
- •Статистические распределения фермионов и бозонов
- •Большое каноническое распределение квантовой системы
- •Результат выражается через статистическую сумму (4.5а)
- •Распределение Бозе–Эйнштейна
- •Электронный газ металла и полупроводника
- •Трехмерный электронный газ
- •Увеличивается как . Для типичного металла постоянная решетки, концентрация электронов, энергия Ферми и плотность состояний равны
- •Ферми-поверхность металлов Na, Cu, Ca
- •Распределение Ферми–Дирака для f-мерного газа
- •Контакт металлов
- •Собственная проводимостЬ полупроводника
- •Химический потенциал и теплоемкость сильно вырожденного трехмерного электронного газа
- •Двухмерный электронный газ
- •Одномерный электронный газ
- •Кондактанс баллистического проводника
- •Измерение плотности состояний сканирующим туннельным микроскопом
Химический потенциал и теплоемкость сильно вырожденного трехмерного электронного газа
Для
металлов при
К
с учетом значений химического потенциала
эВ,
эВ,
выполняется
.
Следовательно, электронный газ металла
вырожден. Для такого газа найдем
зависимость химического потенциала и
теплоемкости от температуры.
Число электронов (4.15)
не
зависит от температуры. При
находим
.
При
используемразложения
Зоммерфельда
,
(П.10.20)
получаем
.
Приравниваем результаты
.
Близость
и
дает
,
тогда
.
(П.10.24)
Для
трехмерного газа с учетом (3.7)
находим
.
(П.10.24а)
Выполняется
,
.
С
увеличением температуры от нуля до
химический потенциал сильно вырожденного
трехмерного электронного газа уменьшается.
Для большого интервала температур
график (Т)
показан на рис. 4.3.
Внутренняя энергия газа
,
.
Используя (П.10.20)
,
вычисляем интеграл
.
Используя
близость
и
,
получаем
.
Из (П.10.24) выражаем
.
В результате
.
(П.10.25)
Из (П.10.25) находим
,
(П.10.26)
где
–постоянная
Зоммерфельда.
Теплоемкость
сильно вырожденного f-мерного
электронного газа пропорциональна
плотности состояний и первой степени
температуры.
При
получаем
,
что согласуется с третьим началом
термодинамики.
Для
трехмерного газа из N
частиц с учетом (4.23)
и (4.28)
из (П.10.25) получаем
.
(П.10.26а)
Второе
слагаемое по порядку величины равно
.
Первая скобка является тепловой энергией
электрона. Вторая скобка равна числу
активированных электронов в полосе
энергии ширинойkT
около уровня Ферми.
Только эти электроны дают вклад в
теплоемкость и их доля мала при
.
Из (П.10.26) находим
.
(П.10.26б)
Для
серебра
.Теплоемкость
электронного газа металла пренебрежимо
мала по сравнению с теплоемкостью
кристаллической решетки,
равной
.
Двухмерный электронный газ
Технологии литографии и молекулярно-лучевой эпитаксии дают возможность создавать полупроводниковые структуры микроскопического размера с заданными свойствами. Структура ограничивает носители тока пределами потенциальной ямы. Спектр энергии дискретный. Уменьшение ширины ямы увеличивает энергии уровней и расстояния между ними. Ограничение по одному направлению с размером меньшим длины свободного пробега носителя тока дает двухмерный газ (2D-газ), ограничение по двум направлениям создает одномерный газ (1D-газ), ограничение по трем направлениям – квантовую точку.
Состояния с одинаковой энергией, отличающиеся другими квантовыми числами – проекцией спина, проекциями импульса, образуют разрешенную зону. В узком проводнике с малой концентрацией носителей тока уровень Ферми превышает лишь первый уровень ямы, и носители тока при малой температуре заполняют нижнюю зону. При длине проводника, меньшей длины свободного пробега носителя тока, фаза его волновой функции изменяется регулярно без скачков. Волны, разделившиеся и прошедшие по разным путям, интерферируют в точке наложения волн. Такая полупроводниковая структура называется мезоскопической системой пониженной размерности.
Для
исследования и применения низкоразмерных
явлений широко используется гетероструктура
,
показанная на рис. 4.6.
Рис. 4.6.
Гетероструктура.
L– область двухмерного электронного газа,SиD– электроды
В
твердом растворе
доля
С
атомов галлия замещена атомами алюминия.
