
- •Теория полупроводникового лазера
- •1. Фотофизические свойства полупроводниковых лазеров
- •Энергетические состояния в полупроводниках
- •1.2 Заполнение уровней при тепловом равновесии
- •1.3. Излучательные и безизлучательные переходы
- •1.4. Квазиуровни Ферми
- •2. Накачка полупроводниковых лазеров
- •2.1. Лазер на гомопереходе
- •2.2. Лазер на двойном гетеропереходе
- •3. Полупроводниковые лазеры и их характеристики
- •4. Применения полупроводниковых лазеров
- •5. Упрощенная теория полупроводникового лазера
- •Лазерная указка
- •Определение постоянной Планка
- •Порядок выполнения эксперимента
2.2. Лазер на двойном гетеропереходе
Ограничения, отмеченные в предыдущем разделе, сдерживали широкое использование полупроводниковых лазеров до тех пор, пока не были предложены вначале одинарные гетеропереходы, а вскоре после этого — двойные гетеропереходы. Мы ограничимся тем, что рассмотрим последний тип перехода, поскольку только он обычно и применяется. Чтобы проиллюстрировать его свойства, на рис. 6.43 приведен пример лазерной структуры с двойным гетеропереходом в GaAs. В этом диоде реализованы два перехода между различными материалами [Al0.3Ga0.7As(p) — GaAs и GaAs — Al0.3Ga0.7As(n)]. Активная область представляет собой тонкий слой GaAs (0,1 - 0,3 мкм). В такой структуре диода пороговую плотность тока при комнатной температуре можно уменьшить примерно на два порядка (т.е. до ~103 А/см2) по сравнению с устройством на гомопереходе. Таким образом, становится возможной работа в непрерывном режиме при комнатной температуре.
Уменьшение пороговой плотности тока происходит благодаря совместному действию трех следующих факторов:
1) Показатель преломления GaAs (n1 ≈ 3,6) значительно больше показателя преломления Al0.3Ga0.7As (n2 ≈ 3,4) что приводит к образованию оптической волноводной структуры (рис 6.44, а). Отсюда следует, что лазерный пучок будет теперь сосредоточен главным образом в слое GaAs, т. е. в области, в которой имеется усиление.
2) Ширина запрещенной зоны Eg1 в GaAs (~1,5 эВ) значительно меньше, чем ширина запрещенной зоны Eg2 в Al0.3Ga0.7As (~1,8 эВ). Поэтому на обоих переходах образуются энергетические барьеры, которые эффективно удерживают* инжектированные электроны и дырки в активном слое (рис. 6.44,0). Таким образом, для данной плотности тока концентрация электронов и дырок в активном слое возрастает, а значит, увеличивается и усиление.
3) Поскольку Eg2 значительно больше, чем Eg1 лазерный пучок с частотой ν ≈ Eg1/h почти не поглощается в Al0.3Ga0.7As. Поэтому крылья поперечного профиля пучка, заходящие как в р-, так и в n-области (рис. 6.44, б), не испытывают там сильного поглощения.
До сих пор мы рассматривали лазер с двойным гетеропереходом на GaAs. Длина волны его излучения (λ = 0,85 мкм) попадает в диапазон, в котором мы имеем минимум потерь в оптическом волокне из плавленого кварца (первое окно пропускания). В настоящее время усиленно разрабатываются лазеры с двойной гетероструктурой, работающие на длине волны либо λ ≈ 1,3 мкм, либо λ ≈ 1,6 мкм, на которых наблюдаются два других минимума потерь оптического волокна (второе и третье окна пропускания), поскольку потери в этих минимумах существенно меньше.
Здесь наибольший интерес в качестве активной среды представляет четырехкомпонентный сплав In1 xGaxASyP1-y, где р~ и n-области переходов выполняются из бинарного соединения InP. В этом случае добавляется новое условие, которому необходимо удовлетворить: постоянная решетка четверного сплава должна совпадать с постоянной решетки InP (с точностью порядка 0,1 %). Если это условие не выполняется, то слой четверного сплава, эпитаксиально выращенный на подложке из InP, приведет к достаточно сильным напряжениям, которые рано или поздно разрушат переход. Если выбрать значения параметров х и у четверного сплава таким образом, чтобы у ≈ 2,2х, то решетка четверного сплава согласуется с решеткой InP. Выбирая соответствующим образом х можно получать длину волны излучения в диапазоне 0,92—1,5 мкм.