Скачиваний:
25
Добавлен:
01.05.2014
Размер:
888.83 Кб
Скачать

Министерство общего образования РФ

Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет

Кафедра ФОМЭ

Лабораторная работа №1

“Исследование температурной зависимости проводимости полупроводников”

Выполнили: Кудряшов В.

Смирнов И.

Рачеев Р.

Группа № 9322

Проверила:

Санкт-Петербург

2001г.

Цель работы – исследование температурной зависимости проводимости полупроводников с различной шириной запрещенной зоны.

1.1 Описание установки.

Исследование температурной зависимости сопротивления полупроводников производится на установке, состоящей из термостата с образцами полупроводниковых материалов и омметра, подключаемого поочередно к каждому из образцов. Исследуемые образцы представляют собой параллелепипеды длинной l и поперечным сечением S с двумя омическими контактами и выводами. Термостат с образцами расположен внутри установки. Для изменения температуры в него вмонтирован калиброванный датчик температуры. Отсчет температуры производится в градусах Цельсия со шкалы миллиамперметра, расположенного на лицевой панели установки. Коммутация образцов с омметром осуществляется с помощью переключателя, выведенного на лицевую панель. На лицевой панели расположен и переключатель ступенчатого изменения температуры термостата. Здесь же указаны геометрические размеры образцов и приведены формулы для вычисления подвижности носителей заряда.

1.2 Обработка результатов.

  1. Удельное сопротивление материалов вычисляем по формуле =RS/l ,где R – сопротивление образца; S – площадь поперечного сечения; l – длина образца.

И вычисляем удельную проводимость как =1/. Результаты занесены в

таблицу 1.1.

  1. По данным табл. 1.1 строим температурную зависимость удельной проводимости, откладывая по оси абсцисс , а по оси ординат – значения проводимости в логарифмическом масштабе. Графики для всех исследованных материалов приведены на одном рисунке.

  2. По данным той же таблицы рассчитали концентрацию доноров в кремнии и германии при комнатной температуре. В предположении, что все донары ионизированы и собственная электропроводность еще не наступила, ,где Kл – заряд электрона; n - подвижность электронов.

Результаты записаны в таблице 1.2.

  1. Пользуясь графиком , определяем ширину запрещенной зоны полупроводника, обладающего собственной электропроводимостью. Ширина запрещенной зоны полупроводника (экстраполированная к ОК) вычисляется по формуле:

,

где эВ/K ; и – собственные концентрации носителей заряда при двух значениях температуры , в области собственной электропроводности. Собственная концентрация носителей заряда находится из выражения:

где p – подвижность дырок в данном полупроводнике.

Эsi= 0,8796

Эge= 0,8904

ЭsiC= 0,15129

ЭinSb= 0,47956

  1. Пользуясь графиком , определяем энергию ионизации примесей для полупроводника, обладающего примесной электропроводностью в исследованном интервале температур. Энергия ионизации примесей вычисляется по формуле:

,

где и – температуры в области примесной электропроводностьи;

и - соответствующие им концентрации носителей заряда.

