
- •Особые свойства электронных приборов
- •Глава 1.
- •Общие сведения о полупроводниковых материалах
- •Энергетические зонные диаграммы кристаллов
- •Прохождение тока через металлы
- •Собственная проводимость полупроводников
- •Примесная проводимость полупроводников
- •Электронная проводимость. Полупроводник и-типа
- •Дырочная проводимость. Полупроводник /7-типа
- •Однородный и неоднородный полупроводник
- •Неравновесная концентрация носителей
- •Прохождение тока через полупроводники
- •1.7. Уточнение понятий «собственные» и «примесные» полупроводники
- •Глава 2.
- •2.1. Функция распределения Ферми-Дирака
- •Плотность квантовых состояний
- •Концентрация носителей в зонах
- •2.4. Собственный полупроводник
- •2.5. Примесный полупроводник. Смещение уровня Ферми
- •Глава 3.
- •Потенциальный барьер
- •3.1.4. Электронно-дырочный переход при внешнем смещении
- •Вольт-амперная характеристика р-п перехода
- •3.2.1. Пробой р-п перехода
- •Глава 4.
- •4.1.2. Параметры диода
- •4.2. Разновидности диодов.
- •4.2.2. Тепловой расчет полупроводниковых приборов
- •Кремниевые стабилитроны (опорные диоды)
- •4.2.4. Импульсные диоды
- •Туннельные и обращенные диоды.
- •Обращенные диоды
- •4.3. Контакт металл - полупроводник. Диоды Шоттки
- •4.3.1 Выпрямляющий контакт металл - полупроводник и-типа
- •4.3.2. Выпрямляющий контакт металл - полупроводник /7-типа
- •4.3.3. Диоды Шоттки
- •4.3.4. Невыпрямляющие контакты металл - полупроводник
- •4.4. Обозначение (маркировка) несиловых диодов
- •Глава 5.
- •Устройство и принцип действия
- •5.2. Основные соотношения для токов.
- •5.3. Три схемы включения транзистора
- •5.6. Малосигнальные параметры и эквивалентные схемы транзистора
- •Зависимость внутренних параметров транзистора от режима и от температуры
- •Четырехполюсниковые a-параметры транзистора и эквивалентная схема с /«-параметрами
- •Определение /I-параметров по статическим характеристикам
- •Связь между внутренними параметрами и /(-параметрами
- •Частотные свойства транзисторов. Дрейфовый транзистор
- •Частотно-зависимые параметры
- •Дрейфовый транзистор
- •Глава 6.
- •6.4.1. Мноп-транзистор
- •6.4.3. Двухзатворный моп-транзистор
- •6.5. Обозначение (маркировка) и типы выпускаемых транзисторов
- •Глава 7.
- •7.2. Закрытое и открытое состояние тиристора 7.2.1. Закрытое состояние тиристора (ключ отключен)
- •7.4. Параметры тиристора
- •Типы и обозначения силовых тиристоров
- •Глава 8.
- •8.1. Общие сведения о микросхемах 8.1.1. Классификация микросхем
- •8.2. Сведения о технологии получения имс
- •8.2.1. Исходные материалы
- •Планарно-эпитаксиальный цикл
- •8.3.1. Эпитаксия
- •8.3.2. Окисление поверхности кремния
- •8.3.3. Первая (разделительная) диффузия
- •Вторая (базовая) и третья (эмиттерная) диффузии
- •Металлизация (межсоединения)
- •Особенности и перспективы развития интегральных схем
- •Особенности имс
Министерство
образования Российской Федерации
Пермский государственный технический
университет
И.И.
Бобров
ФИЗИЧЕСКИЕ
ОСНОВЫ ЭЛЕКТРОНИКИ
Утверждено Редакционно-издательским
советом университета в качестве учебного
пособия
Пермь
2003
УДК
621.382 Б72
Рецензенты:
Вице-президент
Пермского регионального отделения
«Западно-Уральская академия
информациологии» Международной Академии
информатизации д-р техн. наук, проф. А,
А. Южаков;
Доц.
кафедры «Автоматика и телемеханика»
Пермского
государственного технического
университета, канд. техн. наук Э.
С. Заневский
Бобров
И.И.
Б
72 Физические основы электроники: Учеб.
пособие / Перм. гос. техн. ун-т. - Пермь,
2003. - 158 с.
ISBN5-88151-173-5
Рассмотрены
физические основы проводимости
полупроводников, физика полупроводниковых
приборов и интегральных микросхем,
основные свойства, характеристики
и параметры распространенных
полупроводниковых приборов. Кратко
рассмотрены технологические вопросы
получения полупроводниковых приборов
и микросхем. Дано представление об
уровне развития современной
микроэлектроники, ее проблемах и
перспективах развития.
Предназначено
для студентов специальностей «Управление
и информатика в технических системах»,
«Сети связи и системы коммутации».
Ориентировано на студентов заочного
обучения.
УДК
621.382
ISBN5-88151-173-5
©
Пермский государственный технический
университет, 2003
ВВЕДЕНИЕ
Электроника
- это область науки, техники и производства,
охватывающая исследование и разработку
электронных приборов и принципов их
использования [1].
