
- •1. Конструктивно-технологічні вимоги до друкованих плат та їх класифікація.
- •1.2 Класифікація друкованих плат
- •1.3. Загальні вимоги до друкованих плат.
- •2. Конструкційні матеріали для виготовлення друкованих плат.
- •2.1. Загальні вимоги до матеріалів.
- •2.2. Матеріали для виготовлення одношарових друкованих плат.
- •2.3. Матеріали для виготовлення багатошарових друкованих плат.
- •2.4. Матеріали для виготовлення гнучких друкованих плат.
- •2.5. Мідна фольга для виготовлення друкованих плат.
- •3. Методи виготовлення друкованих плат.
- •3.1. Класифікація методів виготовлення одношарових друкованих плат.
- •3.2. Субтрактивний метод виготовлення друкованих плат.
- •3.2.1. Субтрактивний негативний метод
- •3.2.2. Субтрактивний позитивний метод.
- •3.3. Адитивний метод виготовлення друкованих плат.
- •3.3.1. Напрямки подальшого розвитку адитивного методу.
- •3.4. Електрохімічний метод виготовлення друкованих плат.
- •3.4.1. Використання електрохімічного методу для виготовлення друкованих плат на металевій основі.
- •3.5. Комбінований метод виготовлення друкованих плат.
- •3.5.1. Негативний комбінований метод.
- •3.5.2. Базовий позитивний комбінований метод.
- •3.5.3. Позитивний комбінований метод з використанням тонкомірної фольги (напівадитивна технологія).
- •3.5.4. Виготовлення двобічних друкованих плат з перехідними з’єднаннями з паяльною маскою і підвищеною густиною монтажу.
- •3.6. Виготовлення багатошарових друкованих плат методом металізації наскрізних отворів.
- •3.6.1. Виготовлення бдп методом металізації наскрізних отворів з використанням діелектриків з тонкомірную фольгою.
- •3.7. Виготовлення гнучких друкованих плат.
- •3.7.1. Виготовлення гнучких друкованих кабелів.
- •3.7.2. Виготовлення гнучких друкованих плат з використанням струмопровідних паст.
- •4. Нанесення захисного рельєфу у виробництві друкованих плат.
- •4.1. Метод фотохімічного друку.
- •4.1.1. Нанесення захисного рельєфу з використанням рідких фоторезистів.
- •4.1.2. Нанесення захисного рельєфу з використанням сухих плівкових фоторезистів.
- •4.2. Нанесення захисного рельєфу методом трафаретного друку.
- •4.2.1. Сіткові матеріали для виготовлення трафаретних друкованих форм.
- •4.2.2. Трафаретні друкарські фарби.
- •4.2.3. Виготовлення трафаретних друкованих форм (тдф).
- •4.2.3.1. Виготовлення тдф з використанням рідкої світлочутливої композиції “фотосет-ж”.
- •4.2.3.2. Виготовлення тдф з використанням плівкового резисту типу фп.
- •4.2.3.3. Виготовлення тдф методом впресовування спф в металеву сітку.
- •4.2.4. Обладнання дільниць трафаретного друку.
- •5. Хімічна металізація у виробництві друкованих плат.
- •5.1. Активація діелектриків у виробництві друкованих плат.
- •5.1.1. Двохстадійний процес активації діелектриків.
- •5.1.2. Активація діелектриків у суміщеному розчині (пряме активування ).
- •5.1.3. Регенерація паладію із відпрацьованих розчинів активування.
- •5.2. Хімічне осадження міді.
- •5.2.1. Причини нестабільності розчинів хімічного міднення.
- •5.2.2. Розчині для хімічного міднення друкованих плат.
- •5.2.3. Утилізація відпрацьованих розчинів хімічного міднення.
- •5.2.4. Обладнання для хімічного міднення друкованих плат.
- •6. Гальванічні процеси у виробництві друкованих плат.
- •6.1. Гальванічне міднення.
- •6.1.1. Електроліти для міднення друкованих плат.
- •6.1.2. Аноди.
- •6.1.3. Очищення електролітів міднення від органічних домішок.
- •6.1.4. Особливості технологічного процесу міднення друкованих плат.
- •6.1.5. Контроль якості мідного покриття на друкованих платах.
- •6.2. Гальванічне нанесення сплаву олово-свинець на друковані плати.
- •6.2.1. Способи зближення потенціалів виділення окремих компонентів сплаву.
- •6.2.2. Електроліти для гальванічного нанесення сплаву пос-61.
- •6.2.3. Особливості технологічного процесу гальванічного нанесення сплаву пос-61.
- •6.2.4. Контроль якості покриття сплавом пос-61.
- •6.2.6. Видалення покриття сплавом пос-61 із друкованих роз’ємів плат.
