
- •1. Особенности кристаллического строения твёрдых тел. Монокристаллы.
- •2. Правило фаз Гиббса. Однокомпонентная система.
- •3. Уравнение Клайперона – Клаузиуса. Анализ уравнения.
- •7. Диаграммы плавкости бинарных систем с химическими соединениями в твердой фазе.
- •8. Кристалло- физические методы получения сверхчистых металлов.
- •12. Термоэлектрические явления в проводниках.
- •18. Поляризация диэлектрических материалов. Механизмы.
- •19. Сегнетоэлектрики. Классификация. Применение. Свойства.
- •20. Пьезоэлектрики. Пьезоэлектрический эффект. Применение.
- •Физическая химия.
- •1. Элементы точечной симметрии кристаллов.
- •2.Элементы симметрии внутреннего строения кристаллов. Простые и сложные решетки.
- •3.4. Образование металлов и диэлектриком в схеме зонной теории. 4.Образование полупроводников в схеме зонной теории. Приместные полупроводники.
- •5. Теплоемкость кристалла. Зависимость теплоемкости от температуры.
- •6. Двойное лучепреломление и поляризация света в кр-лах. Оптические св-ва кристаллов и их применение.
- •7. Дефекты по Шоттки. Температурная зависимость концентрации дефектов. Дефекты по Френкелю. Температурная зависимость концентрации дефектов
- •8. Беспорядок в кристалле обусловленный нарушениями стехиометрии. Температурная зависимость концентрации дефектов нестихеометрии.
- •9. Беспорядок в кристалле обусловленный посторонними примесями. Неизбежность присутствия примесей в кристалле.
- •10.Факторы, обуславливающие явления переноса. Хаотический и направленный перенос.
- •11.Механизмы диффузии в кристаллах. Хаотическая самодиффузия. Коэффициент хаотической самодиффузии.
- •12. Направленная диффузия. 1 и 2 законы Фика.(взято из интернета).
- •13.Электрическая проводимость кристалла. Электрохимический перенос. Электрохимический потенциал.
- •14. Особенности и стадии протекания твердофазных реакций. 15.Формальное ур-е кинетики твердофазных реакций.
- •Физ. Электроника
- •Термоэлектронная эмиФссия
- •Термоэлектронная эмиссия с поверхности полупроводников
- •Термокатоды
- •2. Фотоэлектронная эмиссия
- •3. Вторичная электронная эмиссия
- •4. Движение электронов в вакууме в режимеобъемного заряда.
- •5. Триоды
- •Многоэлектродные лампы
- •6. Электронная оптика.
- •Электронные линзы
- •Электростатические линзы
- •Магнитные линзы
- •Электронно-оптические системы электронно-лучевых приборов
- •7. Приемные электронно-лучевые трубки
- •8. Электровакуумные приборы диапазонасверхвысоких частот Особенности движения электронов в свч полях
- •9. Типы столкновения электронов с тяжелыми частицами.
- •Упругие соударения электронов с атомами и молекулами газа
- •Неупругие соударения электронов с атомами и молекулами
- •11. Понятие газового усиления.
