
- •Тема 7 Поверхностные явления
- •§ 7.1 Эффект поля. Структура металл – диэлектрик – полупроводник (мдп-структура)
- •§ 7.2 Эффект поля в собственном полупроводнике
- •§ 7.3 Эффект поля в примесном полупроводнике
- •Тема 8 Полупроводниковые диоды § 8.1 Классификация, разновидности
- •§ 8.2. Стабилитроны
- •§ 8.3 Туннельные диоды
- •§ 8.4 Маркировка диодов
- •Тема 9 Биполярный транзистор
- •§ 9.1 Назначение, устройство транзистора
- •§ 9.2 Параметры, схемы включения и вах биполярного транзистора
- •§ 10.1 Тиристоры
- •Тема11 Полевые транзисторы, управляемые
- •§ 11.1 Назначение, устройство и принцип работы
- •Тема 12 Полевой транзистор с изолированным затвором (мдп – транзистор)
- •§ 12.1 Назначение, устройство и принцип работы
- •Тема 13 Приемники и источники излучения § 13.1 Фоторезисторы
- •§ 13.2 Фотодиоды
- •§ 13.3 Фотоэлементы
- •§ 13.4 P-I-n фотодиоды и лавинные фотодиоды
- •§ 13.5 Фототранзисторы и фототиристоры
- •§ 13.6 Светодиоды
- •Тема 14 Термоэлектрические приборы § 14.1 Полупроводниковые терморезисторы
- •§ 14.2 Измерение температуры с помощью полупроводниковых диодов
- •§ 14.3 Применение
- •Тема 15 Интегральные схемы § 15.1 Интегральные микросхемы
- •§ 15.2 Пленочные и гибридные интегральные микросхемы
- •Тема 16 Полупроводниковые интегральные схемы § 16.1 Элементы полупроводниковых интегральных схем
§ 14.3 Применение
термопреобразователей
транзисторов
в
качестве
Большинство параметров полупроводниковых приборов с p-n-переходом в той или иной степени зависят от температуры. Для целей
температурой
наибольшее
база-эмиттер
закороченном
термометрии наиболее подходящим оказалось изменение с прямого падения напряжения на p-n-переходе, а
распространение получила схема измерения напряжения маломощного планарного кремниевого транзистора при переходе коллектор-база (рисунок 14.3).
UБЭ
с
температурой
ГTЛ
_Eg0-U - ГтЛ и Г
mkT
БЭ(T1)
U
ln
(T-T1)-
БЭ
q
T1
+ kTxln
V K 1 J
q
96
экстраполированная к T = 0 K; m — коэффициент, характеризующий преобладающее влияние тока генерации-рекомбинации или диффузионного тока (m = 1÷2); k — постоянная Больцмана; q — заряд электрона (Кл); IК — текущее значение тока коллектора; IК1 — значение тока коллектора, при котором измерено UБЭ(T1).
Деформация кристалла транзистора из-за разности температурных коэффициентов расширения кремния, материалов выводной рамки и герметизирующего компаунда транзисторов в пластмассовом корпусе тоже ведет к изменению напряжения база-эмиттер, чем и может определяться нелинейность характеристики. Для точных измерений лучше использовать транзисторы в металлическом (коваровом) корпусе, которые к тому же более устойчивы к воздействию таких неблагоприятных факторов окружающей среды, как влажность и некоторое присутствие агрессивных примесей. Проблемой может оказаться изменение изготовителем транзисторов технологии изготовления и топологии кристалла без уведомления.
Тема 15 Интегральные схемы § 15.1 Интегральные микросхемы
Интегральные микросхемы (ИМС) представляют собой
микроэлектронные изделия, имеющие высокую плотность упаковки электрически соединенных элементов (или элементов и компонентов).
Элементы интегральной микросхемы, реализующие функцию какого-либо радиоэлемента (например, транзистора, диода, конденсатора), неотделимы от нее и поэтому их нельзя отдельно испытывать или эксплуатировать в других устройствах.
Компоненты интегральной микросхемы отличаются от ее элементов тем, что перед сборкой они были самостоятельными изделиями, отдельно изготовленными и испытанными. В принципе компоненты могут быть отделены от готовых ИМС (например, при ремонте). Компонентами являются бескорпусные ИМС, диоды и транзисторы, а также конденсаторы и резисторы.
Интегральные микросхемы различаются по сложности, которая определяется степенью интеграции. Так, ИМС, содержащие до 10 элементов и компонентов, относят к первой степени интеграции, от 11 до 100 — ко второй и т. д. ИМС шестой степени интеграции содержат от 100 001 до 1000000 элементов и компонентов.
Кроме того, приняты количественная и качественная оценки сложности ИМС, позволяющие разделить их на четыре группы: малые — МИС, средние — СИС, большие — БИС и сверхбольшие — СБИС.
По принципу действия и способам обработки сигналов информации (вид ИМС) интегральные микросхемы делятся на цифровые и аналоговые, а по типу активных элементов они выполняются на биполярных и униполярных транзисторах.
Классификация интегральных микросхем приведена в таблице 15.1.
В зависимости от технологии изготовления ИМС делятся на полупроводниковые, пленочные и гибридные.
В полупроводниковых ИМС все элементы и соединения между ними выполнены в объеме и на поверхности кристалла полупроводника.
В пленочных ИМС элементы и соединения выполняются в виде проводящих и изолирующих пленок.
Гибридными являются ИМС, содержащие элементы и компоненты.
Интегральные микросхемы единого конструктивно-технологического исполнения, предназначенные для совместного применения, выпускаются сериями.
97
Таблица 15.1. Классификация интегральных микросхем
Группа |
Вид |
Активные |
Количество |
|
|
элементы |
элементов и (или) компонентов |
МИС |
Цифровая |
Биполярные |
1 — 100 |
|
» |
Униполярные |
1—30 |
|
Аналоговая |
Биполярные |
1—30 |
СИС |
Цифровая |
Униполярные |
101 — 1000 |
|
» |
Биполярные |
101—500 |
|
Аналоговая |
» |
31 — 101 |
|
» |
Униполярные |
31 — 101 |
БИС |
Цифровая |
» |
1001 — 10 000 |
|
У> |
Биполярные |
501—2000 |
|
Аналоговая |
Униполярные |
101—300 |
|
» |
Биполярные |
101—300 |
СБИС |
Цифровая |
Униполярные |
Более 10 000 |
|
» |
Биполярные |
» 2000 |
|
Аналоговая |
Униполярные |
» 300 |
|
» |
Биполярные |
» 300 |