- •1.Применение вакуума в науке и технике:
- •2.Молекулярно-кинетическая модель вакуума. Давление. Длина свободного пробега:
- •3.Степени вакуума, единицы измерения, параметры атмосферного воздуха:
- •4.Откачка вакуумных систем. Основное уравнение вакуумной техники:
- •10. Молекулярные и турбомолекулярные насосы. Принцип действия. Особенности работы:
- •11. Диффузионный паромасляный насос. Принцип действия. Устройство, особенности эксплуатации:
- •12. Измерение полных (общих) давлений. Гидростатический, деформационный манометры:
- •13. Тепловые манометры. Работа и устройство термопарного преобразователя и преобразователя сопротивления:
- •14. Электронные преобразователи. Принцип действия, конструкция, особенности работы.
- •15. Магнитные преобразователи. Принцип действия, конструкция, особенности работы.
- •16. Основы конструирования вакуумных систем. Принципиальная схема средневакуумной установки.
- •17. Требования к герметичности вакуумных систем. Характеристика основных методов течеискания.
- •18. Вакуумметрический метод поиска течей.
- •19. Материалы вакуумных систем. Требования к ним.
- •20. Хемосорбционная откачка. Конструкции испарительных насосов.
- •21. Ионно-сорбционная откачка. Конструкции ионно-сорбционных насосов.
- •22.Источники электронов. Эмиттеры электронов с фиксированной границей.
- •23. Зависимость тока термоэлектронной эмиссии от температуры катода и ускоряющего напряжения:
- •24. Типовые конструкции и материалы для термокатодов:(Термокатод это эмиттер)
- •25. Типовые конструкции термокатодов.
- •27. Физические основы работы лазеров.
- •28. Методы накачки лазеров
- •29. Твердотельные технологические лазеры. Конструкция, технические характеристики.
- •30. Газовые лазеры на углекислом газе. Конструкция, технические характеристики
- •31. Методы увеличения мощности лазеров на углекислом газе.
- •32. Фокусировка и управление лазерным излучением. Режимы работы лазеров.
- •33.Механизм преобразования энергии лазерного излучения в тепловую в металлах. Физические процессы происходящие при воздействии лазерным излучением на металлы.
- •3. Для чего применяются фракционирующие устройства в пароструйных насосах?
- •4. Какие методы измерения производительности вакуумных насосов Вы знаете?
- •5. Как произвести градуировку термопарного преобразователя?
- •6. Каково назначение электронной пушки?
- •8. Какие функции выполняет вакуумное масло в ротационных механических насосах?
- •9. Какие основные причины ненормальной работы механических насосов?
- •10.Какие процессы происходят высоковакуумном паромасляном диффузионном насосе непосредственно после включения нагревателя?
- •11. В чем принципиальное отличие магнитных преобразователей от электронных?
- •12. Каким образом можно повысить мощность лазерного излучения?
- •20. Какие преимущества имеют электронно-лучевые пушки с поворотом луча по сравнению с аксиальными?
- •21. Что такое первеанс и кроссовер?
- •22. Как отличить реальную течь от виртуальной?
20. Хемосорбционная откачка. Конструкции испарительных насосов.
Хемосорбция - химическое поглощение вещества поверхностью твёрдого тела.
Хемосорбционная откачка осуществляется путем поглощения активных газов на поверхности металлов. Наибольшее распространение для хемосорбционной откачки получили следующие металлы: Ti, Ta, Mo, W. Теплота адсорбции Qа зависит от рода газа; например титан лучше поглощает кислород, азот и углекислый газ, не поглощает инертные газы. Для увеличения поверхности металла при его взаимодействии с откачиваемыми газами используется распыление металла, сопровождающееся нанесением тонких пленок на электроды и корпус насоса. Возможность непрерывного обновления напыленной пленки увеличивает срок службы насоса.
Поглощение газов пленками может носить поверхностный (обычно при низких температурах) или объемный (при высоких температурах) характер. При поверхностном - количество сорбированного газа прямо пропорционально времени сорбции. Объемное поглощение происходит за счет диффузии газа в пленку, и количество поглощенного газа пропорционально корню квадратному из времени сорбции.
Конструкция испарительного насоса: Испарительный насос состоит из корпуса 4, в котором располагается испаритель 5. Атомы активного металла, вылетающие из испарителя, конденсируются на экранах 2 и обеспечивают откачку химически активных газов. Экран 3 защищает откачиваемый объект от проникновения паров испаряемого материала. Экраны 2 для повышения быстроты откачки могут охлажд-ся жидким азотом. Предельное давление в испарительных насосах 10-7Па. Максимальная быстрота действия при откачке водорода достигает 200000 л/с. Применение насосов испарительного типа неэффективно при откачке продуктов органического происхождения и инертных газов.
21. Ионно-сорбционная откачка. Конструкции ионно-сорбционных насосов.
При ионно-сорбционной откачке используют два способа поглощения газа: внедрение ионов в объем твердого тела под действием электрического поля и химическое взаимодействие откачиваемых газов с тонкими пленками активных металлов.
Насос с независимым распылением активного металла состоит из корпуса 6, рис. 2.33. Электроны, вылетающие из термокатода 1, направляются на распылитель 4 и анодную сетку 2, к которым приложено высокое напряжение. Электронная бомбардировка распылителя греет его до температуры испарения находящегося в нем активного металла. При этом электроны, направляющиеся к анодной сетке, совершают до попадания в нее несколько колебаний, ионизируя путем соударений молекулы остаточных газов. Управляющая сетка 3 служит для поддержания постоянства эмиссионного тока. Ионизированный газ хорошо сорбируется активным металлом, напыленным на поверхность стенки корпуса, и ионной откачкой путем внедрения положительных ионов в стенку корпуса.
22.Источники электронов. Эмиттеры электронов с фиксированной границей.
Источники эл-ов дел-ся на источники с фиксированной и с подвижной эмиссионной границей. Первые дел-ся на термоэмиторы и холодные катоды. К термоэмиторам относят металлич. (W. Mo. Ta), металлопористые и гексоборид лантановые. Холодные дел-ся на фотоэмиссионные, автоэмиссионные гексоборидлантановые, полупроводниковые, вторично-электронные, металлические автоэмиссионные. Источники с подвижной границей дел-ся на стационарные плазменные образования(плазмодуговые и тлеющий разряд) и нестационарные пилазменные образования(искровой разряд, взрыв проводников и воздействие лазера). Процесс выхода электронов с поверхности тел называются эмиссией, а тела, испаряющие электроны называют эмиторами. Основное распространение получили эмиторы из ТВ. веществ, главным образом накальные катоды.
