Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Информатика ФЭВМ - шпаргалки.doc
Скачиваний:
61
Добавлен:
01.04.2014
Размер:
622.59 Кб
Скачать

42. Схема ключа с транзистором Шотки. Пояснить причину уменьшения времени рассасывания в таком ключе.

Наибольшим быстродействием будут обладать ключевые схемы, у которых S=1, т.е. ток база которых имеет минимальное значение, при котором наступает режим насыщения. С этой целью коллекторный ЭДП транзистора шунтируют диодом Шотки, как показано нарис. 4.28, а. падение напряжения на открытом диоде Шотки не превышает 0,4 В, в то время как напряжение на эмиттерном переходе БТ составляет UБЭ00,8 В. Так как UБЭ= UБ-UЭ= UБ, поскольку UЭ=0, то при уменьшении потенциала коллектора до 0,4 В напряжение на диоде Шотки оказывается равным Uд= UБ-UК= 0,8-0,4=0,4 В, он оказывается в открытом состоянии и через него протекает часть входного тока, что приводит к уменьшению тока базы, т.к. IБ=IВХ-Iд. БТ, у которого коллекторный переход зашунтирован диодом Шотки, называется транзистором Шотки и обозначается так, как показано нарис. 4.28, б.

Рис. 1 Рис. 2

43. Устройство, принцип действия, статические характеристики и параметры мдп-транзисторов с индуцированным каналом п- и р- типов.

Упрощенная структура МДП-транзистора с индуцированным каналом р-типа показана на рис. 5.1.В подложке из кремния n-типа с высоким удельным сопротивлением методом диффузии созданы две сильно легированные области р-типа. Эти области отделены друг от друга встречно включенными ЭДП р^+-n и n-р^+. Поэтому если между этими р^+-областями включить источник внешнего напряжения ЕС, то при любой его полярности один из ЭДП окажется включенным в обратном направлении и в цепи будет протекать очень незначительный ток, являющийся обратным током закрытого ЭДП. На поверхности полупроводника между р^+-областями создают тонкий слой диоксида кремния SiO2, обладающего высокими диэлектрическими свойствами. На этот слой напыляется металлическая пленка, служащая управляющим электродом - затвором. Если к металлическому затвору приложить отрицательное относительно подложки напряжение, то под действием возникшего электрического поля с напряженностью ЕЗПэлектроны начнут уходить от поверхности в глубину подложки, а дырки, наоборот, будут поступать из глубины подложки к ее поверхности. При некотором значении напряжения между затвором и подложкой концентрация дырок в приповерхностном слое подложки оказывается больше концентрации электронов, т.е. в приповерхностном слое подложки между р^+-областями образуется область с электропроводностью р-типа. Это явление называют инверсией электропроводности, а образовавшийся в приповерхностном слое р-слой - каналом. Теперь если между р^+-областями включить источник внешнего напряжения ЕС, то в образовавшейся электрической цепи потечет ток, создаваемый движением основных носителей заряда (дырок). Область р^+, от которой начинается движение основных носителей, называется истоком, а область р^+, к которой эти носители движутся - стоком. Сила протекающего тока, называемого током стока IС, зависит от толщины (ширины) канала, которую можно изменять изменением напряжения на затворе UЗИ(исток электрически соединяется с подложкой). Напряжение UЗИ, при котором появляется инверсия электропроводности приповерхностного слоя подложки, называется пороговым и обозначается UЗИпор. При увеличении абсолютного значения отрицательного напряжения UЗИширина канала увеличивается, что приводит к уменьшению его сопротивления и увеличению тока стока IС. Условное обозначение МДП-транзистора с каналом р-типа показано нарис. 5.2, а.Если использовать подложку р-типа со встроенными n^+-областями стока и истока, то получится МДП-транзистор с каналом n-типа. В таком транзисторе на затвор и на сток необходимо подавать положительные напряжения. Условное обозначение МДП-транзистора с каналом n-типа показано нарис. 5.2, б.

Эти характеристики отражают зависимость тока стока от напряжения UЗИи UСИ. Практическое применение получили статические сток-затворные и стоковые, или выходные, характеристики. Нарис.5.3, априведены исток-затворные характеристики МДП-транзисторов с индуцированным каналом n-типа. Как видно из этих характеристик напряжение UСИоказывает слабое влияние на ток стока, поэтому часто вместо семейства приводится одна сток-затворная характеристика. Выходные, или стоковые характеристики МДП-транзистора с индуцированным каналом n-типа показаны нарис.5.3, б.Они похожи на выходные характеристики биполярного транзистора, включенного по схеме ОЭ, но в отличие от них при разных значениях UЗИвосходящие участки имеют различную крутизну. На стоковых характеристиках можно выделить две области: крутую (1) и пологую (2). Связь между током стока IСи напряжениями на электродах МДП-транзистора с индуцированным каналом определяется уравнениями Хофстайна. Для крутой области характеристик

IC=K[(UЗИ-UЗИПОР)UСИ-0.5U^2СИ] (5.1) где К-удельная крутизна, измеряемая в А/В^2 и зависящая от размеров канала и материала диэлектрика. Для пологой области характеристик IC=0,5K(UЗИ-UЗИПОР)^2 (5.2).

Рис. 1 Рис. 2

Рис. 3 Рис. 4