Микроэлектроника
-
это раздел электроники, охватывающий
исследование и разработку качественно
нового типа электронных приборов -
интегральных микросхем - и принципов
их применения.
Развитие
электроники
Как
самостоятельная область науки и техники
электроника начала развиваться на
границе XIX и XX вв., после открытия
термоэлектронной эмиссии (1883 г.),
фотоэлектронной эмиссии (1888 г.), разработки
вакуумного диода (1903 г.) и вакуумного
триода (1904 г.).
На
становление и дальнейшее развитие
электроники решающее влияние оказало
изобретение радио (1885 г.). Вначале
электроника развивалась только как
радиоэлектроника, обслуживающая нужды
радиотехники. Совершенствовались
радиолампы. В 20-х годах XX в. в России, в
Нижегородской радиолаборатории,
под руководством М.Н. Бонч-Бруевича был
освоен выпуск триодов с водяным
охлаждением, которые позволили создать
мощные передающие радиостанции. Большую
роль в развитии электроники сыграла
радиолокация, широко использовавшаяся
в годы второй мировой войны.
Нерадиотехническое
применение электроники долгое время
развивалось под сильным влиянием
радиоэлектроники, из которой
заимствовались основные элементы,
схемы и методы. Однако дальнейшее
развитие нерадиотехнических применений
электроники пошло по самостоятельному
пути, прежде всего в области ядерных
исследований (с 1943 г.), вычислительной
техники (с 1949 г.) и массовой автоматизации
производственных процессов. Особенно
важным этапом в развитии электроники
является послевоенный период.
Типичная
конструкция электронного устройства
в конце войны - металлическое шасси
с закрепленными на нем различными
.элементами. Основным электронным
прибором была электронная лампа.
Электронные устройства такой конструкции
потребляли много энергии, выделяя много
тепла, имели большой вес и габариты.
Средняя
плотность монтажа была чрезвычайно
низкой - до
01
эл/см3.
Развитие авиации и ракетостроения
особенно остро поставило задачи
значительного уменьшения габаритов
и веса, снижения потребляемой
мощности, уменьшения стоимости.
Применение малогабаритных ламп
4
и
печатного монтажа увеличило среднюю
плотность монтажа до 0,1
эл/см3.
Сделать монтаж более компактным при
использовании электронных ламп было
невозможно из-за трудности отвода
выделяемого тепла. Нужны были принципиально
новые элементы и принципы конструирования.
Такими новыми элементами явились
полупроводниковые приборы, которые
открыли новые широкие возможности
для конструирования аппаратуры.
Производство
полупроводниковых приборов начало
развиваться бурными темпами. Транзистор
был изобретен в 1948 г. в США. В 1955 г. в мире
выпускалось 350 типов транзисторов, а в
1963 г. - уже 3000 типов. В 1956 г. только в США
изготовлялось 14 млн транзисторов в
год, а в 1961 г. в Японии - 200 млн транзисторов
в год.
В
нашей стране огромный вклад в развитие
теории полупроводниковых приборов
внесла школа академика А.Ф. Иоффе.
Полупроводниковые
приборы не требуют подогрева, потребляют
очень мало энергии, имеют малые габариты
и вес.
Все
это позволило сделать монтаж максимально
компактным, резко снизить габариты и
вес оборудования. Появился новый тип
конструкции - модуль, в котором
использовались малогабаритные детали.
Плотность монтажа достигла 2,5 эл/см3.
Однако электронная аппаратура
совершенствовалась настолько быстро,
что и этот уровень уже не удовлетворял
требованиям. Но дальнейшее повышение
плотности монтажа было невозможным,
так как детали занимали почти весь
объем конструкции. Однако при этом
большая часть объема была все же занята
арматурой и защитными корпусами.
Например, у транзистора «активная
часть» занимала не более
%
объема транзистора. Кроме того,
уменьшение размеров элементов пришло
в противоречие с техникой навесного
монтажа, которая стала носить
ювелирный характер.
Последние
50 лет (начиная с 50-х годов) происходит
интенсивное совершенствование
электронных приборов, являющихся
элементной базой радиоэлектроники
(РЭ). В 50-е годы происходило бурное
развитие производства полупроводниковых
приборов - транзисторов и диодов. Этот
период называют этапом дискретной
полупроводниковой электроники или
дискретных полупроводниковых компонентов.
Интенсивное развитие полупроводниковой
электроники привело к появлению в 60-е
годы новых полупроводниковых приборов
- интегральных микросхем (ИС). Они
получили широкое распространение
и в настоящее время являются основной
элементной базой РЭ. Область РЭ, связанную
с научно-технической и производственной
стороной изготовления и применения
ИС, называют микроэлектроникой.
Аппаратура, выполненная на базе ИС,
получила название микроэлектронной
аппаратуры (МЭА).
Так
что же такое ИС?
