Дополнительная
1. Головин Ю.И. Введение в нанотехнику.- М.: Машиностроение, 2007.- 496 с.
2. Сергеев Г.Б. Нанохимия. - М.: Изд-во МГУ. 2003. - 288 с.
3. Гречихин Л.И. Физика наночастиц и нанотехнологий. Минск.: УП "Технопринт". 2004.- 399 с.
4. Суздалев И.П. Нанотехнология: физико-химия нанокластеров, наноструктур и наноматериалов. -М.: КомКнига, 2006.- 592 с.
5. Практическая растровая электронная микроскопия / Под ред.: Дж. Гоулдстейна, Х. Яковица. М.: Мир, 1978.
6. Моро У. Микролитография: В 2 т. М.: Мир, 1990.
7. Вудраф Д., Делчар Т. Современные методы исследования поверхности/Пер. с англ. М.: Мир, 1989.
Содержание
Введение....................................................................................................3 Электронная литография.........................................................................5
Общие понятия.................................................................................5
Основные характеристики резистов.............................................10
Моделирование процессов рассеяния и потерь
энергии при взаимодействии электронов с твердым телом........17
Ионная имплантация...............................................................................33
Общие понятия...............................................................................33
Моделирование процесса ионной имплантации..........................37
Расчет распределения концентрации примеси в двухслойных
структурах.......................................................................................43
Моделирование процесса ионной имплантации с помощью
уравнения переноса Больцмана и метода Монте-Карло............46
Образование радиационных дефектов........................................52
Список рекомендуемой литературы......................................................54