
Локализация Андерсона
Примесный атом. В периодическом поле кристалла электрон с энергией, совпадающей с уровнем в разрешенной зоне, описывается волной Блоха и рассматривается как свободная квазичастица, обнаруживаемая в любом месте кристалла. При нарушении периодичности, вызванной примесным атомом, происходит захват электрона атомом. Состояние электрона оказывается в запрещенной зоне. Явление описал Ф. Андерсон в 1958 г.
Спектральное
уравнение.
Атом примеси в точке x0
кристалла создает возмущение потенциальной
энергии электрона
.
Для получения состояний электрона
используем уравнение Шредингера
,
где
– гамильтониан в невозмущенной решетке
конечного размера. Решение разлагаем
по базису N
невозмущенных функций спектра разрешенной
зоны
.
(3.89)
Для нахождения
энергии E
и коэффициентов
подставляем разложение в уравнение,
учитываем
и получаем
.
Для извлечения из
суммы коэффициента cm
умножаем уравнение на
,
интегрируем по объему кристалла и
используем
,
,
тогда получаем
.
(3.90)
Учитывая (3.89), находим
.
(3.91)
Подстановка
и
в (3.90) дает
.
Приводим к общему знаменателю и получаем алгебраическое уравнение
.
(3.92)
Анализ уравнения. Уравнение степени N имеет N корней для энергий N возмущенных уровней. В левой стороне находится полином степени N, в правой – степени (N – 1).
При слабом возмущении
правая сторона (3.92) равна нулю. В левой
стороне энергия принимает одно из
невозмущенных значений
– спектр не изменяется.
При сильном
возмущении в виде отталкивания
,
или притяжения
энергия
растет. В левой стороне (3.92) главный
вклад дает наибольшая степень Е,
тогда для одного из решений получаем
.
Остальные
решений конечные и для них из (3.92) следует
уравнение степени
,
корни которого близки корням невозмущенного уравнения. Следовательно, при локальном возмущении кристаллической решетки один уровень разрешенной зоны отщепляется и при поднимается вверх, при опускается вниз. В запрещенной зоне появляется состояние л. Остальные уровни практически не меняют своего положения.
Состояние в
запрещенной зоне
разлагаем в ряд (3.89)
с коэффициентами (3.91)
,
где учтено
и
при
.
Тогда получаем
,
где использована
полнота базиса
.
Следовательно, при
сильном возмущении электрон в запрещенной
зоне локализован в области возмущения
.
Чем слабее
возмущение,
тем ближе
энергия электрона к разрешенной зоне
и больше область локализации.
При
локализованное состояние переходит в
нелокализованное состояние разрешенной
зоны, обнаруживаемое в любом месте
кристалла.
Уровни Тамма
Кристалл со свободной границей в виде барьера при имеет
,
где Н(x) – функция Хевисайда; V – потенциальный барьер на поверхности кристалла. Уравнение Шредингера (3.1) имеет вид
.
(3.93)
При
,
получаем
,
.
(3.94)
Используем убывающее решение
.
При уравнение (3.93) совпадает с (3.75) и получаем решение (3.76)
.
В общем случае квазиимпульс комплексный
,
Q1 и Q2 – вещественные.
Для вещественного
квазиимпульса
решение
совпадает с волной Блоха в неограниченной
решетке, энергия имеет зонную структуру.
Для комплексного
квазиимпульса решение
и энергия зависят от Q2.
У кристалла
со свободной поверхностью появляются
состояния в запрещенной зоне, называемые
уровнями Тамма, локализованные в
поверхностном слое толщиной
.
Возможность существования состояний
электрона вблизи поверхности кристалла
обосновал И.Е. Тамм в 1932 г.
Объемная концентрация
собственных носителей тока в полупроводнике
,
поверхностная концентрация
.
Плотность поверхностных уровней
в слое толщиной
.
Поверхностные уровни изменяют концентрацию
свободных электронов и дырок в
поверхностном слое, изгибают границы
энергетических зон. На рисунке показан
полупроводник n-типа
с поверхностными состояниями акцепторного
типа, обогащающими поверхностный слой
неосновными носителями – дырками. В
результате изменяется работа выхода,
размывается энергетический спектр,
происходит рассеяние носителей тока,
уменьшается длина свободного пробега
и длина когерентности волны де Бройля.
В микроэлектронике используются
гетероструктуры с близкими
кристаллографическими характеристиками,
где одна кристаллическая решетка
переходит в другую без образования
открытой поверхности.