
- •Глава 7. Полупроводниковые приборы свч
- •7.1 Элементы полупроводниковой электроники.
- •7.1.1 Энергетический спектр электронов в полупроводнике.
- •7.1.2 Эффективная масса носителей заряда.
- •7.1.3 Понятие дрейфовой скорости.
- •7.1.4 Ударная ионизация.
- •7.1.5 Основные уравнения полупроводниковой электроники.
- •7.2 Лавинно-пролетный диод.
- •7.2.2 Работа лпд в пролетном режиме.
- •7.2.2.1 Конструкция и статические характеристики лпд.
- •7.2.2.2 Возникновение отрицательного сопротивления в лпд.
- •7.2.2.3 Эквивалентная схема генератора.
- •7.2.2.4 Условия возбуждения автогенератора.
- •7.2.2.5 Работа глпд в режиме большего сигнала.
- •7.2.2.5 Основные характеристики глпд в impatt-режиме.
- •7.2.3 Работа глпд в режиме захваченной плазмы.
- •7.2.3.1 Конструкция и принцип действия.
- •7.2.4 Основные параметры глпд и область применения.
- •7.3 Диод Ганна.
- •7.3.1 Механизм возникновения эффекта Ганна.
- •7.3.2 Механизм возникновения объемных неустойчивостей.
- •7.3.3 Виды неустойчивости в образце с отрицательной дифференциальной подвижностью.
- •7.3.4 Генератор на диоде ганна. Режимы работы
- •7.3.4.1 Вольт-амперная характеристика образца с доменом
- •7.3.4.2 Пролетный режим
- •7.3.4.3 Режим с задержкой образования домена
- •7.3.4.5 Гибридный режим.
- •7.3.4.6 Режим ограниченного накопления объемного заряда (оноз).
- •7.3.5 Эквивалентная схема и метод расчета генератора на диоде ганна
- •7.3.5 Область применения дг и конструкция гдг.
7.2.2 Работа лпд в пролетном режиме.
Этот режим работы диода основан на использовании лавинного пробоя и эффекта времени пролета носителей в обедненной области различных полупроводниковых структур. Распределение поля в этой области, определяющее физические процессы в диоде, зависит от типа структуры и закона распределения концентрации примесей в областях структуры. В иностранной литературе его называют режимом IMPATT (Impact Avalanche Transit Time — ударная ионизация и пролетное время).
7.2.2.1 Конструкция и статические характеристики лпд.
Рассмотрим их на
примере диода Рида. Его упрощенная
конструкция, распределение концентраций,
электрических полей и эффективного
коэффициента ударной ионизации изображены
на рис.7.14. Конструктивно диод Рида
представляет собой многослойную
полупроводниковую структуру
,
изготавливаемую обычно на основе
.
Концентрация и длина областей структуры
зависят от частотного диапазона работы
ГЛПД. На рис.7.14 их значения приведены
для ГЛПД 3-сантиметрового диапазона.
Рис. 7.14
Готовую структуру
обычно монтируют в СВЧ-корпус, причем
область
устанавливается
на медный или алмазный теплоотвод для
обеспечения эффективного охлаждения
перехода
во время работы. Рассмотрим назначение
областей диода Рида. Области
,
образуют
переход с обедненной основными носителями
областью. В ней существует внутреннее
электрическое поле треугольного вида,
как изображено на рис.7.11. В связи с тем
что
,
эта область в основном простирается
вглубь
-полупроводника.
В
слое обедненная область очень мала, и
электрическое поле в ней резко спадает.
Область
представляет собой однородный
слаболегированный слой
-типа, в котором электрическое поле,
обусловленное внешним источником,
распределено почти равномерно. Этот
слой выполняет роль так называемой
области дрейфа. Области
используются как коллекторы электронов
и дырок соответственно.
В рабочем состоянии
на прибор подают постоянное напряжение
обратной полярности, как указано на
рис.7.14. В этом случае
переход запирается, максимальное
электрическое поле
при
повышается. Пока электрическое поле
невелико,- через
переход и всю структуру проходит обратный
ток
,
равный току насыщения
, вызванному термогенерацией .носителей.
Электроны втекают из
-
в
-область, а дырки из
- в
-область. Когда
достигает величин, при которых может
начаться ударная ионизация, ток
возрастает, как изображено на рис. 7.13,
б. Для
и в обедненном слое ударная ионизация
инициируется в основном электронами.
Поэтому эффективный коэффициент
ионизации
можно определить по формуле (7.8). За счет
резкой зависимости коэффициента ударной
ионизации от электрического поля
отлична от нуля только в узком слое от
до
, называемом областью умножения. Возникшие
в результате ионизации дырки быстро
попадают в
-слой, а электроны увлекаются электрическим
полем и попадают в
-слой, где под действием однородного
электрического поля дрейфуют к
слою, которым и собираются. Область от
до
,
где происходит движение электронов под
действием внешнего электрического
поля, называют областью дрейфа. При
достаточно большом электрическом поле
(рис.7.14) электроны будут двигаться с
постоянной скоростью насыщения
.Следует отметать, что реальная статическая
ВАХ прибора отличается от идеализированной
(см. рис. 7.13, б) за счет двух причин:
1) поскольку коэффициенты ионизации и падают с ростом температуры, то напряжение пробоя будет возрастать с увеличением тока диода, поэтому реальная ВАХ прибора зависит от условий теплоотвода и будет идти медленнее, чем в изотермическом случае;
2) на статическую ВАХ
прибора оказывает влияние объемный
заряд генерируемых носителей; появление
в обедненной области
перехода и
-слоя свободных носителей за счет ударной
ионизации должно приводить (в соответствии
с уравнением Пуассона) к изменению
зависимости
,
по сравнению со случаем отсутствия
зарядов; чем больше ток, протекающий
через прибор, тем больше это отличие;
этот эффект можно учесть, если ввести
дополнительное статическое сопротивление
,
включенное последовательно с
идеализированным ЛПД.