Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
МП ЛР ФОМЭ.doc
Скачиваний:
0
Добавлен:
01.04.2025
Размер:
5.57 Mб
Скачать

Министерство образования и науки Российской Федерации

Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования КУРСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ

Кафедра нанотехнологии

Н екоммерческий фонд по поддержке

научно-технических и образовательных программ

«НАУКОМ»

Белов П.А.

Физические основы электроники Лабораторный практикум

Курск

Фонд «НАУКОМ»

2012

УДК 621.3.049.67

БКК 22.379я73

Б43

Рецензент:

И.А. Ключиков – докт. техн. наук, профессор, Курский ГУ

Белов П.А.

Б43 Физические основы электроники: лабораторный практикум. Учебное пособие. – Курск: КГУ, 2012. – 160 c.

Приведены теоретические сведения, описаны методы измерений, экспериментальные установки и порядок выполнения лабораторных работ по дисциплине «Физические основы электроники», изложена методика обработки результатов измерений.

Для бакалавров, обучающихся по направлению 210600 «Нанотехнология».

УДК 621.3.049.67

БКК 22.379я73

© П.А. Белов, 2012

© Курский государственный университет, 2012

ISBN 978-5-88070-325-8 © Фонд «Науком», 2012

ВПрямоугольник 296 се права защищены.

Прямоугольник 297

СОДЕРЖАНИЕ

СПИСОК СОКРАЩЕНИЙ 5

ВВЕДЕНИЕ 6

ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА № 1 7

ТЕХНОЛОГИЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭМУЛЬСИОННЫХ СТЕКЛЯННЫХ ФОТОШАБЛОНОВ МЕТОДОМ ФОТОНАБОРА НА УСТАНОВКЕ ЭМ559Б 7

ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА № 2 29

ИЗГОТОВЛЕНИЕ МЕТАЛЛИЗИРОВАННЫХ ФОТОШАБЛОНОВ 29

ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА № 3 46

Технологический процесс изготовления плат с металлизированными отверстиями на подложках из ВЧ-ламинатов типа «Roger» 46

ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА № 4 83

ИЗУЧЕНИЕ ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ПРОЦЕССА ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЛАТ НА ПОДЛОЖКАХ ИЗ ПОЛИКОРА БЕЗ РЕЗИСТОРОВ С ПОКРЫТИЕМ ХИМИЧЕСКИМ ОЛОВОМ 83

Способ литографического процесса 86

Минимальная ширина линии, мкм 86

Ошибка совмещения, мкм 86

Контактная фотолитография λ=360-460 нм 86

1,25 – 1,5 86

0,25-1,0 86

Проекционная фотолитография λ=360-460 нм 86

0,75-1,0 86

0,1-0,2 86

Электронная литография λ=50-100 нм 86

0,25 86

0,03 86

Рентгеновская литография λ=0,1-10 нм 86

0,5 86

0,03-0,05 86

ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА № 5 106

Скрайбирование полупроводниковых интегральных микросхем на установке механического скрайбирования Алмаз-М 106

ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА № 6 114

ТЕХНОЛОГИИ ПОВЕРХНОСТНОГО МОНТАЖА ПЕЧАТНЫХ ПЛАТ 114

ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА № 7 129

Изучение технологии конвекционного оплавления BGA-компонентов на установке OKInt-5000DZ 129

ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА № 8 143

Термокомпрессионная ультразвуковая микросварка выводов из золота 143

154

ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА № 9 155

Технология ультразвуковой отмывки от флюсов моющим раствором на водной основе электронных изделий после монтажа 155

ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА № 10 161

РЕНТГЕНОВСКИЙ КОНТРОЛЬ ПАЯНЫХ СОЕДИНЕНИЙ 161

РЕКОМЕНДОВАННАЯ ЛИТЕРАТУРА 181

Список сокращений

ГС гибридных схем

ИМС интегральные микросхемы

КП контактным площадкам

ПП печатных плат

ТЗС Термозвуковая сварка

ТКЛР температурный коэффициент линейного расширения

ТКС Термокомпрессионной сваркой

ТПМ Технология поверхностного монтажа

УЗ ультразвук

УФ ультрафиолет

ФШ фотошаблон

ЭВС электронно-вычислительные системы

ЭК электронных компонентов

ЭРК