При
различие периодов кристаллических
решеток составляет менее десятой
доли процента.
При изготовлении гетероструктуры
вводятся
легирующие примесные атомы Si
в
.
Они
являются донорами и их помещают
на расстоянии
в несколько десятков нанометров от
границы с
.
Электроны
из легированной области мигрируют
в область
,
сбрасывают избыток энергии,
и скапливаются на дне зоны проводимости
,
показанной темной областью на рисю 4.7,а.
Положительный заряд ионизированных
доноров притягивает электроны к границе.
По одну сторону образуется положительный
заряд в
,
по другую –
отрицательный заряд в
.
Энергетические
зоны полупроводников изгибаются, как
показано на рис. 4.7, в зоне
проводимости
возникает потенциальная ямашириной
нмс двухмерным
электронным газом.
а б
Рис. 4.7. Энергетические зоны в гетероструктуре
Толщину
слоя L
и концентрацию электронов можно изменять
при помощи дополнительного электрода
– затвора на гетероструктуре, размещенного
на поверхности
,
подавая на него потенциал
мВ.В
направлении оси z
движение электронов ограничено, вдоль
границы они движутся
свободно.
Такой двухмерный
электронный газ имеет высокую подвижность,
превышающую подвижность трехмерного
газа в
на
один–два порядка. Это объясняется малой
эффективной массой электронов и тем,
что легирующие атомы Si,
расположенные неупорядоченно и являющиеся
центрами рассеяния, находятся вдали от
потенциальной ямы. Рассматриваемую
гетероструктуру предложили Есаки и Тсу
в 1969 г.
Лео Эсаки, род. 1925 г.
Параметры
гетероструктуры
при
К,
с долей замещенных атомов
:
поверхностная
концентрация электронов
см–2;
эффективная
масса
;
длина
волны де Бройля
нм;
длина
свободного пробега
мкм;
ширина
ямы
нм;
подвижность
см2
В–1
с–1;
энергия
Ферми
эВ.
Получим химический потенциал и распределение по энергии электрона с учетом поперечного квантования по оси z.
Закон дисперсии в слое
,
где
– импульс в плоскости слоя;
– квантованная энергия поперечного
движения. Для прямоугольной ямы ширинойL
с непроницаемыми стенками
,
где
–
номер зоны поперечного квантования.
При малой толщине слояL
энергия Ферми находится между первым
и вторым уровнями ямы
,
и
все электроны располагаются в нижней
зоне
.
Распределение
электронов по энергии.
Плотность состояний в пленке на единице
площади при
находим из (П.8.4а)
.
Для распределения Ферми–Дирака
,
получаем число электронов на единице площади с энергией в единичном интервале около значения ε
.
(4.31)
Все носители заряда находятся в нижней зоне, тогда поверхностная концентрация электронов
.
(4.32)
В
интеграле заменяем
и находим
,
получаем
,
(4.33)
выражаем химический потенциал
.
(4.34)
Химический потенциал растет с увеличением поверхностной концентрации электронов, с уменьшением эффективной массы и слабо зависит от температуры.
Из (4.31)
получаем
вероятность того, что электрон имеет
энергию в интервале
.
(4.34а)
Вырожденный
газ
соответствует высокой концентрации,
низкой температуре и малой массе частицы.
Для примесной
n-проводимости
GaAs
с поверхностной концентрацией
см–2
эффективная масса на дне зоны проводимости
,
тогда ужепри
комнатной температуре выполнено условие
вырождения
.
(4.35)
В (4.34)
пренебрегаем единицей в круглой скобке
,
получаем
.
(4.36)
Химический потенциал вырожденного двухмерного газа линейно зависит от поверхностной концентрации электронов, обратно пропорционален эффективной массе и не зависит от температуры.
Условие, что все электроны находятся в нижней зоне
,
с учетом (4.36) ограничивает концентрацию
.
(4.37)
Используя
,
,
из (4.37) находим
.
Для
n-GaAs
с
см–2
ограничение на толщину пленки дает
нм.
Из (4.36)
получаем импульс Ферми
,
(4.38)
и минимальную длину волны де Бройля в газе
.
Учитывая
,
где d – характерное расстояние между частицами, получаем
.
Следовательно, волновые функции соседних частиц перекрываются, существенна интерференция между ними, и газ вырожденный.