Достаточно
полно отражает содержание понятия ИС
такая формулировка: ИС
- это
функциональный узел (блок), состоящий
из ряда активных
и
пассивных элементов, изготовленных в
едином технологическом цикле в одном
кристалле кремния и соединенных между
собой межсоединениями (внутренними
соединениями), изготовленными в том же
технологическом цикле.
Термин
«схема» приобрел смысл «устройство»,
«объект» (как термины «транзистор»,
«диод»), а не «электрическая схема
устройства» с условным обозначением
входящих в него элементов. Термин
«интегральная» Означает факт объединения
(интеграции) группы радиоэлементов в
одном устройстве, неразделимом на
составные части. Кроме термина
«интегральная микросхема» используются
его синонимы «интегральная схема» и
просто «микросхема».
Таким
образом, микросхема является «строительным
кирпичиком» (не разделяющимся на части),
из которого могут строиться более
сложные устройства. С этой точки зрения
микросхема - новый электронный прибор,
правда, во много раз сложнее транзисторов
и диодов.
Важной
особенностью микроэлектроники является
разработка и внедрение методов
предельного уменьшения физических
размеров элементов микросхемы:
микрорезисторов, диодов, транзисторов.
Это приводит к увеличению функциональных
возможностей микросхем, повышению их
надежности и быстродействия. Так,
возможность размещения в одном кристалле
5000 транзисторов позволила создать
наручные электронные часы. Возможность
размещения 20 ООО транзисторов при таких
же размерах кристалла вызвала
появление микрокалькуляторов.
Значительный
прогресс в электронике заметен в
последние десятилетия: созданы
большие и сверхбольшие интегральные
схемы (БИС и СБИС). В этих микросхемах
количество элементов достигает,
нескольких сотен тысяч, а их минимальные
размеры составляют 2-3 мкм. Быстродействие
БИС измеряется миллиардными долями
секунды. Создание БИС привело к появлению
микропроцессоров (устройств цифровой
обработки информации, осуществляемой
по программе) и микроЭВМ, использование
которых в промышленности позволит
уменьшить трудоемкость выпускаемых
изделий, их стоимость, габариты,
потребляемую мощность, Повысить
надежность на порядок-
Электронные
приборы обладают рядом особых свойств,
обеспечивающих их значительное
преимущество перед другими приборами.
Основными из них являются:
Быстродействие
(практически безынерционное). Время
нарастания импульсов в устройствах
электроники достигает 10‘8
с, а в ядерной физике
Ю10
с.
Высокая
чувствительность к малым сигналам.
При помощи элекОсобые свойства электронных приборов
6
тронных
приборов можно измерить токи до 10'16
А и мощности до 10'25
Вт при прямом измерении. При косвенном
измерении регистрируется пролет
отдельной заряженной частицы.
Чувствительность электронных приборов
ограничивается только собственными
шумами и естественным фоном.
Универсальность.
Она заключается в том, что в электрическую
энергию, на измерении которой основано
действие всех видов электронных
приборов, сравнительно легко преобразуются
другие виды энергии: механическая,
тепловая, акустическая, атомная и др.
Подобная универсальность очень
важна для промышленной электроники,
так как в промышленности используются
все виды энергии.
7
ФИЗИЧЕСКИЕ
ОСНОВЫ ПРОВОДИМОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВ
Полупроводниковые
приборы - это такие электронные приборы,
в которых движение электронов и изменение
концентрации электронов (протекание
тока) происходит в кристаллическом
твердом теле - кристалле полупроводника.
При движении в кристалле носители тока
(электроны) многократно сталкиваются
с узлами кристаллической решетки.
Вследствие этих столкновений движение
носителей тока (электронов) становится
хаотическим. При протекании тока на
хаотическое движение накладывается
направленное движение, обусловленное
силами электрического поля или силами
диффузии. Свойства полупроводниковых
приборов, их параметры во многом
определяются внутренними свойствами
кристалла полупроводника (температурой,
концентрацией примеси, объемными и
поверхностными свойствами кристалла
и т.д.). Для понимания принципа действия
и квалифицированного применения
полупроводниковых приборов необходим
некоторый объем знаний из физики
твердого тела и теории электропроводности.
Поэтому непосредственному изучению
устройства полупроводниковых
приборов предшествует раздел, в котором
в краткой форме приведены необходимые
сведения из указанных разделов.
К
полупроводниковым материалам
(полупроводникам) относят огромную
группу материалов, удельное сопротивление
(р) которых находится в пределах от
10'3-
10'2
до 108
Ом-см (у металлов р = 10'6
... 10‘4
Ом-см, у изоляторов р = 108
... 1022
Ом-см). Такое деление было принято
сравнительно давно, когда рассматривали
только сопротивление электрическому
току. С этой точки зрения полупроводники
- это плохие проводники. Однако
позднее выяснилось, что полупроводники
гораздо ближе по свойствам к изоляторам
и являются, скорее, «плохими изоляторами»,
но за полупроводниками сохранили
их традиционное название. В настоящее
время в полупроводниковых приборах
практически используются лишь германий
(Ge)
и
кремний (Si),
значительно
реже - арсенид галлия (GaAs).
Поэтому
вГлава 1.
Общие сведения о полупроводниковых материалах