
- •1. Технологическая схема репродукционного процесса, стадии и их суть.
- •2. Допечатные процессы, их цель и задачи.
- •3. Три компонента изобразительной информации.
- •4. Классификация оригинала по технологическим признакам.
- •5. Информационное содержание оригинала.
- •7. Задачи при воспроизведении штрихового изображения.
- •8. Растровые принципы воспроизведения градации.
- •9. Линиатура (частота растра).
- •10.Воспроизведение градации. Формула Шеберстова-Мюррея-Девисса.
- •12. Принцип формирования автотипного растра.
- •13. Структурные признаки автотипных растровых структур.
- •14. Внешняя модуляция.
- •15. Внутренняя модуляция. Признаки автотипного растра.
- •17. Профиль растрового элемента. Связь градации с профилем.
- •18. Проекционный растр.
- •22. Система cmy, ее использование в полиграфии.
- •23. Реальные краски и система cmyk.
- •19. Электронное растрирование.
- •20. Система rgb, ее применение в полиграфии.
- •21. Автотипный синтез.
- •30. Назначение черной краски и способ получения фотоформы для нее.
- •25.Цветоделение: основные принципы, связь со светофильтрами, выделение краски.
- •29. Фотографическое маскирование.
- •31. 32. Понятие о муарообразовании.
- •33. Методы уменьшения муара.
- •34. Требования к комплекту фотоформ.
- •35. Методы контроля комплекта цветоделенных фотоформ.
- •41. Структурные свойства регистрирующих сред.
- •36. Схема обработки сфои и спои.
- •37. Состав системы форматной обработки изображения (Состав сфои).
- •42. Технологические свойства регистрирующих сред.
- •38. Основные свойства объектива.
- •39. Номенклатура и спецификация полиграфических материалов.
- •43. Требования к фототехническим материалам и х-ф обработке.
29. Фотографическое маскирование.
Метод фотографического маскирования базируется на сложении плотностей фотографических изображений, предназначенный для управления передачей градаций и точностью передачи мелких деталей. Передача без градационных искажений - прямая под 45° график. Управление градацией может осуществляться за счёт использования фотографических свойств ф/п, а так же градационных масок при их совмещении с основным изображением. Маску исправления зелёнофильтрового негатива по голубой краске изготавливают с негатива для голубой краски в виде малоконтрастного краснофильтрового позитива. Маску совмещают с зелёнофильтровым негативом. В результате последующего контактного копирования с совмещённых маски и негатива получают исправленный по цветоделению позитив для пурпурной краски. Для коррекции синефильтрового негатива (снижение градиента пурпурной шкалы) маска изготавливается с зелёнофильтрового негатива (негатива для пурпурной краски). Такая маска – малоконтрастный зелёнофильтровый позитив – позволяет исправить синефильтровый негатив по обеим невыделяемым краскам. Для изготовления масок используют мягкую несенсибилизированную или ортохроматическую плёнку. Средствами управления градиентами маскирующих изображений являются выбор материала, условий экспонирования и обработки. Контроль процесса осуществляется по кривым выделяемости путём их сравнения с кривыми тоновых цветоделённых негативов до маскирования.
Маскирование делится на фотографическое маскирование и электронное.
Методы фотографического маскирования используются в системе форматной обработки информации, когда обработка изображения осуществляется фотографическими методами. Способ маскирования называется одноступенчатым, если маскирование производится в одну ступень. В тех случаях, когда мы хотим полностью компенсировать потерю контраста по черной краске можно использовать метод двухступенчатого маскирования. Для фотограф. маскирования было разработано много технологий, которые включают:
-маскирование контактное
-маскирование в фотоаппарате
-с использованием серых масок
-с использованием цветных фотографич. материалов
Эти методы применяются как методы внешнего маскирования. Маска изготавливается на отдельном материале. Методы внутреннего маскирования. Маскирующий слой вводится внутрь фотографического материала, используемого для цветоделения.
31. 32. Понятие о муарообразовании.
Муар- это периодическая структура, которая наблюдается когда растровые решетки накладываются под разными углами. Муарообразование является неизбежным. Характеризуется 2 параметрами: периодом (частотой) и контрастом. Тм=Тр/2sin(/2). Т(м)-период муара, Т (р) период растра. Разность частот будет тем больше, чем меньше угол. Чем ближе частоты, тем ниже частота муара, следовательно муар будет заметен. При малых углах мы получаем крупный муар, имеющий квадратную форму. При большом угле мы получаем малый муар, малозаметный.
Контраст определяется разностью между оптической плотностью, которая создается при наложении. Контраст зависит от площадей взаимодействующих структур. Муар является одним из видов шумов пространственной дискретизации.