
- •21. Ширина области объемного заряда резкого p-n перехода.
- •22. Особенности плавных p-n переходов.
- •23. Прямое смещение p-n перехода. Граничные концентрации носителей в p-n переходе. Инжекция носителей. Случай тонкой базы.
- •24. Обратное смещение р-n-перехода. Граничные концентрации носителей в р-n- переходе. Экстракция носителей.
- •25. Уравнение статической вольт-амперной характеристики идеализированного р-n перехода.
- •26. Зависимость вах перехода от материала p- и n- областей и температуры.
- •27. Особенности вах реальных p—n - переходов.
- •28. Пробой p-n - перехода. Виды и механизмы пробоя p-n перехода.
- •29. Частотные и импульсные характеристики p-n - переходов. Барьерная и диффузионная емкость.
- •30. Контакт металл-полупроводник. Барьер Шоттки.
- •32.Омический контакт.
- •33. Гетеропереходы.
- •34. Полупроводниковые диоды. Система условных обозначений п/п приборов. Выпрямительные диоды. Стабилитроны.
- •35.Варикапы. Светоизлучающие диоды. Туннельные диоды.
- •36. Импульсные диоды. Переходные процессы при работе от генератора.
- •37. Импульсные диоды. Переходные процессы при работе от генератора напряжения.
- •39. Составляющие токов в структуре биполярного транзистора. Коэффициент передачи тока эмиттера и его зависимость от конструктивных параметров транзистора.
- •40. Особенности структуры и параметров дрейфовых транзисторов.
35.Варикапы. Светоизлучающие диоды. Туннельные диоды.
Варикап
– полупроводниковый диод, используемый
как конденсатор, емкость которого
зависит от приложенного к нему напряжения.
В варикапах используется барьерная
емкость p-n
перехода. Барьерная
емкость резкого p—n-перехода
определяется как
(2.26).
Для резкого несимметричного p—n-перехода
.
Для
плавного перехода с линейным распределением
примеси барьерная емкость равна:
.
(2.27).
|
Рис.2.13.Зависимостьбарьерной емкости p-n- перехода от напряжения |
С учетом барьерной емкости эквивалентную схему p-n перехода представляют в виде:
Рис. Схема замещения варикапа
-
дифференциальное сопротивление перехода,
- сопротивление объемов p
и n
областей и подводящих контактов. Как
известно, при прямом смещении p-n
переходы имеют малое сопротивление
Ом.
Оно шунтирует
и емкостные свойства p-n
перехода при прямом смещении не
проявляются. При обратном смещении
Мом
и переход для переменного сигнала ведет
себя как емкость. Поэтому основной режим
работы варикапа это обратное смещение.
Варикапы применяют в схемах резонансных
LC
– контуров, резонансную частоту которых
можно изменять путем изменения напряжения
на варикапе – схема электронной
подстройки контуров.
Рис. Схема включения варикапа в LC-контур.
-
разделительный конденсатор большой
емкости устраняет замыкание постоянного
тока через омическое сопротивление L.
При
он
не влияет на резонансную частоту контура,
так как емкость в контуре - это
последовательное соединение
и
.
,
,
- высокоомный резистор, предотвращающий
шунтирование контура цепью смещения.
- изменяет обратное напряжение на
варикапе, меняя его емкость
и резонансную частоту
.
Используется в радиоаппаратуре, АПЧ и
т.д. Основные параметры варикапов:
1.
-
номинальная емкость варикапа при
.
Типичные значения – единицы – сотни
пФ2. Коэффициент перекрытия по емкости
.
-
максимальная емкость при минимальном
смещении.
- емкость при максимально допустимом
напряжении смещения.3.
- максимально допустимое обратное
смещение, не более десятков В.4. Добротность
Q
– отношение емкостного сопротивления
к эквивалентному последовательному
сопротивлению.
- от нескольких десятков до сотен единиц.
Требования к конструкции p-n
перехода варикапа противоречивы. Для
максимальной добротности Q
необходима максимальная степень
легирования p-n
областей, но при этом недопустимо
уменьшается
(до
1÷2 В). Поэтому p-n
переход варикапов чаще всего имеет
планарно-эпитаксиальную структуру.
Рис. Планарно-эпитаксиальная структура варикапа
Затем методом диффузии создается высоколегированная область p+ типа.
При
обратном смещении область объемного
заряда в основном распространяется в
низколегированную n
область, что определяет высокие значения
пробивного напряжения. В тоже время,
высоколегированные p+,
n+
- обеспечивают малое последовательное
сопротивление
.
Необходимая емкость создается за счет
площади p-n
перехода.
Второй элемент обозначения варикапов – буква В. КВ или 2В. Например, КВ117 A, Б. Встречается КВС 111 А, Б – буква С – сборка.
Светоизлучающие диоды (СИД) – полупроводниковые приборы, преобразующие электрическую энергию в энергию электромагнитного излучения в видимой и инфракрасной области спектра.
Изготовляется
p-n
переход на основе материалов, имеющих
высокую вероятность излучательной
рекомбинации, то есть GaAs
В
– инфракрасное излучение, GaP
В
- красно-желтое свечение, GaN
- синего, SiC
В
от желтого до синего. А также тройные
соединения GaAlAs
В,
GaAsP
В
– инфракрасные, красные и желтые. P-n
переход обычно несимметричный. Одна из
областей – эмиттер – легирована
значительно сильнее другой – базы. В
нашем случае (см. рис.) прямой ток
переносится в основном электронами,
которые инжектируются из эмиттера в
базу. В базе электроны оказываются
неравновесными носителями, рекомбинирующими
вблизи p-n
перехода. Возникающее излучение выходит
через поверхность базы. КПД – несколько
процентов. Длина волны излучения
определяется
:
.
для
GaAs
– угол полного отражения
Рис. Структура светоизлучающего диода
Как элемент электрической цепи светодиод отличается повышенным прямым напряжениям, что связано с повышенной полупроводника. На светодиоды нежелательно подавать даже малое обратное напряжение, так как при этом они быстро деградируют (обычно область объемного заряда мала – высоколегированные области, а если приложить обратное напряжение, то в области объемного заряда высокая напряженность электрического поля, что приводит к неконтролируемому движению ионов примеси, это увеличивает число ловушек и КПД падает).
Туннельные диоды. Имеют N-образную ВАХ. Выполняются на основе высоколегированных p и n областей, предназначены для работы на ВЧ – генерация ВЧ колебаний. Предложены в 1958 г., Ясаки (Япония)
Рис. ВАХ туннельного диода