
- •Тема 2. Фундаментальні основи легування напівпровідників
- •Тема 3. Літографія в мікро- і наноелектроніці.
- •Тема 4. Технологічні, схемо технічні і фізичні обмеження на зменшення активних елементів і ріст ступеня інтеграції
- •Тема 10. Фундаментальні явища нанофізики. Квантове обмеження.
- •Тема 11. Транспорт носіїв заряду вздовж потенціальних бар’єрів.
- •Тема 12. Тунелювання носіїв заряду через потенціальні бар’єри.
- •Тема 13. Спін-залежний траспорт носіїв заряду.
Тема 12. Тунелювання носіїв заряду через потенціальні бар’єри.
Тунелювання електронів через потенціальний бар’єр – типовий вияв його хвильових властивостей. В низько розмірних структурах якище має ряд особливостей, пов’язаних з дискретністю перенесеного електроном заряду та додатковим квантуванням енергетичних станів, зумовленого квантовим обмеженням. Ці особливості проявляються в одно електронному тунелю ванні і в резонансному тунелюванні.
Одноелектронне тунелювання
В провіднику струм зумовлений рухом електронів. Хоча заряд електор. дискретний, однак загальний заряд переноситься неперервно, оскільки визначається сумою зміщень всіх електронів відносно іонів. Ці зміщення можуть бути довільно малі.
В структурі з двох провідників, розділених тонким діелектриком, електричний заряд переноситься комбіновано: неперервно в провіднику і дискретно через діелектрик.
Схематично подібно до відриву краплини води. Початково границя напівпровідника – діелектрика електронейтральна. При подачі наруги заряд накопичується на границі. Якщо величина заряду достатня для відриву і тунелювання одного електрону, то після тунелювання система повертається в початковий стан.
Структуру
з одним тунельним бар’єром
можна
представити у вигляді еквівалентної
схеми, де
– ємність
утвореного діелектриком конденсатора,
– тунельний опір.
В результаті тунелювання одного електрону.
Зміна енергії конденсатора:
де
- характеристична одно електронна
зарядова енергія (енергія зарядженого
одним електроном тіла з ємністю
).
Тунелювання електронів може відбуватися,
коли енергія системи буде зменшуватися
,
тобто система перейде в стан з меншою
енергією. Цю умову можна записати як
.
Це
явище називається кулонівською
блокадою.
Зміну енергії при тунелю ванні можна
записати як різницю енергії конденсатора
і роботою джерела живлення
. При
отримаємо вираз для порогової напруги:
, яка
спостерігається на ВАХ такої структури.
Спостереження
одно електронних зарядових ефектів
можливе при температурах
(що
виключити вплив теплових флуктуацій
(гелієві температури)). Інший підхід –
зменшити
, що можливо лише для квантових точок.
Структури з двома тунельними бар’єрами.
Еквівалентна схема:
Сама
структура: це квантова точка між двома
провідними електродами, яка має ємність
і ємнісний зв'язок
з електродами.
За
рахунок квантування енергії в квантовій
точці рівень Фермі може відрізнятись
від рівнів Фермі у провідниках на
величину
,
кратну
.
Це
призводить до асиметрії ВАХ таких
структур. Дискретність енергетичних
станів електронів в острівці зумовлена
тим, що зміна заряду може відбуватися
тільки дискретно з приходом чи вибуттям
одного електрону.
.
Електрон,
який тунелював у квантову точку з лівого
електроду індукує поляризаційний заряд
на правому бар’єрі.
Щоб його перебороти і пройти кулонівську
блокаду, зовнішня напруга повинна бути
, що
приводить до асиметрії ВАХ.
У
випадку, коли бар’єри будуть неідентичні
(різна прозорість тунельних бар’єрів),
ВАХ набуває специфічної східчастої
форми – таку характеристику називають
кулонівськими
сходинками.
Це відбувається внаслідок відмінності
швидкостей тунелювання (заряд електрона
в
може перебувати довше, перш ніж перейде
в інший електрод). Накопичення заряду
на стоковому бар’єрі
зумовлює спад напруги, що формує сходинку
на ВАХ. Наступні сходинки будуть
формуватись при напругах, які забезпечують
більшу кількість електронів, які можуть
одночасно перебувати в
Тобто
кожна сходинка відповідає зміні заряду
,
а по напрузі
, де
.
