- •Глава 1
- •1.1. Агрегативный комплекс средств неразрушающего контроля. Условное обозначение приборов
- •1.2. Разрушающий и неразрушающий контроль
- •1.3. Классификация дефектов в сталях
- •Глава 2
- •2.1. Общие сведения о ферромагнетизме
- •2.2. Намагничивание вещества (материала)
- •1[100] – Вдоль ребра куба; 2[110] –вдоль диагонали грани; 3[111] – вдоль пространственной диагонали.
- •2.3. Намагничивание тела
- •Глава 3
- •3.1. Классификация магнитных методов контроля
- •3.2. Области применения магнитных методов контроля
- •3.1. Классификация магнитных методов контроля
- •3.3. Магнитные характеристики конструкционных сталей и чугунов
- •3.4. Магнитная дефектоскопия
- •3.4.1. Расчет магнитостатических полей рассеяния поверхностных дефектов
- •3.4.2. Анализ экспериментальных исследований по выявлению полей дефектов
- •Глава 4
- •4.1. Индукционные преобразователи
- •4.2. Пондеромоторные преобразователи
- •4.3. Феррозондовые преобразователи
- •4.4. Магниторезистивые преобразователи
- •4.5. Магнитные порошки как индикаторы магнитных полей
- •4.6. Магнитные ленты (магнитоносители) как промежуточные носители информации о магнитном рельефе
- •Глава 5
- •Глава 5
- •Глава 6
- •6.1. Виды, способы и схемы намагничивания при магнитопорошковом контроле.
- •6.1.1.Циркулярный вид намагничивания.
- •Определение необходимой силы тока при циркулярном намагничивании
- •6.1.2. Продольное (полюсное) намагничивание
- •6.1.3. Комбинированное намагничивание
- •6.1.4. Намагничивание во вращающемся магнитном поле
- •6.2. Выбор рода тока.
- •6.3. Размагничивание объекта контроля
- •6.3.1. Способы размагничивания
- •6.3.1. Оценка качества размагничивания объекта
- •6.4. Источники намагничивающих и размагничивающих полей
- •6.5. Методика магнитопорошкового контроля
- •Структурная схема дефектоскопа для мпд
- •6.6. Магнитные пасты и суспензии
- •6.7. Способы изготовления дефектограмм
- •6.8. Контрольные образцы для проверки качества порошков и
- •6.9. Особенности контроля флуоресцентным порошком.
- •6.10. Автоматические и полуавтоматические установки для мпд
- •6.11. Техника безопасности
- •7. Определение топографии и градиента магнитного поля дефекта
- •7.1. Градуировка ллм
- •8. Сущность магнитографического метода контроля
- •8.1. Требования к намагничивающим устройствам
- •8.2. Свойства магнитоносителя
- •8.3. Запись магнитного рельефа на ленту
- •8.4. Преобразование магнитного отпечатка в электрический сигнал.
- •8.5. Щелевая функция воспроизводящей головки
- •8.6. Форма выходного сигнала
- •8.7. Дефектоскопы для магнитографического контроля
- •8.8. Магнитографический контроль ферромагнитных объектов
- •8.9. Анализ суперпозиции полей, записываемых на магнитную ленту в процессе мгк стыковых сварных соединений
- •8.10. Поле выпуклости шва
- •8.11. Топография поля дефекта на поверхности соединения, выполненного сваркой плавлением
- •8.12. Суперпозиция полей, записываемых на магнитную ленту, в процессе магнитографического контроля
- •8.13. Отстройка от мешающих факторов в магнитной дефектоскопии. Повышение чувствительности и разрешающей способности метода
- •8.14. Устройства для магнитографического контроля различных объектов
- •Повышение селективности контроля
- •Обобщенная структурная схема индукционного дефектоскопа
- •Основные уравнения электромагнитных волн
- •Связь сигналов первичных преобразователей с параметрами объекта контроля Контроль цилиндрических изделий преобразователями с однородным полем
- •Определение эдс измерительной обмотки проходного втп с учетом параметров контролируемого цилиндра
- •Контроль труб и неферромагнитных биметаллических цилиндров
- •Контроль цилиндрических объектов проходными преобразователями с неоднородным полем
- •Дефектоскопия вихретоковыми методами. Решение этих задач.
- •Чувствительность проходных преобразователей к дефектам кругового цилиндра.
- •Чувствительность проходных преобразователей к дефектам трубы 210
- •Втп с импульсным возбуждением
- •Влияние скорости движения преобразователя относительно ок
- •Контролируемые параметры и мешающие факторы
- •1. Применение специальных конструкций преобразователей.
- •2. Двухпараметровые способы отстройки от мешающих факторов.
- •3. Способы стабилизации и вариации режима контроля
- •8. Остаточный ресурс работы ферромагнитного объекта
3.4. Магнитная дефектоскопия
Одной из главных задач магнитной дефектоскопии является определение пространственного распределения магнитного поля в зоне дефекта (с учетом глубины залегания, величины дефекта и т.д.). В общем виде ее можно сформулировать следующим образом: в ферромагнитном теле, намагниченном внешним постоянным полем Нο (x,y,z), имеется инородное тело (дефект) произвольной формы и размеров с магнитными характеристиками, отличными от характеристик окружающей его области. Требуется рассчитать, какие изменения вносит дефект в первичное поле в пространстве над ферромагнетиком, то есть необходимо найти
(x,y,z. ) =
(x,y,z. ) –
(x,y,z),
где
(x,y,z. )– вектор
напряженности результирующего поля в
любой точке пространства вне ферромагнетика;
(x,y,z)
– вектор напряженности внешнего поля
в той же точке;
(x,y,z. ) –
вектор напряженности поля дефекта в
той же точке.
Определение Hο(x,y,z) сводится к решению нелинейных уравнений с учетом граничных условий. Точное решение этой задачи практически невозможно из-за непреодолимых математических трудностей. Поэтому обычно ограничиваются рассмотрением задачи в линейном приближении, то есть предполагается, что на ферромагнетик с дефектом воздействует такое по величине однородное магнитное поле, что магнитная проницаемость μ=const(магнитная проницаемость материала ОК и дефекта не зависят от напряженности магнитного поля). Даже при таком допущении задача не решается в общем случае. Поэтому в большинстве работ излагаются магнитостатические методы приближенного расчета полей для конкретных форм дефектов с приемлемыми для практики допущениями.
3.4.1. Расчет магнитостатических полей рассеяния поверхностных дефектов
Основные предпосылки.Для успешного контроля ферромагнитных изделий необходимо иметь достаточно полную информацию о пространственном распределении магнитных полей рассеяния, обусловленных различными дефектами. В общем случае расчет магнитостатических полей рассеяния дефектов представляет собой весьма сложную математическую задачу и практически неосуществим, так как дефекты имеют весьма сложную геометрическую форму и могут различаться по физической природе. Однако в ряде случаев дефекты имеют простую форму и создаваемые ими поля могут быть аппроксимированы полями эквивалентных магнитных диполей. Тогда расчет поля дефекта в виде локальной вмятины можно провести, уподобив его полю точечного диполя, а дефект в виде риски, аппроксимировав его линейным диполем с базой, равной ширине дефекта. Дефекты недопустимые отличаются тем, что у них глубина намного больше ширины. Поле рассеяния такого дефекта можно уподобить полю ленточного диполя, ширина которого равна ширине дефекта.
Элементарные источники магнитостатических полей
В магнитостатике весьма удобно пользоваться понятием «магнитный заряд». Понятие это фиктивное, однако, в ряде случаев с ним можно оперировать как с понятием реальным, в частности при µ=const. Условно будем называть точечным «магнитным зарядом» зарядmконечной величины, сосредоточенный в бесконечно малом объеме. «Магнитный заряд» характеризуется величинойmи знаком (+) или (–), соответственно, обозначаем N иS. Точечный «магнитный заряд» +m или –m, находясь в вакууме, создает в некоторой точке А окружающего пространства поле напряженностью Н:
,
(*)
где
- радиус-вектор, проведенный из точкиmв точку А.
« Магнитный заряд» называется
поверхностным, если он распределен в
бесконечно тонком слое по некоторой
конечной поверхности. Поверхностной
плотностью σп«магнитного заряда» называют величину
этого «заряда», приходящуюся на единицу
площади,
.
Топография поля рассеяния дефекта, эквивалентного точечному диполю.Определим составляющие поля двух зарядов противоположного знака, расположенных на расстоянии 2bдруг от друга (магнитный диполь с базой 2b).

