ИДЗ 6
.docxСанкт-Петербургский государственный электротехнический университет
кафедра ФЭТ
Дисциплина
«Технология материалов и элементов электронной техники»
Расчет по заданию №6
Выполнил студент группы 5207
Иванов А.Д.
Преподаватель:
профессор Шаповалов В.И.
Санкт - Петербург
2018 г.
Цель работы: определить скорость роста пленки теллура методом МЛЭ на краю подложки.
Молекулярно-лучевая эпитаксия
Дано:
Рисунок 1 – Распространение плотности потока на подложку
Решение
-
Определим давление насыщенного пара и площадь отверстия эффузионной ячейки:
-
Вычислим поток в плоскости выходного отверстия ячейки Кнудсена:
-
Рассмотрим рост пленки с левой стороны:
-
Рассмотрим рост пленки с правой стороны:
Ответ: с левой стороны стороны , с правой стороны