- •Просветитель
- •Проявитель фоторезиста
- •Растворы травления меди
- •Подготовка поверхности пп к нанесению фоторезиста
- •Нанесение фоторезиста на поверхность заготовки
- •Заготовка с фотошаблоном под оргстеклом. Используем коробку из-под компакт-диска.
- •Экспозиция (засветка)
- •Лампы уф-излучения
- •Проявление экспонированной заготовки
- •Плата вытравлена
- •Лужение меди на пп
- •Нанесение защитной маски
- •Все, двусторонняя печатная плата с маской готова
- •Печатная плата в процессе монтажа на нее компонентов
- •Фрагмент печатной платы, где видна металлизация в отверстии
- •Самодельные фоторезисты
- •Химическое лужение
Заготовка с фотошаблоном под оргстеклом. Используем коробку из-под компакт-диска.
Экспозиция (засветка)
Время, требуемое для экспонирования, зависит от толщины слоя фоторезиста и интенсивности источника света. Лак-фоторезист POSITIV 20 чувствителен к ультрафиолетовым лучам, максимум чувствительности приходится на участок с длиной волны 360-410 нм.
Лучше всего экспонировать под лампами, диапазон излучения которых находится в ультрафиолетовой области спектра, но если такой лампы у вас нет — можно использовать и обычные мощные лампы накаливания, увеличив время экспозиции. Не начинайте засветку до момента стабилизации освещения от источника — необходимо, чтобы лампа прогрелась в течение 2-3 минут. Время экспозиции зависит от толщины покрытия и обычно составляет 60-120 секунд при расположении источника света на расстоянии 25-30 см. Используемые пластины стекла могут поглощать до 65% ультрафиолета, поэтому в таких случаях необходимо увеличивать время экспозиции. Лучшие результаты достигаются при использовании прозрачных плексигласовых пластин. При применении фоторезиста с длительным сроком хранения время экспонирования может потребоваться увеличить вдвое — помните:фоторезисты подвержены старению!
Примеры использования различных источников света:
Источник света |
Время |
Расстояние |
Примечание |
ртутная лампа Philips HPR125 |
3 мин. |
30 см |
покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм |
ртутная лампа 1000W |
1,5 мин. |
50 см |
покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм |
ртутная лампа 500W |
2,5 мин. |
50 см |
покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм |
кварцевая лампа 300W |
3-4 мин. |
30 см |
покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм |
солнечный свет |
5-10 мин. |
лето, в полдень, безоблачно |
покрытие из кварцевого стекла толщиной 5 мм |
лампы Osram-Vitalux 300W |
4-8 мин. |
40 см |
покрытие из кварцевого стекла толщиной 8 мм |
Лампы уф-излучения
Каждую сторону экспонируем по очереди, после экспозиции даем выстояться заготовке 20-30 минут в затемненном месте.
Проявление экспонированной заготовки
Проявляем в растворе NaOH (каустическая сода) — подробнее смотрите в начале статьи — при температуре раствора 20-25°C. Если до 2 минут проявления нет — мало время экспозиции. Если проявляется хорошо, но смываются и полезные участки — вы перемудрили с раствором (слишком велика концентрация) или слишком велико время экспозиции при данном источнике излучения или фотошаблон низкого качества — недостаточно насыщенный печатаемый черный цвет позволяет ультрафиолету засвечивать заготовку.
При проявлении я всегда очень бережно, без усилий «катаю» ватным тампоном на стеклянной палочке по тем местам, где должен смыться засвеченный фоторезист, — это ускоряет процесс.
Промывка заготовки от щелочи и остатков отслоившегося засвеченного фоторезиста
Я делаю это под водопроводным краном — обычной водопроводной водой.
Повторное дубление фоторезиста
Помещаем заготовку в духовку, плавно поднимаем температуру и при температуре 60-100°C выдерживаем 60-120 минут — рисунок становится прочным и твердым.
Проверка качества проявления
Кратковременно (на 5-15 секунд) погружаем заготовку в подогретый до температуры 50-60°C раствор хлорного железа. Быстро промываем проточной водой. В местах, где фоторезиста нет, начинается интенсивное травление меди. Если где-то случайно остался фоторезист, аккуратно механически удаляем его. Удобно это делать обычным или офтальмологическим скальпелем, вооружившись оптикой (очки для пайки, лупа часовщика, лупа на штативе, микроскоп).
Травление
Травим в концентрированном растворе хлорного железа с температурой 50-60°C. Желательно обеспечить непрерывную циркуляцию травильного раствора. Плохо стравливающиеся места аккуратно «массируем» ватным тампоном на стеклянной палочке. Если хлорное железо свежеприготовленное, время травления обычно не превышает 5-6 минут. Промываем заготовку проточной водой.