
- •Основы проектирования электронных средств
- •6 Семестр, 3 курс, гр. Р, рс, рб
- •Лекция 1. Введение в проектирование эс. История развития конструкций электронных средств. Лекция 2. Эмс как важнейший фактор создания электронных средств
- •Совместимость технических средств
- •Походы к обеспечению эмс
- •Эмс и нарушения функциональной безопасности
- •Уровень напряженности поля
- •Информационная безопасность
- •Электромагнитное оружие
- •Директива эмс и техническое регулирование Директивы нового подхода
- •Система технического регулирования в области эмс в рф
- •Лекция 3. Верификация в проектировании модулей
- •Верификация и прототипирование
- •Концепция "сдвига влево"
- •Целостность сигнала
- •Результатами выполнения этих задач являются:
- •Параметрическая верификация
- •Электронные модули цифровых устройств и быстродействие
- •Методология проектирования
- •Лекция 4. Топологическое проектирование
- •Основные понятия теории графов
- •Способы задания графов
- •Классификация графов
- •Элементы графа
- •Части графа
- •Структурные свойства связных графов
- •Матрица соединений
- •Матрица инциденций
- •Содержание задач топологического проектирования
- •Задача разбиения
- •Задача размещения
- •Трассировка
- •Лекция 5. Алгоритмы решения топологических задач
- •Алгоритм последовательного разбиения
- •Пример решения конкретной задачи
- •Алгоритм размещения
- •Коммутационное поле
- •Позиция
- •Характеристика позиций
- •Параллельный алгоритм одновременного размещения
- •Алгоритмы трассировки
- •Волновой алгоритм
- •Контрольные вопросы
- •Лекция 6. Элементная база эс и конструкции плат
- •Элементная база
- •Спектр сигнала определяется соотношением
- •Конструкции печатных плат
- •Лекция 7. Линии передачи в монтажных соединениях
- •Параметры линий передач и методы их расчета
- •. Расчет емкости базового параметра Базовый параметр линий передачи электрическая емкость
- •Расчет емкости в односторонних платах
- •Значение погонной емкости линии передачи в стеклотекстолите с волновым сопротивлением 50 Ом составляет около 1,4 пФ/см Пример расчета
- •Понятие электрически длинной и короткой линии передачи
- •Анализ линии в частотной области
- •Анализ линии во временной области
- •Лекция 8. Помехи в одиночных линиях
- •Помехи в короткой линии
- •Помехи в длинных линиях передачи
- •Расчет помех отражения при линейных нагрузках
- •Характер переходного процесса в длинной линии
- •Согласование длинных линий
- •Рекомендации
- •Лекция 9. Перекрестные помехи в связанных линиях передачи
- •Перекрестная помеха в короткой линии
- •Лекция 10. Помехи в шинах питания
- •Механизме возникновение помех
- •10.2. Устранение помех по шинам питания
- •10.3. Размещение и подключение конденсаторов
- •10.4. Рекомендации по проектированию шин питания и заземления
- •Лекция 11. Структурный метод проектирования мпп Основные этапы проектирования:
- •Лекция 12. Концепция экранирования
- •Взаимодействие источников и рецепторов помех
- •Принцип электромагнитного экранирования
- •Топологические понятия
- •Механизм влияния электромагнитных воздействий на оборудования
- •Лекция 13. Механизмы работы экрана при различных видах излучения, ближняя и дальняя зона
- •Лекция 14. Экранирующие материалы и покрытия
- •Металлы и сплавы
- •Металлические листы
- •Сеточные материалы
- •Параметры металлических материалов для экранов Волновое сопротивление металла
- •Скин-слой
- •Магнитные материалы
- •Пермаллой
- •Особенности технологии пермаллоя
- •Лекция 15. Экранирование в ближней зоне
- •Электростатическое экранирование
- •Особенности экранирования в ближней зоне
- •Механизм электростатического экранирования
- •Магнитное экранирование
- •Механизм экранирования
- •Экраны для магнитного экранирования
- •Лекция 16. Электродинамическое экранирование
- •Методы расчёта эффективности сплошных экранов
- •Эффективность экранирования
- •Зависимость эффективности экранирования от частоты
- •Снижение эффективности экранирования из-за апертур
- •Применение прокладок
- •Установка прокладок
Характеристика позиций
Для каждой позиции вводится характеристика. Характеристикаdiпозицийiбазируется на понятии “расстояние”. В общем случае расстояние между позициямиiиjобозначимdij. В свою очередь расстояние между позициями определяется принятой метрикой определения расстояния.
