
- •Основы электротехнологии
- •Литература
- •1 Введение. Классификация электротехнологических установок
- •2 Лазерные установки Введение
- •Классификация лазеров
- •2.1 Теоретические основы лазерных установок.
- •2.1.1 Физические явления при получении лазерного излучения.
- •2.1.2 Принцип получения лазерного излучения
- •2.1.3 Методы создания инверсии населенности
- •2.1.4 Оптические резонаторы
- •Виды и условие устойчивости оптических резонаторов
- •Резонансные частоты и размер пучка излучения.
- •2.1.5 Свойства лазерного излучения.
- •2.1.6 Принцип действия, устройство и параметры твердотельных лазеров. Устройство и работа твердотельного лазера
- •Лазер на рубине.
- •Неодимовый лазер.
- •2.1.7 Принцип действия, устройство и параметры газовых лазеров.
- •Газостатические молекулярные лазеры.
- •Устройство и работа газостатического лазера
- •Излучатели с конвективным охлаждением рабочей смеси.
- •Электроаэродинамические лазеры
- •Электроионизационные лазеры.
- •2.1.8 Накачка электрическим разрядом.
- •2.1.9 Полупроводниковые лазеры.
- •Устройство полупроводникового лазера.
- •2.2 Инженерные основы лазерных технологических установок. Введение
- •2.2.1 Требования к промышленным и технологическим лазерам и лту.
- •2.2.2 Схемы и конструкции лту на базе твердотельных лазеров.
- •2.2.3 Лту на основе газоразрядных лазеров с диффузионным охлаждением (лдо).
- •2.2.4 Лту на основе газовых лазеров с конвективным охлаждением (быстропроточные лазеры- бпл).
- •2.2.5 Электрические схемы высоковольтных источников питания Источники питания лазеров импульсного действия
- •Источник питания с индуктивным накопителем энергии
- •Источник питания с ёмкостным накопителем энергии
- •Источник питания с управляемым током зарядки
- •Источники питания лазеров непрерывного излучения
- •Источники питания современных высоковольтных технологических лазеров.
- •Конструкция преобразователя напряжения
- •2.2.6 Оптические системы формирования лазерного излучения в технологических установках
- •3. Электроплазменные технологические установки
- •3.1 Классификация электроплазменных процессов.
- •3.2 Способы осуществления электроплазменных процессов.
- •3.3 Устройство ипринцип действия электроплазменных установок
- •3.4 Конструкция плазмотронов
- •Характеристики плазмотронов.
- •4. Ускорители заряженных частиц и их применение
- •4.1. Назначение и классификация ускорителей заряженных частиц
- •4.2. Конструкция и принцип действия ускорителей
- •4.3. Применение ускорителей
2.1.9 Полупроводниковые лазеры.
Для
получения представления о принципе
действия полупроводникового лазера
необходимо выполнить энергетическую
диаграмму уровней электронов в
полупроводниках, которая показана на
рис. . Она содержит валентную зону
уровней В, зону проводимости П, которые
разделены запрещенной зоной ΔW.
Каждая зона состоит из большого числа
близкорасположенных уровней. На одном
уровне располагаются не более двух
электронов с противоположными спинами
(согласно принципу Паули). (указать
практическое значение этих зон с точки
зрения проводимостей).
Рис.
Распределение электронов по уровням этих зон определяется вероятностной функцией Ферми-Дирака в зависимости от их энергии.
, (2.27)
где F- энергия уровня
Ферми, физический смысл F:
при Т→0
для Е < F и
Е > F , т.е.А это граница
между полностью заполненными и
незаполненными уровнями.
Допустим , что электроны переведены из
валентной зоны в зону проводимости.
Внутри каждой зоны за время
устанавливается свое распределение
электронов по уровням, которое определяется
такой же функцией:
, (2.28)
где
энергии квазиуровней Фермы валентной
зоны и зоны проводимости.
В
результате возникает заполнение уровней
, которое показано на рис. . Электроны
заполняют самые нижние уровни внутри
каждой зоны. Причем в валентной зоне в
верхней части остаются незаполненные
уровни – «дырки». В результате возникает
инверсия населенности
электронов между зоной П и зоной В. Эти
электроны сваливаются из зоны проводимости
в валентную зону, рекомбинируют с дыркой
и разность энергий выделяется в виде
фотона (рекомбинационное излучение).
Если такой полупроводник поместить в
оптический резонатор, то возникает
Рис.
генерация лазерного излучения с энергией фотона
.
(2.28)
Таким образом работа полупроводникового лазера эквивалентна генерации по 4 уровневой энергетической схеме.
Теперь необходимо выяснить – каким образом можно получить такое соотношение полупроводника, т.е. осуществить его накачку.
Для
того, чтобы обеспечить накачку
полупроводникового лазера обычно его
изготавливают в виде диода с р-n
переходом и с высокой концентрацией
элементов более
атом/
.
В качестве полупроводника широкое
применение получил арсенид галлия GaAs.
Энергетическая диаграмма перехода
показана на рис. при отсутствии напряжения
а) и при приложении напряжения в прямом
направлении б). заштрихованные области-
уровни занятые электронами.
В первом случае (рис. а) уровни Ферми полупроводников р и n типа (Fр и Fn) совпадают, причем Fр попадает в валентную зону полупроводника р типа, а
Fn в зону проводимости полупроводника. В p-n переходе возникает потенциальный барьер. При прохождении прямого напряжения и протекании тока диаграмма изменяется (см.рис. б). при этом между уравнениями Ферми возникает смещение на величину ∆Е=еU, где U напряжение приложенное к p-n переходу. Для этого материала U≈1.5В. В p-n переходе возникает инверсия населенности электронов и в этой части полупроводника возникает
Рис.
рекомбинационное излучение.