8.2. Облучение полимерных материалов. Ускорители.
Преимуществами нового метода облучения являются:
1. Ядра ускоренных ионов стабильны и, следовательно, радиоактивное загрязнение материала полностью отсутствует.
2. Бомбардирующие частицы имеют тот же атомный номер и энергию, которые обеспечивают высокую гомогенность размеров пор в изготовленной мембране.
3. Возможность варьировать энергию ускоренных ионов позволяет производить мембраны различной толщины, в том числе мембраны, превышающие размеры фрагментов.
4. Энергия, заряд частиц, угол падения на полимер могут быть изменены таким образом, чтобы получать микропоры любых требуемых параметров.
Таблица 6
Энергия (Е) и средняя интенсивность (I) ионных пучков, ускоренных в U-400
Ионы |
40Ar+4 |
59Co+5 |
63Cu+6 |
84Kr+7 |
E(MэВ) / a.m.e |
5,0 |
3,9 |
4,8 |
3,6 |
I (cек-1) |
6×1012 |
2×1012 |
1,5×1012 |
1012 |
8.3.Радиационные эффекты и модификация материалов под действием облучения быстрыми тяжелыми ионами.
1. Влияние высоких неупругих энергетических потерь на создание дефектов и на преобразование под действием облучения и обработки после облучения:
поверхностные явления в металлах и сплавах и других материалах;
исследование структуры трека тяжелых ионов с высокими неупругими энергетическими потерями на диэлектрических и полупроводниковых монокристаллах.
2. Имплантация быстрых ионов в полупроводниковые монокристаллы:
исследование возможности создания проводящих, изолирующих интерогенных слоев;
исследование процессов диффузии примесей в полупроводниковых монокристаллах.
3. Проверка радиационной стабильности высокотемпературных сверхпроводящих и полупроводниковых приборов.
9. Оборудование для нанесения однослойных и многослойных покрытий ионно-плазменными методами.
|
Рис. 22. Периодическая электронная установка для нанесения декоративных и теплоотражающих покрытий на стекле.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
Размеры изделия, мм 1400 х 2000 Мощность напылительных устройств, кВт 40 Ионный источник: напряжение, В 3000 ионный ток, А 1
|
Рис. 23. Установка для получения многослойных алмазоподобных покрытий, оснащенная контролем «in situ» за толщиной и плотностью слоев.
Назначение
Использование ионно-плазменных методов напыления для получения многослойных тонкопленочных структур для оптических и микроэлектронных применений.
Технические характеристики
1. Вакуумная система:
Вакуумный модуль:
- Форвакуумный насос:
·диапазон рабочих давлений, мм рт. ст. 760-10-2
- Турбомолекулярный насос:
·быстрота откачки (для диапазона давления 10-4-10-6 мм рт. ст.), л/ч >700
·предельное остаточное давление, мм рт. ст. 10-6
·скорость потока воды, л/ч >50
·стойка управления;
- Вакуумная камера:
·магнетронный источник;
·ионный источник;
·вращающийся подложкодержатель, об/мин 15
·ВЧ-диодное устройство;
·нагреватель, °С 0 - 200
- Газонапускная система (для четырех газовых потоков):
·модуль автоматического управления массового расхода газа, ед. 2
·пределы массового расхода газа, л/ч 0,1 - 10
·давление на входе, атм 2 - 10
·погрешность измерения скорости потока, % <1,5
·система газонапуска (для двух газовых потоков) GBS-2, ед 1
·диапазон рабочего давления
количество отверстий для впуска газа, л/ч > 0,5
·точность дозировки (при диапазоне давлений 2×10-8-10-5 мм рт.ст.) ± 0,15
·рабочие вещества инертные и химически активные газы