При этом используется два подхода.
1. Кратчайшее расстояние между двумя точками по прямой в рамках евклидовой геометрии. В этом случае расстояние dijопределяется по правилам прямоугольного треугольника как показано на рис. 5.7.
Рис. 5.7. Эвклидова метрика
2. Расстояние в понятиях ортогональной метрики. В этом случае коммутационное поле покрывается ортогональной сеткой, в узлах которой расположены позиции. Расстояние вычисляется только вдоль линий этой сетки dij=hx +hy, гдеhxиhyразность координат по осямxиyсоответственно для точекiиj(рис. 5.8).
Рис. 5.8. Ортогональная метрика
Какие особенности имеет ортогональная метрика, и в чём её преимущество? Во-первых, это простота вычислений. Вместо четырёх математических операций (при расчёте расстояния по евклидовой геометрии), три из которых не тривиальные, выполняется одна. Во-вторых, в ортогональной метрике расстояние не зависит от конкретного маршрута между точками (при кратчайших маршрутах). В автоматизированных системах для экономии вычислительных ресурсов при проектировании печатных плат обычно предпочтение отдаётся ортогональной метрике. При проектировании проводного монтажа применяются обе системы измерения расстояния.
Характеристика позицийвычисляется по матрице расстоянийDкоммутационного поля. Столбцы и строки матрицы соответствуют позициям коммутационного поля. Элементы матрицыdijесть расстояния между соответствующими позициями. Диагональ остаётся нулевой.
Для примера приведена матрица (рис. 5.9) расстояний некоторого коммутационного поля, имеющего 9 позиций (см. рис. 5.6). Эти позиции расположены в узлах координатной сетки. Для простоты примем шаг сетки по оси xравным шагу по осиy. Мера расстоянияшаг сетки, принимаемый за единицу.
Характеристика diпозицииiестьсуммарноерасстояние от неё до всех остальных позиций. Для вычисления характеристики удобно использовать матрицу расстояний. Суммируя все элементы строки для позицииi, получаем ее характеристикуdi.
Среди всех позиций определяется центральная позиция. Центральная позицияэто позиция, для которой значение характеристики минимальное. В общем случае может быть одна или несколько центральных позиций. В нашем примере центральной позицией является позиция 5, для которой характеристика равна 12минимальное значение из всех.
Рис. 5.9. Пример матрицы расстояний D коммутационного поля
Параллельный алгоритм одновременного размещения
Следующий шаг – решение задачи размещения. Суть задачи состоит в размещении вершин графа на заданных позициях коммутационного поля, т.е. надо указать какая вершина на какой позиции должна быть установлена. Очевидно, что число вершин графа не должно быть больше числа позиций коммутационного поля. Для этого используется ряд алгоритмов, среди которых выделяется простотой и эффективностьюпараллельный алгоритм обратного размещения. Он может быть использован в ручном варианте решения даже нетривиальных задач размещения.
Для реализации алгоритма задаётся матрица соединений для графа и матрица расстояний для коммутационного поля.
По матрице соединений подсчитывают степени вершин и далее ранжируются вершины по возрастанию их степени:
r(X1) <r(X2) <r(X3) < ... <r(XN).
В данном случае индексы 1, 2, 3, ... , Nобозначают не номера вершин в графе, а их порядок в соответствии с возрастанием степени вершины.
На следующем шаге по матрице расстояний коммутационного поля подсчитывают характеристики позиций и ранжируются их в порядке убывания:
d1>d2>d3> ... >dN, гдеdN- центральная позиция.
В данной записи смысл нижних индексов аналогичен, отмеченному выше.
В большинстве случаев число вершин задаётся равным числу позиций коммутационного поля (в любом случае не больше).
Назначение позиций для каждой вершины проводится следующим образом: сопоставляются два ранжированных ряда, полученных выше, и вершина X1ставится на позициюd1, вершинаX2на позициюd2и т.д. Таким образом, осуществляется одновременное размещение вершин графа на позициях коммутационного поля.
Замечания к алгоритму:
Алгоритм создаёт хорошие предпосылки для качественного выполнения этапа трассировки.
Во многих случаях некоторые позиции платы уже “забронированы” под определённые компоненты (например, установка соединителя на краю платы). Поэтому алгоритм претерпевает изменения. В этом случае реализуется идея размещения по связности элементов: на фиксированные позиции ставится определенный элемент, а далее – чем больше следующий элемент связан с установленным, тем ближе к нему размещается.