- •6.3. Гальванічні покриття роз’ємів друкованих плат.
- •6.3.1. Гальванічне нанесення золотих покриттів.
- •6.3.2. Гальванічне нанесення паладієвих покриттів.
- •6.3.3. Гальванічне нанесення срібних покриттів.
- •6.3.4. Обладнання для нанесення гальванічних покриттів на роз’єми друкованих плат.
- •7. Травлення міді у виробництві друкованих плат.
- •7.1. Розчини на основі хлорного заліза.
- •7.2. Кислі розчини на основі хлорної міді (хлорно-мідний кислий розчин).
- •7.3. Лужні травильні розчини на основі хлорної міді.
- •7.4. Розчини на основі персульфату амонію.
- •7.5. Перекисні сульфатні розчини.
- •8. Основні напрямки удосконалення технології виготовлення друкованих плат.
- •8.1. Організація маловідходних гальванохімічних операцій.
- •8.2. Організація безвідходних гальванохімічних операцій.
- •8.3. Організація маловідходної технології нанесення захисного рельєфу.
- •8.4. Пряма металізація діелектриків у виробництві друкованих плат.
- •8.5. Фінішні покриття у виробництві друкованих плат.
5.2.4. Обладнання для хімічного міднення друкованих плат.
Хімічне міднення друкованих плат виконується на спеціалізованих лініях для хімікогальванічної обробки друкованих плат, таких як АГ-44; АГ-44М; «Діна 130+»; «Глазберг». Активацію діелектрика і хімічну металізацію в цих лініях виконують на модулі хімічного міднення (ці лінії мають дворядну компоновку і складаються з модуля хімічної металізації та модуля гальванічної обробки друкованих плат). Ванни для хімічного міднення та їх комунікації футеровані полімерними матеріалами, обладнані пристроєм для перекачування та фільтрації розчину, барботерами, пристроями для хитання катодних штанг. У складі модуля передбачено запасна ємність для очищення та корегування розчину.
6. Гальванічні процеси у виробництві друкованих плат.
При виготовленні друкованих плат використовують такі гальванічні процеси:
попереднє гальванічне міднення друкованих плат та гальванічне нарощування струмопровідного рисунка міддю;
гальванічне нанесення сплаву ПОС-61 та олова як металорезистів;
нанесення золота, паладію, родію на кінцеві друковані контакти плат;
нанесення бар`єрного підшару нікелю перед нанесенням золотих покриттів;
гальванічне нанесення золота та срібла на струмопровідний рисунок плат спеціального призначення.
6.1. Гальванічне міднення.
Вимоги до мідних покриттів на друкованих платах:
1. Дрібнокристалічна структура
2. Рівномірність товщини в отворах та на боковій поверхні плати
3. Відсутність тріщин в отворах
4. Висока адгезія до фольги чи провідного шару
5. Низький питомий опір
6. Висока пластичність покриття.
Мідне покриття повинно забезпечити високонадійне електричне з’єднання елементів плати в умовах термоудару (швидке розігрівання і охолодження плати в діапазоні температур -20÷240˚С). Таким вимогам буде відповідати мідне покриття з високою пластичністю і товщиною в отворах не менше 25 мкм. За вимогами стандарту, мідні покриття на платах повинні витримувати дію 6÷10 термоударів. Товщина мідного покриття в отворах та його пластичність строго контролюються в процесі виробництва друкованих плат.
На друковані плати наносять лискучі мідні покриття. Це пов`язано з тим, що якість мідного покриття багато в чому визначає якість металорезисту, який наноситься поверх міді. Чим більш гладенька і якісна поверхня мідного покриття, тим тонший шар металорезисту можна наносити. У разі використання блискучого мідного покриття товщина шару металорезисту буде мінімальною.
6.1.1. Електроліти для міднення друкованих плат.
Вимоги до електролітів міднення:
1.Висока розсіювальна здатність;
2.Можливість отримання пластичних покриттів;
3.Висока продуктивність;
4.Невелика агресивність до фоторезистів та діелектриків;
5.Стійкість, невелика вартість та доступність.
Комплексні електроліти. Мають більш високу розсіювальну здатність, ніж інші електроліти. Ціанисті електроліти – мають саму високу розсіювальну здатність, але у виробництві плат не використовуються через такі недоліки: висока токсичність, електроліт руйнує діелектрик, невисокий вихід за струмом, мала продуктивність.
Пірофосфатні електроліти також мають високу розсіювальну здатність, але вони не токсичні. Один із варіантів застосовуваних електролітів має такий склад: мідь сірчанокисла – 90 г/л; пірофосфат калію – 350 г/л; лимонна кислота – 20 г/л; аміак водний – (25%) – 2 мл/л; селеніт натрію – 0,002 г/л; рН 8,3÷8,5; катодна густина струму 0,8 ÷ 1,7 А/дм2; температура електроліту 30÷500С.
