4.2 Контрольні запитання

1. Для чого використовується катодне розпилювання?

2. Як здійснюється катодне розпилювання?

3. Переваги й недоліки катодного розпилювання.

4. Реактивне катодне розпилювання.

5. Високочастотне розпилювання.

6. Магнетронне розпилювання.

7. Чому виникла потреба в триелектродній схемі розпилювання?

8. В якому режимі проводиться йонно-плазмове розпилювання?

9. Фізичний механізм йонно-плазмового розпилювання.

4.3 Завдання

1. Вивчити процеси при йонно-плазмовому розпилюванні тонких плівок та конструкцію типової установки.

2. Провести спостереження за ходом процесу йонно-плазмового розпилювання.

3. Дослідити оптичними та електричними методами властивості тонких плівок, отриманих методом йонно-плазмового розпилювання.

Перелік використаних джерел

1. Черняев В.Н. Физико-химические процессы в технологии РЭА.- М.: Высш.шк., 1987.-367 с.

2. Курносов А.И., Юдин в.В. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем.-М.: Высш.шк., 1986.-368 с.

3. Панфилов Ю.В. и др. Оборудование производства интегральных микросхем и промышленные роботы.-М.: Радио и связь, 1988.-320 с.

4. Борисенко А.С., Бавыкин Н.И. Технология и оборудование для производства микроэлектронных устройств.- М.: Машиностроение, 1983.- 320 с.

5. Готра З.Ю. Технология микроэлектронных устройств.- М.: Радио и связь, 1991.-528 с.

6. Черняев В.Н. Технология производства полупроводниковых приборов.-М.: Радио и связь, 1987.-464 с.

7. Курносов А.И., Юдин В.В. Технология производства полупроводниковых приборов.- М.: Высш.шк., 1974.- 400 с.

8. Данилин Б.С., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы.- М.: Радио и связь, 1982.-72 с.

Додаток А

Багатофакторний експеримент з планом другого порядку

При виробництві технічних мастил на нафтовій основі потрібно забезпечить їх високі експлуатаційні властивості, для поліпшення яких застосовують спеціальні хімічні речовини – присадки. Додавання присадок в невеликих кількостях (від сотих часток до декількох відсотків) призводить до значного підвищення якості мастил.

Присадки за певних умов можуть підсилювати або послаблювати дію одна одної (тобто є наявним ефект взаємодії факторів). Вхідними факторами є концентрації присадок типу D i E, за відгук прийнято кислотне число, що характеризує стабільність мастила відносно окислення киснем повітря. Відгук потрібно мінімізувати, тобто потрібно знайти такі значення вхідних факторів, які забезпечують мінімальне значення відгуку .

Після проведення експерименту та обробки його результатів з відкиданням незначущих коефіцієнтів регресії отримана поверхня відгуку, що описується рівнянням

y = 0,78 – 0,069 + 0,158 .

Ця поверхня – гіперболічний параболоїд – має сідлоподібний вигляд (рис.А.1). Рух вздовж напрямку, паралельного осі D, веде до зменшення кислотного числа у. Подальші кроки в цьому напрямку, позначеному словом “Спуск”, привели в точку, що відповідає концентрації 0,45% присадки Е і 5,5% присадки D; поверхня відгуку поблизу цієї точки зображена на рис.А.2. Рівняння цієї поверхні тепер має вигляд:

y = 0,148 – 0,052 х₂ +0,093 + 0,073 .

В точці Q поверхня має чітко виражений мінімум відгуку у=0,14. Для порівняння: до експерименту технологами використовувались концентрації присадок до 1,4%, при цьому кислотне число не зменшувалось нижче 0,6.

Рисунок А.1 – Поверхня відгуку

Рисунок А.2 – Поверхня відгуку в безпосередній близькості до мінімуму відгуку

Додаток Б