
- •Статистические распределения фермионов и бозонов
- •Большое каноническое распределение квантовой системы
- •Результат выражается через статистическую сумму (4.5а)
- •Распределение Бозе–Эйнштейна
- •Электронный газ металла и полупроводника
- •Трехмерный электронный газ
- •Увеличивается как . Для типичного металла постоянная решетки, концентрация электронов, энергия Ферми и плотность состояний равны
- •Ферми-поверхность металлов Na, Cu, Ca
- •Распределение Ферми–Дирака для f-мерного газа
- •Контакт металлов
- •Собственная проводимостЬ полупроводника
- •Химический потенциал и теплоемкость сильно вырожденного трехмерного электронного газа
- •Двухмерный электронный газ
- •Одномерный электронный газ
- •Кондактанс баллистического проводника
- •Измерение плотности состояний сканирующим туннельным микроскопом
Собственная проводимостЬ полупроводника
Полупроводник
при
имеетзону
проводимости
свободную от электронов и полностью
заполненную валентную
зону,
отделенную запрещенной
зоной
шириной
.
В валентной зоне отсутствуют свободные
места, куда могли бы переместиться
заряды, в зоне проводимости зарядов
нет. В результате полупроводник является
изолятором.
При
тепловое движение перебрасывает
электроны через запрещенную зону, в
зоне проводимости появляются электроны,
в валентной зоне – вакантные места –дырки.
При термодинамическом равновесии химические потенциалы электронов и дырок равны. Энергию отсчитываем от края валентной зоны.
Зона
проводимости
.
Кинетическая энергия электрона
.
Плотность состояний (3.8) единицы объема трехмерного газа
.
Концентрация электронов ne мала, газ невырожденный, используем распределение Максвелла
.
Из
,
находим
число электронов в единице объема с
энергией в интервале
.
(П.10.4)
Концентрация электронов со всеми энергиями
.
В
интеграле заменяем аргумент
и интегрируем
,
где использована формула
.
Получаем концентрацию электронов в зоне проводимости
,
(П.10.5)
где
.
Для
Si
при
:
эВ,
,
см–3.
Эффективную
массу электрона
выражаем через концентрацию электронов
при помощи (П.10.5)
.
Подставляем в (П.10.4)
и находим число электронов в единичном интервале энергии зоны проводимости
.
(П.10.4а)
Результат совпадает с распределением Максвелла по энергии. График показан пунктиром на рисунке.
Валентная зона < 0,
.
Плотность состояний (3.8) дырок h (от англ. hole – «дырка»)
.
Дырка – это не заполненное электроном состояние валентного уровня, поэтому в валентной зоне среднее число электронов и дырок в одном состоянии
.
Из распределения Ферми–Дирака для электронов
получаем распределение Ферми–Дирака для дырок
.
Сравнение
распределений
и
показывает, чтохимические
потенциалы электронов и дырок
противоположны по знаку.
Концентрация дырок мала, газ невырожденный,
пренебрегаем единицей в знаменателе,
получаем распределение Максвелла для
дырок
.
В результате
.
(П.10.6)
Интегрируем по энергии валентной зоны
.
Заменяем
,
получаем концентрацию дырок в валентной зоне
,
(П.10.7)
где
.
Эффективную массу дырки выражаем через концентрацию дырок при помощи (П.10.7)
.
Подставляем в (П.10.6) и находим число дырок в единичном интервале энергии валентной зоны
.
(П.10.6а)
График распределения показан пунктиром на рисунке.
Электронейтральность полупроводника означает, что концентрация электронов в зоне проводимости равна концентрации дырок в валентной зоне. Из (П.10.5) и (П.10.7) находим
.
(П.10.8)
Концентрация носителей тока увеличивается с ростом температуры и с уменьшением ширины запрещенной зоны.
Из
с учетом (П.10.5) и (П.10.7) получаем
.
Выражаем химический потенциал
.
(П.10.9)
При Т 0
.
Следовательно, уровень химического потенциала:
расположен в середине запрещенной зоны при низкой температуре;
чем выше температура, тем сильнее уровень приближается к той зоне, где масса частиц и плотность состояний меньше;
расположен в середине запрещенной зоны при любой температуре при равенстве эффективных масс электронов и дырок.