
- •1. Цель и задачи курса. Роль приборно-технологического моделирования в проектировании интегральных микросхем.
- •2. Типы и функциональный состав моделей технологических операций.
- •3. Ионная имплантация, механизмы торможения ионов.
- •4. Ионная имплантация, теория лшш.
- •5. Ионная имплантация, диффузионная модель Бирсака.
- •5. Эффект каналирования.
- •7. Системы координат при моделировании ионной имплантации.
- •8. Принцип суперпозиции при расчете функций распределения примеси.
- •9. Аналитические аппроксимации распределения ионов. Функции Гаусса.
- •10. Аналитические аппроксимации распределения ионов. Распределения Пирсона-IV.
- •11. Аналитические аппроксимации распределения ионов, учитывающие эффект каналирования.
- •12. Особенности моделирования ионной имплантации в многослойных мишенях.
- •13. Механизмы диффузии, парная диффузия примесь-вакансия.
- •1 4. Уравнения диффузии примеси, макроскопическое и микроскопическое определение коэффициентов диффузии.
- •15. Расчет коэффициента диффузии для моновакансионного механизма.
- •16. Коэффициент диффузии с учетом различных зарядовых состояний.
- •17. Модель связанной диффузии, основные уравнения.
- •18. Модель связанной диффузии, учет протекающих реакций.
- •19. Модель связанной диффузии, уравнения непрерывности.
- •20. Граничные и начальные условия в моделировании диффузии.
- •21. Кластеры и преципитаты.
- •22. Особенности диффузии Бора.
- •23. Особенности диффузии донорных примесей.
- •24. Совместная диффузия примесей.
- •26. Особенности моделирования диффузии в поликристаллическом кремнии.
- •27. Термическое окисление кремния. Модель Дила-Гроува.
- •28. Допущения при выводе модели Дила-Гроува.
- •29. Термическое окисление кремния. Константы линейного и параболического роста.
- •30. Особенности строения пленок оксида кремния. Вязкое течение SiO2.
- •31. Основные этапы численного моделирования процесса окисления. Модель Массуда для начального этапа процесса окисления.
- •32. Моделирование окисления в присутствии маски. Аналитическая модель.
- •33. Моделирование окисления в присутствии маски. Граничные условия.
- •35. Моделирование процесса диффузии в присутствии подвижных границ.
- •36. Моделирование сегрегации примеси.
- •38. Алгоритм струны в моделировании травления и осаждения слоев.
- •39. Расчет процесса травления для заданного показателя анизотропии.
- •40. Моделирование осаждения для различных типов источников частиц.
- •41. Модель баллистического осаждения.
- •42. Моделирование процесса литографии. Основные этапы численного моделирования.
- •43. Расчет изображения на поверхности фоторезиста.
- •44. Расчет интенсивности освещения в пленке фоторезиста.
- •45. Моделирование процесса проявления.
- •46. Базовые уравнения численного моделирования приборов. Дрейфово-диффузионное приближение.
- •47. Базовые уравнения численного моделирования приборов. Термодинамическая и гидродинамическая модели.
- •48. Дискретизация базовых уравнение. Методы построения сетки.
- •49. Проблемы устойчивости и сходимости численного решения. Коэффициент усиления ошибки.
- •50. Оценка качества сетки.
1 4. Уравнения диффузии примеси, макроскопическое и микроскопическое определение коэффициентов диффузии.
1ый закон Фика:
Где J - поток примеси, D – коэффициент диффузии (в макроскопичесеком определении), N – концентрация примеси.
С учетом поля: J = - D gradN + ZμNIE
Z – зарядовое состояние иона примеси, μ – подвижность примеси, NI – концентрация электрически активной примеси, E – напряженность электрического поля
У
равнение
непрерывности для процесса переноса
примеси с учетом электрических полей
имеет вид:
и
Учитывая, что получим
Второй закон Фика вытекает из уравнения непрерывности для одномерного случая без учета электрических полей: dN/dt = Dd2N/dx2
М
икроскопическое
определение D
– среднеквадратичное смещение атомов
примеси за время
:
Температурная зависимость коэффициента диффузии описывается законом Аррениуса:
D = D0exp[-EA/kT], где EA- энергия активации, D0 – предэкспоненциальный множитель.
15. Расчет коэффициента диффузии для моновакансионного механизма.
Р
ассмотрим
перемещение собственных атомов
кристаллической решетки, или самодиффузию,
в присутствии вакансий. Равновесная
концентрация нейтральных моновакансий,
соответствующая минимуму свободной
энергии решетки G=H
– TS,
где H
– энтальпия, S
– энтропия, T
– абсолютная температура равна:
Г
де
Nsi
- концентрация
узлов решетки кремния 5·1022см-3,
ΔSf
и ΔHf
– изменение энтропии и энтальпии решетки
в пересчете на одну вакансию, или
энтропия и энтальпия формирования
нейтральной вакансии, соответственно.
Коэффициент самодиффузии зависит от
вероятности успешных перескоков атома
в вакансию через барьер ΔGm.
Пусть v0
- частота прыжков атома в узле решетки,
соседнем с вакансией. Тогда частота
успешных попыток перескока через барьер
равна
Δ
Sm
и ΔHm
–энтропия и энтальпия миграции вакансий
В
решетке типа алмаза
. Согласно
микроскопическому определению
коэффициента диффузии, учитывая Δx = Δy
= Δz
= a/4,
множитель 4, определяющий число возможных
путей миграции в решетке, можно записать
коэффициент диффузии нейтральных
моновакансий:
К
оэффициент
самодиффузии для рассматриваемого
механизма равен
16. Коэффициент диффузии с учетом различных зарядовых состояний.
Экспериментальные исследования позволили идентифицировать в кремнии кроме нейтральных вакансий три типа ионизованных вакансий: акцепторные однократно и двукратно заряженные V- и V= и донорные V+. Используя статистику Ферми – Дирака, можно рассчитать концентрацию вакансий в различных зарядовых состояниях.
gA – фактор вырождения (gA- и gA+ = 2 и gA= =1)
В
невырожденном кремнии энергия Ферми
связана с концентрацией носителей
соотношением n/ni
= exp[(EF
– Ei)/kT],
тогда:
;
Где Nvi – конц. в собств. п/п.
В
предположении независимой диффузии по
вакансиям четырех типов коэффициент
самодиффузии можно выразить в виде
суперпозиции коэффициентов самодиффузии
по различным зарядовым состояниям
С
учетом полученных выражений для
концентраций вакансий окончательно
получаем
- коэффициенты диффузии по соответствующим вакансиям в собственном полупроводнике.