Переваги електроліту:
1) Дрібнокристалічна структура покриття ;
2) Висока розсіювальна здатність (товщина шару міді в отворах складає 90% від товщини на контактних площадках);
3) Відсутність органічних добавок дозволяє здійснювати безперервну фільтрацію електроліту через активоване вугілля, що дозволяє зберігати добрі механічні властивості міді, в тому числі і еластичність, і на протязі тривалої експлуатації електроліту.
Недоліки електроліту:
1) Мала продуктивність;
2) Вузький діапазон рН, який складно підтримувати;
3) Схильність анодів до пасивації, що робить необхідним підтримувати підвищену температуру;
4) Фосфор включається в склад осаду, що призводить до їх крихкості ;
5) Електроліт лужний, і тому не можна застосовувати перспективні фоторезисти СПФ – ВЩ;
6) Електроліт містить дорогі компоненти.
Наявність відмічених недоліків обмежує широке розповсюдження пірофосфатних електролітів у промисловості.
Кислі електроліти. Мають меншу разсіювальну здатність, але є більш стійкими і більш продуктивними.
Борфтористоводневий електроліт, який знаходить застосування в промисловості, має такий склад ( г/л ):мідь борфтористоводнева – 250; кислота борфтористоводнева – 15; кислота борна – 40; температура електроліту 15÷200С; катодна густина струму 3÷5 А/дм3.
Переваги електроліту: висока швидкість осадження міді.
Недоліки електроліту:
1) Порівняно не висока розсіювальна здатність ( товщина шару міді в отворах складає 40÷50% від товщини на контактних площадках );
2) Агресивний до фоторезистів, що призводить до накопичення органічних домішок в електроліті і втрати пластичності покриття;
3) Складність при очищенні стічних вод через наявність фторборатів;
4) Мітить дорогі компоненти.
Борфтористоводневі електроліти можна застосовувати у виробництві друкованих плат з низькою густиною струмопровідного рисунка.
Сульфатні електроліти. Сульфатні електроліти є найбільш простими за складом і дуже стабільними в роботі. Їх легко готувати і коригувати. Однак стандартний електроліт має низьку розсіювальну здатність, а отримані осади є крупнокристалічними. Продуктивність електроліту невисока. Такі електроліти є не придатними для міднення друкованих плат.
Введення високоефективних блискоутворюючих з одночасною зміною співвідношення концентрації міді і сірчаної кислоти в бік збільшення останньої, що значно покращує характеристики сульфатних електролітів.
За величиною розсіювальної здатності вони наближаються до комплексних електролітів, однак забезпечують високу продуктивність.
У промисловості використовують такі блискоутворюючі добавки як “ ЛТИ ”, “ МІДЕЛ ”, RV-M, Cupracid BL-CT та Cupracid BL і ін.
Наприклад, використання добавки “ МІДЕЛ ” ( виробник – Україна ) дозволяє отримувати осади стійки до термічних навантажень, які витримують не менше 10 термоударів. Відносне видовження покриття 8÷12%. Розподіл металу в отворах і на контактних площадках складає 0,85÷0,9, блиск – 95%. Добавка “МІДЕЛ” стійка у сильно кислих середовищах. Вона не токсична ,не містить біологічно жорстких речовин.
На теперішній час сульфатний електроліт з блискоутворюючими добавками є основним для міднення друкованих плат.
Для прикладу можна навести склади електролітів міднення на базі добавки “ МІДЕЛ ”, які є найбільш поширені в промисловості:
Електроліт №1: мідь сірчанокисла 70÷80 г/л; сірчана кислота 170÷180 г/л; натрій хлористий 0,030 ÷ 0,050 г/л; блискоутворюючими добавка “МІДЕЛ” 1÷2 г/л; катодна густина струму 1÷4А/дм2; температура електроліту 15÷300С.
Електроліт №2: мідь сірчанокисла 150÷160 г/л; сірчана кислота 140÷150 г/л; натрій хлористий 0,050÷0,080 г/л; блискоутворюючими добавка “МІДЕЛ” 1÷2 г/л; катодна густина струму 2÷5А/дм2; температура електроліту 20÷300С.
В обох електролітах передбачається використовувати аноди марки АМФ, застосовувати хитання катодних штанг та перемішування стисненим повітрям.
Електроліт №1 характеризується підвищеною разсіювальною здатністю і використовується для виробництва багатошарових друкованих плат та складних плат з діаметром отворів менше 0,7мм.
Електроліт №2 дозволяє використовувати підвищену густину струму і використовується для виготовлення звичайних двобічних плат.