Рис. Расчетная схема
Горизонтальная составляющая напряженности магнитостатического поля точечного диполя в точке М определяется из выражения:

Подставляя полученные выражения в (**), получим:
;
.
Топография поля дефекта эквивалентного линейному диполю. Из общего курса физики известно, что бесконечно длинная нить, равномерно заряженная по всей длине, создает в произвольной точке, расположенной на расстоянииr, поле напряженностью
,
с – постоянный коэффициент, зависящий от выбранной системы единиц измерения;
–
линейная плотность «магнитных зарядов».
=
Вид топографии поля дефекта, эквивалентного точечному и линейному диполям изображен на рис.


Рис. Вид топографий составляющих поля дефекта, эквивалентного точечному и линейному диполям
Топография поля дефекта, эквивалентного ленточному «магнитному диполю».На основании дефекта и граничных поверхностях изделия «магнитных зарядов» от внешнего намагничивающего поля не образуется, т.к. оно направлено параллельно этим граням. «Магнитные заряды» здесь образуются только от вторичного поля заряженных граней дефекта и настолько малы, что действием их можно пренебречь.
Для ленточного диполя (см. рисунок 2) шириной 2b и глубиной h необходимо учитывать магнитный заряд dQ, расположенный не по элементу нити, а по элементу поверхности dS грани с поверхностной плотностью ():
dQ = () dSn, (7)
где меняется в пределах от 0 до h.

