
- •Характеристика "Индустрии наносистем"
- •Основные постулаты Индустрии наносистем
- •Основные постулаты Индустрии наносистем
- •Список литературы
- •§1. Гигантские эффекты
- •Магнитосопротивление
- •Металлические спин-электронные структуры
- •Спин-вентили
- •Магнитный туннельный переход
- •§2. Мезоскопическая физика
- •1. Длина волны де Бройля
- •2. Средний свободный пробег электрона
- •3. Диффузионная длина
- •4. Длина экранирования
- •5. Длина локализации
- •§3. Квантовая механика
- •§4. Электронные микроскопы
- •§5. Сканирующие электронные микроскопы
- •§6. Развитие зондового сканирования поверхности
- •§7. Электронные наноприборы. Часть 1
- •§8. Электронные наноприборы. Часть 2
- •§9. Электронные наноприборы. Часть 3
§2. Мезоскопическая физика
Постоянно возрастающий интерес к исследованию физических свойств полупроводниковых объектов очень небольшого размера (прежде всего, в нанометровом диапазоне) обусловлен несколькими факторами, главным из которых является общая тенденция к использованию микроэлектронных интегральных схем, в которых малые размеры сочетаются с повышенными рабочими частотами, улучшенными характеристиками и низкой стоимостью производства. Дополнительным фактором (возможно, более значимым с научной точки зрения) выступает то, что работа таких приборов основана на фундаментально новых квантовых физических эффектах (таких, как резонансное туннелирование, квантование проводимости, кулоновская блокада, квантовый эффект Холла и др.). Кроме того, очень часто новые вещества и характеристики оказываются пригодными к непосредственному использованию в новых приборах, имеющих практическое и коммерческое применение (лазеры на квантовых ямах, одноэлектронные транзисторы, оптические модуляторы на квантовом эффекте Штарка в ограниченных размерам (confined quantum Stark effect) системах и др.
Начнём с описания современных микроэлектронных и оптоэлектронных структур, ставших основой новейших направлений нанотехнологии. В связи с этим вводится некоторый набор параметров и концепций так называемой мезоскопической физики (прежде всего, речь идет о характеристических длинах), необходимых для описания наноструктур. Затем рассматриваются физические основы существования и создания полупроводниковых объектов с «пониженной размерностью»: двумерных (2D) квантовых ям, одномерных (ID) квантовых проволок и нульмерных квантовых точек (OD).
Основные тенденции развития наноэлектроники
Эволюция микроэлектронных приборов определяется многими факторами, но важнейшими из них выступают требования к постоянному росту объёма памяти интегральных схем и скорости передачи информации, повышение эффективности оптической связи и др.
Э
тим
требованиям удовлетворяют электронные
приборы с повышенным быстродействием
и уменьшенными размерами, как в случае
кремниевых интегральных схем, в
частности, динамических ОЗУ (DRAM). На
рисунке 1.1 показано уменьшение критических
размеров распространенных
МОП-транзисторов (и соответственно,
плотности записи на них, измеряемой в
числе битов на чип) за период с 1970 до
2000 годов, а также предполагаемая
экспертами эволюция таких схем на
ближайшие двадцать лет. Например, в
настоящее время характерные размеры
элементов (L) стандартных
DRAM-чипов на 256 Мбит (содержащих
в себе около 109 транзисторов)
составляют примерно 100 нм. В структурах
с такими размерами описание процессов
переноса носителей заряда ещё может
рассматриваться в рамках классической
теории, однако это рассмотрение уже
явно находится на самой «границе»
проявления квантовых эффектов. Поэтому
необходимо вводить новые представления
о квантовых процессах переноса
(quantum transport). В настоящее время предполагается,
что современная кремниевая технология
будет использоваться до размеров
элементов L ~ 10 нм, но ниже этого предела
должны быть созданы транзисторы,
основанные на новых принципах (например,
одноэлектронные транзисторы, приборы
с резонансным туннелированием и т. п.).
Значительный прогресс в развитии наноэлектроники оказался возможным, прежде всего, из-за развития техники осаждения очень тонких пленок, образующих гетероструктуры, в которых электроны как бы оказываются «заключенными» (локализованными) внутри двумерных (2D) мезоскопических систем. Существовавшие ранее стандартные методы получения тонких пленок (осаждение, напыление) не позволяли формировать гетероструктуры требуемого качества. Однако уже в 80-е годы были разработаны новые технологии, такие, как молекулярно-пучковая эпитаксия ((от эпи... и греч. taxis - расположение) - ориентированный рост одного монокристалла на поверхности другого (подложки). ) МПЭ (molecular beam epitaxy, МВБ) и газофазная эпитаксия на основе металлоорганических соединений МОС ГФЭ (metal organic chemical vapour deposition, MOCVD). В методе МПЭ осуществляется эпитаксиальное выращивание пленок требуемого соединения на подложках в условиях сверхвысокого вакуума. Требуемое вещество испаряется в цилиндрической ячейке при достаточно высоких температурах. Вылетающие из ячейки атомы или молекулы формируют молекулярный пучок, двигающийся по прямым линиям к подложке, на которой они конденсируются.