Одноелектронні приладу – транзистор.
Двобар’єрні структури, які передбачають можливість керування їх властивостями шляхом впливу на електронні стани в та електродах використовуються в одно електронних транзисторах.
Вістря
емітера і колектора та острівцевий
електрод виготовлені в Al.
Термічне окислення Al
вістря забезпечує тонку діелектричну
плівку
, яка забезпечує потенціальні бар’єри
з ємністю
та тунельними опорами
.
Затвор «ємнісним» способом з’єднаний
із острівцем
.
Напруга на затворі
.
Умова кулонівської блокади в тунельному контакті 1:
де
Умова кулонівської блокади тунелювання в контакті 2:
В заштрихованій області кулонівська блокада не дозволяє тунелювання. Збільшення напруги на затворі дозволяє тунелювання, а значить прходить струм. При збільшенні напруги на затворі провідність буде змінюватись періодично. Це явище називається кулонівськими осциляціями. Східчаста зміна кулькості електронів на острівці відповідає максимумам провідності структури.
Обмеження одноелектронних пристроїв:
Робоча температура обмежена областю низьких температур. Щоб вони працювали при кфмнатних, розміри мають становити <<10 нм.
ОЕТ високий вихідний опір через високий опір тунельних переходів >
(25,8 кОм)
Напруга витік-сток (емітер-колектор) для ОЕТ має бути менша, ніж напруга затвору для надійного контролю роботи приладу
Характеристики ОЕТ залежать від неконтрольованих зарядів поблизу острівця - . Заряд поляризує острівець і змінює умови кулонівської блокди.
Експеремент Фултона і Долана
Резонансне тунелювання.
Тунелювання електронів в низько вимірній структурі визначається не тільки характеристиками потенціальних бар’єрів, але й дозволеними енергетичними станами в структурі.
В низько розмірній структурі, обмеженій двома потенціальними бар’єрами, спостерігається різке зростання тунельного струму при спів падінні рівня Фермі в емітері з дискретними рівнями в низько вимірній структурі. Це явище називається резонансним тунелюванням. Воно приводить до появи ВАХ ділянки з від’ємним диференціальним опором, що використовується В НВЧ генераторах.
Типовими структурами для спостереження ефекту резонансного тунелювання є квантоів колодязі.
В
квантовій структурі дискретні рівні
енергії визначаються розміром структури:
.
Коли зовнішньої напруги немає, то
вище, ніж рівень Фермі в електродах,
тунельний струм близький до нуля. Коли
прикласти напругу
,
то енергетичні рівні викривляються і
рівень
в низько вимірній структурі понижується;
починає зростати тунельний струм, який
стає максимальний при спів падінні
рівня Фермі в емітері з
(електрони тунелюють із збереженням
своєї енергії та імпульсу). Завдяки
цьому електрони не затримуються в
квантовій ямі і переходять в колектор.
Відбувається резонансне проходження
електронів через колодязь за напруги
(для симетричних бар’єрів)
При подальшому зниженні рівня електрони не можуть тунелю вати із збереженням енергії та імпульсу. Вони затримуються у квантовій ямі і струм через структуру зменшується, створюючи ділянку з від’ємним диференціальним опором на ВАХ. Подальше збільшення напруги приводить до зростання надбар’єрної термічно активованої емісії електронів і росту струму через структуру.
Прилади на резонансному тунелюванні.
Явище дозволяє створювати діоди і транзистори, які працюють з часами переключення – одиниці чи деякі долі наносекунди (ТГц).
Резонансно-тунельний діод – періодична структура з послідовних квантових колодязів. Особливість – наявність від’ємного диференціального опору.
Додавання керуючого електроду створює резонансно-тунельний транзистор. Потенціал, який подається на додатковий електрод, зміщує ВАХ вздовж осі струму.
Конструктивно резонансно-тунельні прилади виконуються у вигляді надграток.