ЭпрSi= 0,80268

ЭпрGe= 0,81346

ЭпрSiC= 0,07441

ЭпрInSb= 0,03319

Таблица 1.1

Исследуемые материалы

,K

,

R,Ом

,Ом*м

, См/м

298

0,003355

910

0,006006

166,5

5,1089

303

0,0033

958

0,0063228

158,15

5,0635

310,5

0,003221

1014

0,0066924

149,42

5,0067

315,5

0,003169

1042

0.0068772

145,4

4,9794

322

0,003105

1092

0,0072072

138,75

4,9326

Si

333

0,003003

1174

0,0077484

129,05

4,8601

345,5

0,002894

1264

0,0083424

119,86

4,7863

360

0,002777

1376

0,0090816

110,11

4,7014

382

0,002617

1568

0,0103488

96,62

4,5707

398

0,002512

1741

0,0114906

87,02

4,4661

413

0,002421

1953

0,0128898

77,58

4,3513

298

0,003355

879

0,0058014

172,37

5,1496

303

0,0033

932

0,0061512

162,56

5,091

310,5

0,003221

978

0,0064548

154,92

5,0429

315,5

0,003169

1002

0,0066132

151,21

5,0186

322

0,003105

1038

0,0068508

145,96

4,9833

Ge

333

0,003003

1068

0,0070488

141,86

4,9548

345,5

0,002894

1032

0,0068112

146,81

4,9891

360

0,002777

882

0,0058212

171,78

5,1462

382

0,002617

566

0,0037356

256,69

5,5478

398

0,002512

351

0,0023166

431,66

6,0676

413

0,002421

217

0,0014322

698,22

6,5485

298

0,003355

7552

0,0498432

20,06

2,9987

303

0,0033

6106

0,0402996

24,81

3,2112

310,5

0,003221

5457

0,0360162

27,76

3,3235

315,5

0,003169

5026

0,0331716

30,14

3,4058

322

0,003105

4414

0,0291324

34,32

3,5357

SiC

333

0,003003

3615

0,023859

41,91

3,7355

345,5

0,002894

2944

0,0194304

51,46

3,9408

360

0,002777

2322

0,0153252

65,25

4,1782

382

0,002617

1611

0,0106326

94,05

4,5438

398

0,002512

1209

0,0079794

125,32

4,8309

413

0,002421

874

0,0057684

173,35

5,1553

298

0,003355

14,4

0,00009504

10521

9,2611

303

0,0033

11,9

0,00007854

12732

9,4518

310,5

0,003221

10,7

0,00007062

14160

9,5581

315,5

0,003169

9,9

0,00006534

15304

0,6358

322

0,003105

8,6

0,00005676

17618

9,7766

lnSb

333

0,003003

7,7

0,00005082

19677

9,8872

345,5

0,002894

6,1

0,00004026

24838

10,1201

360

0,002777

4,8

0,00003168

31565

10,3598

382

0,002617

3,2

0,00002112

47348

10,7652

398

0,002512

2,6

0,00001716

58275

10,9729

413

0,002421

2,1

0,00001386

72150

11,1865

Г рафики.

Таблица 1.2

Исследуемые материалы

,Ом*м

, См/м

0,006006

166,5

0,1525

682E19

0,006323

158,15

0,1463

675E19

0,006692

149,42

0,1376

678E19

0,006877

145,4

0,1322

687E19

0,007207

138,75

0,1256

690E19

Si

0,007748

129,05

0,1155

698E19

0,008342

119,86

0,1053

711E19

0,009082

110,11

0,0950

724E19

0,010349

96,62

0,0819

767E19

0,011491

87,02

0,0739

735E19

0,01289

77,58

0,0674

719E19

0,005801

172,37

0,3943

273E19

0,006151

162,56

0,3861

263E19

0,006455

154,92

0,3683

262E19

0,006613

151,21

0,3587

263E19

0,006851

145,96

0,3467

263E19

Ge

0,007049

141,86

0,3279

270E19

0,006811

146,81

0,3085

297E19

0,005821

171,78

0,2881

372E19

0,003736

256,69

0,2611

614E19

0,002317

431,66

0,2439

1106E19

0,001432

698,22

0,2293

1903E19

0,049843

20,06

0,01006

1246E19

0,0403

24,81

0,0099

1566E19

0,036016

27,76

0,0096

1807E19

0,033172

30,14

0,0095

1982E19

0,029132

34,32

0,0093

2306E19

SiC

0,023859

41,91

0,0090

291E19

0,01943

51,46

0,0086

3739E19

0,015325

65,25

0,0083

4913E19

0,010633

94,05

0,0078

7536E19

0,007979

125,32

0,0075

10443E19

0,005768

173,35

0,0072

15047E19

9,5E-05

10521

7,8837

834E19

7,85E-05

12732

7,6867

1035E19

7,06E-05

14160

7,3812

1198E19

6,53E-05

15304

7,1951

1329E19

5,68E-05

17618

6,9640

1586E19

lnSb

5,08E-05

19677

6,6005

1863E19

4,03E-05

24838

6,2225

1490E19

3,17E-05

31565

5,8260

3386E19

2,11E-05

47348

5,2984

5585E19

1,72E-05

58275

4,9614

7341E19

1,39E-05

72150

4,6760

9643E19

Вывод: Мы исследовали температурную зависимость проводимости полупроводников с различной шириной запрещенной зоны.

Соседние файлы в папке Лабораторная работа №1