Расчётная часть
На рисунке 3 приведена исходная мостовая тензорезисторная схема.

Рис.3. Мостовая тензорезисторная схема
Исходные данные:
Uвых.ном = 100 мВ;
Епит = 6 В;
Рном = 20 кПа;
Rтерморезистора = 0,5 кОм;
Траб = 25°С;
Dмембраны = 2 мм;
Hпластины = 300 мкм;
Материал - Si
1. Расчёт упругого элемента:
1.1. Напряжение на диагонали моста при заданных величинах сопротивлений:

1.2. Деформация одного тензорезистора при номинальной нагрузке:

Здесь К – коэффициент тензочувствительности материала;
Напряжение
холостого хода

1.3. Относительное изменение сопротивления:

1.4. Изгибающее напряжение:
,
где P = 0,22 кгс/см2; r=D/2
С другой, стороны,
,
где
- это модуль упругости, одинаковый для
всех материалов,
.
1.5. Толщина плоской круглой мембраны диаметром D выражается из п. 1.4:

1.6. Масса мембраны:
0,62776
г
где

1.7. Глубина травления мембраны:
,
где H – толщина пластины;
h – толщина мембраны.
1.8. Диаметр окна на фотошаблоне для получения мембраны:

1.9. Форма микропрофиля при травлении мембраны:

Рис.4. Форма микропрофиля при травлении мембраны
h = 47 мкм; H = 300 мкм; H1 = 250 мкм; D = 2000 мкм; D1 = 2022 мкм.
2. Расчёт технологических режимов процессов диффузии для формирования тензорезисторов:
Для формирования тензорезисторов проводится диффузия бора в две стадии: загонка и разгонка.
-
поверхностная концентрация;
-
температура загонки;
-
коэффициент диффузии при загонке;
-
время загонки;
-
температура разгонки;
-
коэффициент диффузии при разгонке;
-
время разгонки.
2.1. Количество примесей при загонке:
,
где
- поверхностная концентрация при
температуре загонки T1;
2.2. Исходная концентрация в пластине:
,
где
- заряд электрона;
-
подвижность электронов;
-
удельное сопротивление материала
пластины
2.3. Поверхностная концентрация при температуре разгонки T2:

2.4. Глубина залегания p-n-перехода рассчитывается из равенства концентраций примеси в исходной подложке и примеси, полученной в результате разгонки:

Отсюда

3. Расчёт геометрических параметров тензорезисторов:
3.1. Определение ширины тензорезисторов
,
где
- минимальная технологическая ширина
(3,5- 4 мкм).
3.2. Минимальная ширина резистора, при которой точность его изготовления равна заданной:
,
где
- абсолютная погрешность ширины,
обусловленная фотолитографией (
),
-
сопротивление квадрата резистивной
плёнки.
3.3. Минимальная ширина резистора:
,
где
- максимально допустимая рассеиваемая
мощность,
-
средняя мощность, рассеиваемая резистором.
3.4. Ширина тензорезисторов:


3.5. Коэффициент формы:
=
7,033
где Кр = 0,65 – коэффициент, учитывающий растекание тока в контакте.
3.6. Длина резистора на кристалле (без учёта погрешности фотошаблона):

4. Расчёт номиналов балансировочных резисторов:
4.1. Номиналы резисторов, полученные в ходе технологического процесса по изготовлению тензорезистивного моста:
|
R, Ом |
Т1 = 25°С |
Т2 = 50°С |
|
R1 |
540 |
567 |
|
R2 |
490 |
517 |
|
R3 |
510 |
537 |
|
R4 |
460 |
587 |
4.2. Расчёт ТКС терморезисторов:
,
где R2 и R1 – значения сопротивлений при T2 и T1 соотвтетственно.




4.3. Значения контрольных соотношений:






4.4. Расчётная величина балансировочного сопротивления:
,
где k – температурный коэффициент

4.5. Величина шунтирующего сопротивления, подключаемого в первое плечо моста:

4.6. Сопротивление моста:

4.7. Сопротивление терморезистора R5:
,
где
– сопротивление моста,
-
ТК чувствительности датчика,
,
– ТКС
терморезистора,

Резистор R5 изготавливается на кристалле с помощью ионного легирования.
Вывод:
В ходе работы были изучены теоретические материалы по свойствам, характеристикам, параметрам и особенностям технологии изготовления кремниевых датчиков давления.
При помощи программного приложения были рассчитаны параметры, необходимые для формирования тензорезистивного преобразователя (датчика давления) в кремниевой пластине толщиной 300 мкм:
- геометрические размеры упругой мембраны,
- геометрические параметры тензорезисторов (ширина и длина на кристалле),
- номиналы балансировочных резисторов,
- технологические режимы диффузии.
Все значения рассчитанных параметров приведены в п.п. 1 – 4 расчётной части отчёта.
