
- •21. Ширина области объемного заряда резкого p-n перехода.
- •22. Особенности плавных p-n переходов.
- •23. Прямое смещение p-n перехода. Граничные концентрации носителей в p-n переходе. Инжекция носителей. Случай тонкой базы.
- •24. Обратное смещение р-n-перехода. Граничные концентрации носителей в р-n- переходе. Экстракция носителей.
- •25. Уравнение статической вольт-амперной характеристики идеализированного р-n перехода.
- •26. Зависимость вах перехода от материала p- и n- областей и температуры.
- •27. Особенности вах реальных p—n - переходов.
- •28. Пробой p-n - перехода. Виды и механизмы пробоя p-n перехода.
- •29. Частотные и импульсные характеристики p-n - переходов. Барьерная и диффузионная емкость.
- •30. Контакт металл-полупроводник. Барьер Шоттки.
- •32.Омический контакт.
- •33. Гетеропереходы.
- •34. Полупроводниковые диоды. Система условных обозначений п/п приборов. Выпрямительные диоды. Стабилитроны.
- •35.Варикапы. Светоизлучающие диоды. Туннельные диоды.
- •36. Импульсные диоды. Переходные процессы при работе от генератора.
- •37. Импульсные диоды. Переходные процессы при работе от генератора напряжения.
- •39. Составляющие токов в структуре биполярного транзистора. Коэффициент передачи тока эмиттера и его зависимость от конструктивных параметров транзистора.
- •40. Особенности структуры и параметров дрейфовых транзисторов.
40. Особенности структуры и параметров дрейфовых транзисторов.
В
дрейфовых транзисторах база легирована
неоднородно – сильнее у эмиттера, слабее
у коллектора. Такой характер легирования
получается при формировании области
базы путем диффузии примеси. Как известно,
после диффузии профиль примеси описывается
примерно экспоненциальным законом. Для
n-p-n
транзисторов для области базы можно
записать:
,
где
- некоторая постоянная для данного
распределения. Очевидно, что в неоднородно
легированной базе будет существовать
встроенное электрическое поле, величина
которого определяется из равенства
диффузионного и дрейфового потоков в
установившемся состоянии.
Рис.10.10
База дрейфового транзистора.
Известно,
что
,
,
и
,
.
Отсюда, получаем
.
Учитывая закон распределения примеси,
получаем
.
Выразим
через конструктивные параметры
транзисторной структуры. Из исходной
формулы
получим
.
Величина
(эта)
– коэффициент неоднородности базы или
коэффициент поля. Вводя эту величину:
,
тогда
Направление
E
таково, что поле ускоряет движение
неравновесных электронов, инжектированных
эмиттером. В результате электроны
переносятся в базе дрейфового транзистора
гораздо быстрее, чем в базе бездрейфового.
Для нахождения распределения электронов
в базе дрейфового транзистора необходимо
решать не уравнение диффузии, а почти
полное уравнение непрерывности, которое
учитывает как дрейф, так и диффузию
носителей. Полное решение такого
уравнения дает сложную аналитическую
функцию, которую трудно анализировать.
Наглядную картину даёт численный анализ
на ЭВМ. И в том и другом варианте получаем:
Рис.10.11
Распределение неравновесных электронов
в базе дрейфового транзистора
Так
как в этом случае электроны переносятся
как за счёт диффузии, так и за счёт
дрейфа, то полный ток не определяется
только градиентом концентрации, ток
больше. Поэтому градиент концентрации
в базе дрейфового транзистора меньше,
чем в бездрейфовом, и тем меньше, чем
больше поле. Из приведенного распределения
следует, что электроны вблизи эмиттера
в основном переносятся полем. Около
коллекторного перехода градиент
концентрации большой и ток в основном
диффузионный. Но при этом необходимо
отметить, что электрическое поле в базе
как бы отсасывает электроны от эмиттера,
поэтому при прочих равных условиях (
),
электронная составляющая эмиттерного
тока дрейфового транзистора имеет
большую величину, чем в бездрейфовом
транзисторе. Следовательно, коэффициент
инжекции
в дрейфовом транзисторе может быть
больше, чем в бездрейфовом при прочих
равных условиях. Для дрейфового
транзистора без вывода приведем
выражение:
.
Но в дрейфовом транзисторе эти прочие
равные условия не получаются. Связано
это с тем, что для создания электрического
поля в базе необходимо создать перепад
акцепторной примеси:
.
Но при этом
и
- не могут быть произвольными. Для
получения односторонней инжекции
эмиттерного перехода необходимо
.
Максимальное значение
определяется предельной растворимостью
донорной примеси. Для фосфора P:
см-3.
Поэтому
см-3.
- не может быть меньше, чем концентрация
собственных носителей в полупроводнике
или концентрации, определяемой степенью
очистки полупроводника. Поэтому
см-3.
Таким образом, в базе дрейфового
транзистора
.
Обычно в дрейфовых транзисторах
,
то есть меньше, чем в бездрейфовых
транзисторах. Коэффициент переноса без
вывода:
,
то есть в дрейфовом транзисторе
.
В дрейфовых транзисторах эмиттерный
переход оказывается высоколегированным,
поэтому имеет малое напряжение пробоя
- 3÷5 В.