
- •Введение
- •Основные полупроводниковые квантово размерные структуры
- •Условия наблюдения квантовых размерных эффектов
- •Структуры с двумерным электронным газом
- •1.2.1. Полупроводниковые и полуметаллические пленки
- •1.2.3. Гетероструктуры
- •1.2.4. Дельта-слои
- •1.2.5. Графен
- •1.3. Квантовые нити
- •1.4. Квантовые точки
- •1.5. Сверхрешетки
- •1.5.1. Полупроводниковые композиционные ср
- •1.5.2. Ср типа полуметалл-полупроводник
- •1.5.4. Легированные ср
- •1.5.5. Композиционно-легированные ср
- •1.5.6. Квазипериодические и непериодические ср
- •2. Энергетический спектр
- •2.1. Изолированные квантовые ямы, нити, точки
- •2.1.1. Квантовые ямы
- •2.1.2. Квантовые нити
- •2.1.3. Квантовые точки
- •2.2. Одномерные сверхрешетки
- •2.3. Локализованные состояния
- •2.4. Размерное квантование во внешних полях
- •2.4.1. Двумерные системы в магнитном поле
- •2.4.2. Квантовые ямы и сверхрешетки в электрическом поле
- •3. Плотность состояний и концентрация носителей заряда
- •3.1. Изолированные квантовые ямы и нити
- •3.2. Сверхрешетки
- •4. Оптические свойства
- •4.1. Общие положения
- •4.2. Межзонное поглощение в квантовых ямах и сверхрешетках
- •4.4. Межподзонное поглощение в квантовых ямах и сверхрешетках
- •4 Рис. 4.6. Спектр межподзонного ик–поглощения ср при условии слабого рассеяния – низких температур. .5. Фотодетекторы ик–излучения
- •5. Кинетические явления
- •5.1. Неравновесная функция распределения в низкоразмерных структурах
- •5.2. Планарный перенос в квантовых ямах
- •5.3. Вертикальный перенос в сверхрешетках
- •5.3.1. Область омической проводимости
- •5.3.2. Отрицательная дифференциальная проводимость в классических полях
- •5.3.3. Резонансное туннелирование в области
- •5.4. Баллистическая проводимость квантовых нитей
- •5.5. Квантовый эффект Холла в квантовых ямах
- •5.5.1. Классическая теория целочисленного кэх
- •5.5.2. Влияние эффектов локализации на кэх.
- •6. Резонансное туннелирование
- •6.1. Прохождение электронов в структурах с одиночными квантовыми ямами и потенциальными барьерами
- •6.1.1. Коэффициент пропускания и резонансное туннелирование электронов при прохождении над квантовой ямой
- •6.1.2. Коэффициент пропускания и резонансное туннелирование электронов при прохождении над потенциальным барьером
- •6.2. Туннелирование электронов через двухбарьерную квантовую структуру (дбкс)
- •6 Рис. 6.5. Потенциальный рельеф несимметричной дбкс с двумя резонансными энергетическими уровнями е1 и е2 в квантовой яме .2.1. Прохождение электромагнитных волн через резонатор
- •6.2.2 Энергетический спектр электронов в изолированной
- •6.2.3. Естественное и релаксационное уширения уровней энергии
- •6.2.4. Туннелирование электронов через дбкс в области резонансных значений энергии. Формула Лоренца
- •6.3. Резонансно-туннельный диод (ртд)
- •6.3.1. Строение и действие ртд
- •6.3.2. Вах и одп идеального ртд
- •6.3.3. Эквивалентная схема и максимальная частота генерации ртд
- •Заключение
- •Список литературы
- •Содержание
- •1. Основные полупроводниковые квантово-размерные
- •Учебное издание
- •Учебное пособие
6.3. Резонансно-туннельный диод (ртд)
Резонансно-туннельным диодом будем называть многослойную полупроводниковую структуру, в которой имеется ДБКС, параметры которой подбираются таким образом, чтобы в КЯ имелся один резонансный уровень.
6.3.1. Строение и действие ртд
Рис. 6.10. Схема
РТД на основе гетероструктуры GaAs / Alx
Ga1-x
As
с одним резонансным
уровнем в КЯ.(
77 К )
0.1 мэВ ,
(
300 К ) 2
мэВ ).
Если к такой структуре приложить разность потенциалов, то через нее пойдет ток, имеющий две составляющие - резонансную и нерезонансную. Резонансный ток связан с движением электронов от эмиттера до коллектора через резонансный уровень в КЯ, положение которого в данном случае является функцией приложенного напряжения U. Нерезонансная составляющая связана прежде всего с надбарьерным протеканием и нерезонансным подбарьерным. Очевидно, с понижением температуры и улучшением параметров ДБКС (увеличением вероятности резонансного туннелирования и уменьшением нерезонансного) нерезонансная составляющая будет убывать.
Чтобы получить качественную картину зависимости резонансной составляющей тока симметричного РТД от напряжения, для простоты будем считать, что электронный газ в эмиттере и коллекторе является вырожденным и характеризуется энергией Ферми ЕF. Тогда положение резонансного уровня с учетом (6.43) будет выражаться через приложенную разность потенциалов формулой (рис.6.11)
Рис. 6.11. Схема
протекания тока в симметричном РТД.
Е
Рис. 6.12. Сфера
заполненных вырожденным электронным
газом состояний
в зоне Бриллюэна
с радиусом kF
-сфера Ферми.,
то, очевидно, резонансный ток равняется
нулю (
).
С увеличением приложенного напряжения
резонансный уровень энергии понижается
и при
резонансный ток становится отличным
от нуля. При дальнейшем росте напряжения
резонансная составляющая тока
должна расти, так как при этом уменьшается
значение
и увеличивается число электронов в
сфере Ферми с волновым числом
(см. рис. 6.12), которые могут
туннелировать через резонансный уровень.
Из этого рисунка при условии
следует, что число
электронов, с заданным значением q
и энергией движения
вдоль оси симметрии РТД пропорционально
площади сечения сферы Ферми, равной
.
При
резонансный ток с увеличением напряжения
быстро уменьшается и становится равным
нулю, потому что резонансный уровень
энергии при этом попадает в запрещенную
зону7.
Как показывает численный анализ, при
вольтамперная характеристика РТД имеет
максимальную отрицательную дифференциальную
проводимость.