- •46 Содержание
- •1 Введение
- •2 Литературный обзор
- •2.1 Электрические методы исследования электрофизических и фотоэлектрических свойств полупроводников
- •2.1.1 Вольтамперная характеристика
- •2.1.2 Вольтфарадная характеристика, вольтсименсная характеристика
- •2.1.3 Метод нестационарной спектроскопии глубоких уровней, фотопроводимость
- •2.1.4 Фото-электродвижущая сила
- •2.1.5 Фотоемкостной эффект
- •2.2 Наблюдение фотостимулированных эффектов в полупроводниках
- •2.2.1 Фотостимулированные преобразования в элементарных полупроводниках
- •2.2.2 Фотостимулированные преобразования в полупроводниках aiiibv
- •2.2.3 Фотостимулированные преобразования в полупроводниках aiibvi
- •2.3 Модели фотостимулированных изменений в полупроводниках
- •2.4 Выводы по главе
- •3 Теоретическое рассмотрение шумовых свойств фоторезисторов при совместном действии напряжения и фоновой засветки
- •3.1 Экспериментальные результаты по шумам фоторезисторов из CdSe
- •3.2 Расчет фотопроводимости и напряжения шума при действии фоновой засветки
- •3.3 Расчет дисперсии флуктуаций числа носителей заряда в примесно-дефектных полупроводниках при действии фона
- •3.4 Сравнительный анализ экспериментальных и теоретических результатов
- •3.5 Выводы по главе
- •4 Модельные представления о формировании электрических свойств в поликристаллических материалах при фоновой засветке
- •4.1 Математическая модель изменения шума фоторезистора при действии фона
- •4.2 Физическая модель формирования шума в поликристаллических полупроводниках при действии фона
- •4.3 Выводы по главе
- •5 Заключение
- •6 Список использованных источников
- •Приложение а. Решение интеграла
3 Теоретическое рассмотрение шумовых свойств фоторезисторов при совместном действии напряжения и фоновой засветки
3.1 Экспериментальные результаты по шумам фоторезисторов из CdSe
В работах [11-12] приведены результаты экспериментальных исследований шумов фоторезисторов из CdSe, в которых показано, что зависимость спектральной плотности шума фоторезистора от напряжения смещения немонотонным образом зависит от мощности фоновой засветки: существует диапазон напряжений и мощностей засветки, при которых напряжение шума фоторезистора уменьшается в несколько раз. Также экспериментально наблюдались квазипериодические колебания напряжения шума.
Образцы и методика измерения.
В качестве образцов для исследования использовались промышленно выпускаемые фоторезисторы марок СФ3-4Б и ФР-764, изготовленные из селенида кадмия со структурой вюрцита. Фоторезисторы из полупроводника n-типа проводимости представляли собой тонкую пленку с размерами фоточувствительной площадки L2 =(5,8×5,8)мм2 и темновым сопротивлением R0 от 3 до 15 МОм. Освещаемая поверхность пленки покрывалась просветляющим покрытием из TiO2 толщиной около 70 нм. Ширина запрещенной зоны селенида кадмия ΔEg =1,74 эВ, подвижности электронов и дырок составляли соответственно μn =800 см2/(В* с), μp = 50 см2/(В* с).
Экспериментальные исследования проводились на аппаратно-программном комплексе, собранном на базе микрочипа ADuC812.
Схема входной цепи регистрации изменения параметров фоторезистора (рисунок 3.1).
Рисунок 3.1- Входная цепь схемы регистрации сигнала и шума
Исследовались зависимости шумового напряжения Uш фоторезистора марки СФ3-4Б, измеренной на заданной частоте регистрации в единичной полосе частот, от величины прикладываемого к фоторезистору постоянного напряжения V при действии фоновой засветки регулируемой мощности Pф .
На рисунке 3.2 показана зависимость спектральной плотности шумового напряжения для фоторезистора марки ФР-764, от напряжения смещения и мощности фоновой засветки на частоте 1кГц и при Pф = 3 отн.ед. В области напряжений V > 5 В обнаружена группа следующих друг за другом минимумов шума. С ростом мощности засветки глубины минимумов уменьшались, а сами минимумы смещались в область больших напряжений смещения.
Рисунок 3.2 - Квазипериодические колебания
шума в условиях фоновой засветки
На рисунке 3.3 показана зависимость спектральной плотности шумового напряжения Uш фоторезистора марки СФ3-4Б, от напряжения смещения и мощности фоновой засветки на частоте 1кГц и при Pф = 3 отн.ед. Из рисунка следует, что увеличение Pф приводит к появлению глубокого минимума шума в области средних значений V с последующим ростом, а затем уменьшением его глубины и перемещением в область малых V .
Рисунок 3.3 - Зависимость спектральной плотности шумового напряжения
Результаты исследования поведения минимума шума с ростом мощности засветки Pф представлены на рисунке 3.4.
Рисунок 3.4 - Зависимости параметров минимума от мощности фоновой засветки.
На вставке рисунка 3.4 показано определение параметров минимума шума: Vmin –положение минимума на оси напряжений (кривая 1); ΔVmin – полуширина минимума (кривая 2), ΔUш –глубина минимума (кривая 3). По графику видно, что указанные параметры резко уменьшаются с ростом мощностей засветки. Однако глубина минимума в области малых Pф имеет подъем, сменяющийся спадом при Pф >3,5 отн. ед.