Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Датчики давления.docx
Скачиваний:
206
Добавлен:
01.04.2014
Размер:
93.92 Кб
Скачать

Расчётная часть

На рисунке 3 приведена исходная мостовая тензорезисторная схема.

Рис.3. Мостовая тензорезисторная схема

Исходные данные:

Uвых.ном = 100 мВ;

Епит = 6 В;

Рном = 20 кПа;

Rтерморезистора = 0,5 кОм;

Траб = 25°С;

Dмембраны = 2 мм;

Hпластины = 300 мкм;

Материал - Si

1. Расчёт упругого элемента:

1.1. Напряжение на диагонали моста при заданных величинах сопротивлений:

1.2. Деформация одного тензорезистора при номинальной нагрузке:

Здесь К – коэффициент тензочувствительности материала;

Напряжение холостого хода

1.3. Относительное изменение сопротивления:

1.4. Изгибающее напряжение:

,

где P = 0,22 кгс/см2; r=D/2

С другой, стороны,

,

где - это модуль упругости, одинаковый для всех материалов, .

1.5. Толщина плоской круглой мембраны диаметром D выражается из п. 1.4:

1.6. Масса мембраны:

0,62776 г

где

1.7. Глубина травления мембраны:

,

где H – толщина пластины;

h – толщина мембраны.

1.8. Диаметр окна на фотошаблоне для получения мембраны:

1.9. Форма микропрофиля при травлении мембраны:

Рис.4. Форма микропрофиля при травлении мембраны

h = 47 мкм; H = 300 мкм; H1 = 250 мкм; D = 2000 мкм; D1 = 2022 мкм.

2. Расчёт технологических режимов процессов диффузии для формирования тензорезисторов:

Для формирования тензорезисторов проводится диффузия бора в две стадии: загонка и разгонка.

- поверхностная концентрация;

- температура загонки;

- коэффициент диффузии при загонке;

- время загонки;

- температура разгонки;

- коэффициент диффузии при разгонке;

- время разгонки.

2.1. Количество примесей при загонке:

,

где - поверхностная концентрация при температуре загонки T1;

2.2. Исходная концентрация в пластине:

,

где - заряд электрона;

- подвижность электронов;

- удельное сопротивление материала пластины

2.3. Поверхностная концентрация при температуре разгонки T2:

2.4. Глубина залегания p-n-перехода рассчитывается из равенства концентраций примеси в исходной подложке и примеси, полученной в результате разгонки:

Отсюда

3. Расчёт геометрических параметров тензорезисторов:

3.1. Определение ширины тензорезисторов

,

где - минимальная технологическая ширина (3,5- 4 мкм).

3.2. Минимальная ширина резистора, при которой точность его изготовления равна заданной:

,

где - абсолютная погрешность ширины, обусловленная фотолитографией (),

- сопротивление квадрата резистивной плёнки.

3.3. Минимальная ширина резистора:

,

где - максимально допустимая рассеиваемая мощность,

- средняя мощность, рассеиваемая резистором.

3.4. Ширина тензорезисторов:

3.5. Коэффициент формы:

= 7,033

где Кр = 0,65 – коэффициент, учитывающий растекание тока в контакте.

3.6. Длина резистора на кристалле (без учёта погрешности фотошаблона):

4. Расчёт номиналов балансировочных резисторов:

4.1. Номиналы резисторов, полученные в ходе технологического процесса по изготовлению тензорезистивного моста:

R, Ом

Т1 = 25°С

Т2 = 50°С

R1

540

567

R2

490

517

R3

510

537

R4

460

587

4.2. Расчёт ТКС терморезисторов:

,

где R2 и R1 – значения сопротивлений при T2 и T1 соотвтетственно.

4.3. Значения контрольных соотношений:

4.4. Расчётная величина балансировочного сопротивления:

,

где k – температурный коэффициент

4.5. Величина шунтирующего сопротивления, подключаемого в первое плечо моста:

4.6. Сопротивление моста:

4.7. Сопротивление терморезистора R5:

,

где – сопротивление моста,

- ТК чувствительности датчика, ,

– ТКС терморезистора,

Резистор R5 изготавливается на кристалле с помощью ионного легирования.

Вывод:

В ходе работы были изучены теоретические материалы по свойствам, характеристикам, параметрам и особенностям технологии изготовления кремниевых датчиков давления.

При помощи программного приложения были рассчитаны параметры, необходимые для формирования тензорезистивного преобразователя (датчика давления) в кремниевой пластине толщиной 300 мкм:

- геометрические размеры упругой мембраны,

- геометрические параметры тензорезисторов (ширина и длина на кристалле),

- номиналы балансировочных резисторов,

- технологические режимы диффузии.

Все значения рассчитанных параметров приведены в п.п. 1 – 4 расчётной части отчёта.