- •12. Виды самостоятельных разрядов
- •13. Газоразрядная плазма
- •15. Механизмы пробоя n-р перехода
- •16. Биполярные транзисторы
- •17. Полевые транзисторы с изолированным затвором (мдп-транзисторы)
7. Дефекты по Шоттки. Температурная зависимость концентрации дефектов. Дефекты по Френкелю. Температурная зависимость концентрации дефектов
Процесс образования дефектов по Шоттки-эндотермический,его вклад в энергию системы будет составлять nHш,n-ч-ло вакансий. Hш-энергия образования одного дефекта. Отметим,что в рез-те появления вакансий меняются условия колебания ч-ц- соседок этой вакансии. За счет появления рядом свободного места амплитуда колебания повышается, а частота уменьшается. ΔG=ΔHш+nHш+TΔSкол-TΔSконф.(1) ΔSкол-колебательная энтропия,связанная с изменением условий колебания ч-ц соседок вакансий. ΔSконф=klnW-ур-е Больцмана, k-постоянная,W- термодинамическая вероятность W-число способов размещения возникших вакансий в узлах решетки(ч-ло возможных микросостояний для данного макросостояния) Что бы определить равновестную концентрацию дефектов по Шоттки необходимо подставить значения энтропий в ур-е(1) далее следуют различные математические преобразования))) Равновестную концентрацию находят из условия минимума энергии Гиббса. Окончательное выражение для конц-ии выглядит так: Xш=Aexp(-ΔHш/kT) либо Kш=Aexp(-ΔHш/kT),Kш- константа Шоттки,т.е. мольная доля вакансий при какой-то фиксированной температуре,есть величина постоянная. Физический смысл А-показывает во сколько раз изменяется колебательная энтропия.
При рассмотрении данного беспорядка используется аналогичный беспорядку по Шоттки подход, стоит отметить,что изменение колебательного спектра ч-ц кристалла окажется более сложным, т.к. изменяется не только частоты колебаний частиц соседок вакансии, но и частоты колебаний ч-ц в междоузлиях и ч-ц соседок междоузлий. Окончательное выражение мольной доли По Френкелю: Xф=(V/V1)(V/V2)p(V/V3)qexp(-ΔHфр/kT). р-число частиц соседок одной вакансии,q-число ч-ц соседок одной частицы в междоузлии. ΔHфр-энергия образования дефекта по Френкелю. V1-частота колеб. частиц в междоузлии. V2- ч-та колеб. ч-ц соседок вакансии.V3- частота колебаний ч-ц соседок интерстицальных частиц(ч-ц в междоузлии).
8. Беспорядок в кристалле обусловленный нарушениями стехиометрии. Температурная зависимость концентрации дефектов нестихеометрии.
Кристалл всегда находится в контакте с газовой фазой(в равновесии с собственным паром) Если кристалл элементарный,то о нестехиометрии речи быть не может,однако если мы имеем дело с бинарным или более сложным кр-лом, появление дефектов нестехиометрии неизбежно. Нестехиометрия- нарушение законов стехиометрии, а именно законов постоянства состава, кратных отношений и эквивалентов. АВтв=АВг, АВтв=Аг+Вг, Аг+АВтв=А1+ХАВтв, АВтв+Вг=АВ1+ХВтв Если отклонение от стехиометрии не велико, то активности твердых фаз равны 1 и константы равновесия реакций 1-4, полностью определяются давлениями паров А и В. Если РА не равно РВ, равновесие окажется смещено либо в сторону реакции 3 избыток А в АВ, либо р-ии 4, избыток В в АВ. Даже если давления равны, тогда мольная доля А в АВ и В в АВ будут все равно подчиняться з-м распределения. XA=LAPA XB=LBPB, LB,A- коэффициенты распределения которые не равны друг другу. Т.е. нестехиометрия термодинамичиски не избежна можно лишь попытаться варьировать ее величину в сторону уменьшения либо в сторону увеличения(для получ новых электрофизических св-в). Нестехиометрия- представляет собой объективно существующее св-во химического соединения, проявляющееся в виде самопроизвольного нарушения численного соотношения между компонентами химического соединения, по сравнению с теми соотношениями, которые регулируются законами стехиометрии. Рассмотрим частицы которые оказались в кр-ле, в избытке против стехиометрии. Такая частица может 1)изменить свою степень окисления(валентность) 2)сохранить формально степень окисления подвергнуться сильной деформации электронных оболочек. Первый случай означает, что между ч-цей и кристаллом произошел обмен электронами, т.е. прошла окислительно-восстановительная реакция. Такого рода р-ии называются реакциями дефектов и именно эти реакции отвечают за изменение электрофизических св-в. Второй случай –встречается редко, особого практического интереса не представляет.