В литературе часто обсуждаются пределы размеров приборов в свете их эволюции, представленной на рисунке 1.1. Разумно предположить, что скорость уменьшения этих размеров должна как-то замедлиться в ближайшие годы, поскольку все физические пределы (с точки зрения промышленного и экономического развития) будут достигнуты в следующее десятилетие. Технологические пределы определяются несколькими факторами.
Во-первых, в любом случае следует учитывать тепловыделение работающего электронного прибора, которое не может быть сведено к нулю, поскольку тепловой баланс системы ограничивается соответствующими коэффициентами тепловодности используемых материалов и числом молекулярных слоев. Во-вторых, существует так называемый фактор «разброса параметров» в производственном процессе. Например, многие электрические параметры МОП-транзисторов контролируются легированием ((нем. legiere - сплавлять - от лат. ligo - связываю, соединяю), Введение в состав металлических сплавов т. н. легирующих элементов (напр., в сталь - Cr, Ni, Mo, W, V, Nb, Ti и др.), однако при очень малых размерах легированной области (около 0,1 мкм3) число легирующих атомов является столь малым (около 10), что точное управление разбросом этого параметра становится невозможным. Помимо указанных технологических пределов существуют и более серьёзные ограничения, связанные с фундаментальными (объективными) законами природы, которые могут быть названы физическими пределами. Хотя существующие устройства еще не вышли на эти пределы, имеет смысл перечислить их.
Тепловой предел. Энергия, необходимая для записи одного бита информации должна составлять несколько kТ(эВ, Дж), средней энергией тепловых флуктуации. Например, в КМОП-транзисторах низшее значение энергии записи одного бита должно быть не ниже 2 эВ, т. е. примерно 100 kТ при комнатной температуре или ~3×10-19Дж.
Релятивистский предел. Очевидно, что скорость распространения сигнала не может превышать скорости света. Предполагая, что микропроцессор имеет размеры в несколько сантиметров, легко вычислить, что время прохождения сигнала в нем будет составлять 10-10 с, чему соответствует частота 10 ГГц.
Принцип неопредёленности. В соответствии с принципом неопределенности Гейзенберга энергия и время процесса записи или считывания бита информации связаны между собой соотношением ΔЕ Δt ≥ h. Для надежной работы системы мы можем, например, потребовать, чтобы произведение ΔЕ·Δt составляло 100 h (постоянная Планка – 6,62*10-34Дж.с – тепловое излучение), вследствие чего для энергии ΔЕ порядка 10-19 Дж в будущей цепи с ростом частоты будет легко достигаться квантовый предел.
Основой электроники твёрдого тела выступают гетероструктуры хорошо изученных материалов (Si - кремний, SiO2 - кварц, соединения AIIIBV - полупроводники типа A IIBIV (CdS, CdSe, ZnO, ZnS), AIIIBV (GaAs, InSb) и др.), а также некоторые типы транзисторов: с гетеропереходами, одноэлектронные, с резонансным туннелированием, баллистические и др. Однако некоторые из задач современной электроники (например, распознавание речи и визуальных образов) требуют столь больших вычислительных мощностей, что исследователи занимаются интенсивным поиском радикально новых приборов и материалов. Некоторые из альтернативных решений, такие, например, как сверхпроводящая электроника и спинтроника, могут использовать технологию изготовления элементов, принципиально не отличающуюся от используемых в настоящее время промышленностью при изготовлении интегральных схем. Сверхпроводящая электроника, идеи которой восходят к началу 70-х годов (а первые прототипы получены в 80-х), основана на сверхпроводниковых переходах джозефсоновского типа, представляющих собой два сверхпроводящих слоя, разделенных очень тонким слоем окисной изолирующей плёнки, через которую может осуществляться туннелирование сверхпроводящей электронной пары. Преимущества электронных устройств такого типа основаны на том, что джозефсоновские переходы позволяют работать при очень высоких скоростях (время переключения от 1 до 10 пикосек), из-за чего рассеиваемая энергия очень мала, и электрическим сопротивлением всех соединительных линий сверхпроводящей схемы можно практически пренебречь.
ДЖОЗЕФСОНА ЭФФЕКТ - протекание сверхпроводящего тока через тонкую изолирующую или несверхпроводящую прослойку между двумя сверхпроводниками (т. н. джозефсоновский контакт). Эффект был теоретически предсказан Б. Джозефсоном (В. Josephson, 1962).
