образом, скорость образования зародышей критического размера
(6.33)
где А1 принимается как константа, слабо зависящая от температуры и давления.