- •Лекции по конструкторско-технологическому обеспечению
- •Поколения конструкции электронной аппаратуры
- •Основы микроэлектроники
- •Классификация интегральных схем (ис)
- •Простые и сложные микросхемы
- •Технологические основы микроэлектроники
- •Кристаллическая структура и свойства полупроводника
- •Элементы биполярных ис
- •Типичная конфигурация биполярных транзисторов в плане.
- •Супер β-транзисторы
- •Многоколлекторные n-p-n транзисторы
- •Латеральный (горизонтальный) p-n-p транзистор
- •Схемы с инжекционным питанием (и2л)
- •Диффузионные, ионно-инжекционные и тонкопленочные резисторы
- •Диффузионные и мдп конденсаторы (металл-диэлектрик-полупроводник)
- •Структура мдп интегральных схем
- •Проектирование межэмиттерных элементов
- •Основные технологические операции изготовления ис
- •Методы получения эпитаксиальных слоев кремния
- •Диффузия примеси полупроводников
- •Методы осуществления диффузии
- •Диффузия в открытой трубе
- •Диффузия примеси на этапе разгонки
- •Ионная имплантация
- •Сущность ионного легирования
- •Формирование диэлектрических покрытий
- •Осаждение диэлектрических пленок
- •Литография
- •Основные операции фотолитографического процесса
- •Перспективные методы литографии
- •Методы получения тонких пленок
- •Метод магнетронного распыления
- •Технология тонкопленочных имс
- •Пассивные тонкопленочные элементы имс
- •Методы формирования конфигураций тонкопленочных элементов
- •Технология толстопленочных гис
- •Основные технологические операции изготовления толстопленочных гис
- •Сборка микросхем
- •Технология электромонтажных работ
- •Материалы для печатных плат
- •Основы технологии изготовления рисунка пп
- •Технический процесс получения рисунка
- •Сборка навесных элементов на пп
- •Поверхностный монтаж изделий электронной техники
- •Технологические процессы сборки
- •Единая система конструкторской документации ескд
Поколения конструкции электронной аппаратуры
Конструкция – это совокупность деталей с разными физическими свойствами и формами, находящиеся по определенной электрической, пространственной, механической, тепловой, магнитной и энергетической взаимосвязью, обеспечивает выполнение заданных функций с необходимой точностью в условиях внешних воздействий и предусматривает возможность ее повторения в условиях производства.
В конструкциях широко используются печатные платы, выполняющие функции несущей конструкции и соединяющий элементы.
1. Электронные аппараты (ЭА) поколения 20-50 годов были устроены с использованием электровакуумных ламп, дискретных радио элементов, проводных электрических связей. Аппаратура 1-ого поколения имела блочную конструкцию, каждый блок – осциллограф, вольтметр, имел определенное функциональное назначение.
Недостатки : малая плотность компоновки, степень унификации несущих конструкций, неприспособленность конструкций к автоматизации, механизации сборочно-монтажных работ.
РЭ поколения 50-60 годов – конструкции на печатных платах и дискретных элементах.
Особенность : применение модулей на печатных платах, микромодули этастерочной конструкции и плоской конструкции.
Из таких модулей формировались более сложные узлы.
Преимущества : увеличение плотности компоновки, замена приборов на полупроводниковые, более плотная компоновка ЭРЭ
Недостатки : ремонтопригодность аппаратуры ниже
3. поколение 60-70 – на печатных платах и интегральных микросхем с малой степенью интеграции (1 и 2), являющимися функциональными модулями. Конструктивно представляет многослойную интегральную плату (сложность соответствует блоку первого поколения)
Преимущества : корпусные микросхемы
4. поколение 70-..? годов – применение БИС, многослойных печатных плат, гибких печатных шлейфов, микрополосных линий.
Применение : бескорпусные элементы , герметизация в корпусе
Преимущества : увеличение плотности компоновки.
Недостаток : ухудшение ремонтопригодности.
развивается в настоящее время
Приборы функциональной микроэлектроники. Они не имеют физического подобия с электронными цепями и используют оптические явления, механические колебания, диэлектрики и т.д.
Основы микроэлектроники
Эта область электроники, которая охватывает проблемы исследования, конструирования, изготовления и применения микроэлектронных изделий.
Электронное устройство – это устройство с с высокой степенью интеграции.
Основные принципы – групповой метод и планарная технология.
Различают основные типы микроэлектронных изделий :
интеграционная схема
функциональные компоненты
микрокомпоненты (сопутствующие) – печатные платы, индукционные пленки…
Эти элементы должны быть совместимы по конструкции, областям применения и для практической реализации применяют технологические приемы микроэлектроники.
Классификация интегральных схем (ис)
Был разработан стандарт ГОСТ 17.021-88
Для классификации ИС можно использовать разные критерии :
- степень интеграции
- физический принцип работы активных элементов
- быстродействие
- заполняющая функция
Наиболее распространенная классификация по конструктивно-технологическим признакам, так как в названии микросхем содержится информацию о ее конструкции и технологии изготовления.
По К-Т признакам ИС делятся на :
- полупроводниковые
- пленочные
- гибридные
Полупроводниковая ИС – это ИС, все элементы и межэлементные соединения которой выполнены в объеме или поверхности полупроводникового материала.
Пленочная ИС – это ИС, все элементы и межэлементные соединения которой выполнены из пленок (R, C, L); в зависимости от толщины пленок и способов создания элементов микросхем делятся на тонко- и толсто- пленочные (тонко- толщина пленки не больше 1 микрона; толсто- толщина от 10 до 70 микрон).
Гибридные ИС – в качестве активных элементов используются навесные дискретные полупроводники или ИМС; в качестве пассивных элементов – пленочные (R, C, L) и соединяющие их пленочные проводники; механической основой является диэлектрическая подложка.
Совмещенные микросхемы – все активные и часть пассивных изготавливаются по полупроводниковым технологиям , а часть пассивных по тонкопленочной.
Полупроводниковая пластина – заготовка из полупроводникового материала, предназначенная для изготовления полупроводниковых ИМС.
Кристалл – это часть полупроводниковой пластины, в объеме и на поверхности которой сформированы элементы ИМС, межэлементные соединения и контактная площадка.
Базовый кристалл ИС – это часть полупроводниковой пластины с определенным набором сформированных элементов, в том числе электрически соединенных или не соединенных между собой, используемые для создания ИС путем изготовления межэлементных соединений.
Базовый матричный кристалл ИМС с регулярным в виде матрицы расположением базовых ячеек.