Рисунок 2 – Расчет магнитного поля дефекта, эквивалентного точечному и ленточному диполю
Выражение напряженности поля в точке М от действия «зарядов», расположенных на одной из граней диполя, по элементу поверхности с шириной d:
, (8)
Принимая во внимание:
;
;
;
;
;
,
получим:
;
.
Составляющие поля от отрицательно заряженной границы:
;
.
При
составляющие
поля ленточного диполя имеют вид:
(9)
(10)
![]()
Топография поля косорасположенного
дефекта. Топография поля наклонного
к поверхности изделия дефекта зависит
от напряженности приложенного поля. В
области слабых полей (там, где напряженность
не превышает
топография
поля такого дефекта (Нx)
имеет симметричный вид и не отличается
от топографии поля дефекта, нормального
к поверхности, то есть имеет вид:
В области сильных полей она имеет несимметричный вид, заключающийся в появлении вблизи острого угла отрицательного экстремума.

Рис. Вид косорасположенного дефекта

Рис. К объяснению топографии магнитного поля косорасположенного дефекта
Степень асимметрии поля тем больше, чем больше величина приложенного поля.
Топографии полей дефектов, эквивалентных точечному, линейному и ленточному диполям. Изменение тангенциальной составляющей поля дефекта, эквивалентного точечному и линейному диполю, представлено нарисунке.
Нормальная составляющая поля дефекта имеет два экстремума противоположного знака.
Характер изменения тангенциальной составляющей поля дефекта, эквивалентного ленточному диполю, изображен на рисунке:


Рис. Топография тангенциальной составляющей поля дефекта, эквивалентного «ленточному диполю»:
а) – схематическое изображение дефекта;
б) – топография тангенциальной составляющей поля дефекта.
Нxв интервале –b<x<bизменяется непрерывно (кривая аbс). При переходе через точки ребер А и А1 Нxпретерпевает конечный скачок разрыва, равный 2πσп. Нxпо ширине дефекта с увеличением глубины диполя становится более однородной, а для бесконечной глубины диполя (h→∞) – строго однородной (криваяавстрансформируется в прямую МN). При переходе через ребра граней величина скачка поля остается постоянной и составляет 2πσп.


Рис. Топография нормальной составляющей поля дефекта, эквивалентного «ленточному диполю»:
Для
,
для![]()
Поле внутреннего дефекта. Н.Н. Зацепин выполнил полный расчет поля дефекта цилиндрической формы радиусаr, продольная ось которого параллельна поверхности полубесконечного тела.

Рис. Расчетная схема:
µ1–магнитная проницаемость воздуха; µ2- магнитная проницаемость материала объекта;
µ3- магнитная проницаемость материала дефекта
Нас в большей степени интересуют составляющие напряженности поля дефекта, ориентированные перпендикулярно и параллельно поверхности объекта.
Расчет выполнен для случая μ=const.
(1) 
(2) 
Исследуем изменение
для случая![]()

Следовательно, горизонтальная составляющая поля внутреннего дефекта прямо пропорциональна напряженности намагничивающего поля Нο, квадрату радиуса дефекта и обратно пропорциональна квадрату глубины его залегания.
Характер изменения тангенциальной и нормальной составляющей поля внутреннего дефекта при увеличении глубины его залегания от поверхности изображен на рисунке.

![]()
Рис. Характер изменения тангенциальной составляющей поля внутреннего дефекта при увеличении глубины его залегания

![]()
Рис. Характер изменения нормальной составляющей поля внутреннего дефекта при увеличении глубины его залегания
В.Е. Щербининым и М.Л. Шуром выполнен аналогичный расчет, но с учетом влияния границы раздела сред. Сравнение топографий тангенциальных составляющих магнитостатических полей одинаковых дефектов, определенных по формулам Н.Н. Зацепина и В.Е. Щербинина – М.Л. Шура, показывает, что при h>6 мм они практически одинаковы. Влияние границы раздела сред таково, что при приближении дефекта к наружной поверхности изделия (по отношению к преобразователю) рост Нxdи Нydнесколько замедляется.
В плоскопараллельной пластине при приближении дефекта к внутренней поверхности замедляется убывание поля дефекта, причем Нxdдаже начинает несколько возрастать (см. рисунок).

Рис. Влияние границ изделия на тангенциальную составляющую поля дефекта:
S- толщина пластины.
Влияние границ изделия начинает сказываться при расстоянии от дефекта до границы в пределах 2-4 диаметров дефекта.