Механизм прохождения электронов через прослойку зависят от типа прослойки. Одним из типичных примеров ДК является туннельный контакт, состоящий из двух одинаковых или разл. сверхпроводников (обычно в виде тонких плёнок), разделённых очень тонким слоем диэлектрика, напр. слоем окисла материала одного из сверхпроводящих электродов. Протекание тока через прослойку в этом случае обусловлено квантовым туннелированием электронов через непроводящий барьер. Для получения измеримого джозефсоновского тока толщина изолирующей прослойки должна быть ок. 10-20 А (А – 0.1нм). На рис. для примера изображена типичная BAX для туннельного контакта из одинаковых сверхпроводников. Если увеличивать ток, то происходит переход из стационарного в нестационарный режим Д. э. При уменьшении тока нестационарный Д. э. может сохраниться до значений тока, меньших критического (т. е. туннельный контакт проявляет гистерезис).
Вольт-амперная характеристика (BAX) туннельного контакта Sn- Sn при температуре 1,4 К (прослойка - плёнка оксида олова).
В качестве другой альтернативной технологии предлагается так называемая спинтроника, в которой для записи информации используется ориентация спина электрона. Так называемые электрон-спиновые (спинтронные, спиновые) транзисторы представляют собой трехслойную (сандвич) структуру, в которой слой полупроводника (база) заключен между двумя слоями ферромагнетика (эмиттер и коллектор). Электроны, магнитное состояние которых определяется эмиттером, поступают в коллектор через базу только в том случае, если их спины параллельны направлению намагниченности коллектора. Такие разработки проводятся параллельно с работами в магнетоэлектронике для создания магнитных оперативных запоминающих устройств (МОЗУ, MRAM), основанных на эффекте гигантского магнетосопротивления и на магнитных туннельных переходах, полученных в 1995 г. Электрон-спиновые транзисторы могут иметь огромные перспективы, если исследователям удастся интегрировать их в широко распространенные КМОП-схемы.
Существуют и другие радикальные альтернативы развития наноэлектроники, из которых следует упомянуть, прежде всего, молекулярную электронику, основанную на использовании различных состояний или конфигураций молекул (например, на использовании цис- и транс форм или параллельном либо антипараллельном упорядочении спинов неспаренных электронов). При этом изменение состояний может быть быстрым и не требовать значительных расходов энергии, а также стимулироваться внешними сигналами, регистрироваться зондами и т. п. Если основанную на таких принципах электронику действительно удастся создать, то это приведёт к удивительному прогрессу в миниатюризации, поскольку характерные размеры молекул на порядки меньше, чем размеры элементов существующих электронных схем. Огромным преимуществом молекул выступает присущая им способность к самоорганизации в трехмерные супрамолекулярные структуры, не говоря уже о том, что развитие сканирующей атомно-силовой микроскопии позволяет манипулировать отдельными молекулами. Возможно, что в будущем молекулы удастся соединять при помощи молекулярных проволок или нанотрубок, однако в настоящее время внимание сосредоточено на металлических и полупроводниковых контактах. Даже с учетом этих возможностей одной из основных проблем молекулярной электроники является задача обеспечения интерфейса или создания коммуникационных связей «вычислительных молекул» с внешним миром, т. е. с гораздо более крупными системами.
Следует упомянуть и о так называемой биоэлектронике, принципы которой связаны с функционированием биологических систем. В попытках копирования природных процессов не всегда должны основываться только на соображениях размера. Например, нейроны нервной системы слишком велики (!) для стандартов нанотехнологии, но наноэлектроника может извлечь много полезной и важной информации из исследований самой способности параллельной обработки информации в таких системах, не говоря уже о возможности имитации трехмерной архитектуры и топологии связей в вычислительных системах живых организмов.
Характеристические длины в мезоскопических системах
Мезоскопической физикой называют физику явлений в структурах, размеры которых являются промежуточными между макроскопическими и микроскопическими объектами (к последним можно отнести объекты, размеры которых сопоставимы с атомными). Иногда такие структуры называют просто мезоскопическими системами или наноструктурами, поскольку обычно они имеют размеры в диапазоне от нескольких до примерно 100 нм. В таких мезоскопических системах отчетливо проявляются волновые свойства электронов, вследствие чего поведение последних начинает очень сильно зависеть от конкретной геометрии исследуемых образцов. В этих условиях состояние электронов определяется волновыми свойствами и скорее напоминает поведение электромагнитного излучения в волноводах.
При описании поведения электронов в таких твердотельных структурах очень удобно ввести (и определить) с самого начала набор нескольких характеристических размеров или длин, так как именно в тех ситуациях, когда размеры твердого тела, в котором находится электрон, сопоставимы или меньше характеристических длин материала, начинают проявляться некоторые новые, специфические свойства, отличные от привычных характеристик макроскопических образцов. Физическая сущность новых явлений и свойств материала определяется законами квантовой механики, но с другой стороны, очевидно, что с возрастанием размеров мезоскопическая структура по всем своим свойствам должна непрерывно переходить в привычное, макроскопическое состояние вещества при размерах, в несколько раз превышающих характеристические длины.
Рассмотрим некоторые наиболее часто встречающиеся и используемые характеристические длины мезоскопических систем.