Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
ТИМС / Плазма-Травление 2013.ppt
Скачиваний:
80
Добавлен:
05.06.2015
Размер:
9.01 Mб
Скачать

Возможные поврежденияструктур, присущие плазменным процессам.

Тип

 

 

Основная

 

Присутствие

эффекта

Затрагиваемые

 

 

 

при травлении

или

повреждений

 

причина

 

материалы

 

 

осаждении

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Обычно только

при

 

 

 

 

 

 

травлении

благодаря

 

Осадочные

 

Воздействие

 

реакции

 

 

Все

загрязнения

 

плазмы

 

взаимодействия

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

побочных продуктов на

 

 

 

 

 

 

поверхности

 

 

 

 

 

 

Образование под

 

 

 

 

Образование

 

воздействием

 

 

 

 

 

новых

 

 

плазмы

 

 

 

 

 

химических

 

приповерхностно

 

 

 

 

соединений

в

го реакционного

 

 

 

 

результате

 

 

слоя,

 

 

 

 

 

взаимодействия

насыщенного

 

 

 

 

 

элементов

 

 

распыленными

 

Травление, осаждение

Все

обрабатываемой

элементами

 

 

 

 

 

структуры

 

 

структуры,

 

 

 

 

 

между

собой

вступающими

во

 

 

 

 

или

 

с

взаимодействие

 

 

 

 

плазменными

 

между собой

и

 

 

 

 

частицами.

 

элементами

 

 

 

 

 

 

 

 

плазмы.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Вызванное

 

 

 

Диэлектрики

и

плазмой

Воздействие

 

 

 

Травление, осаждение

полупроводник

проникновение

плазмы

 

 

 

и

 

частиц

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Бомбардировка

 

Диэлектрики

и

Разрушение

фотонами

и

 

Травление, осаждение

полупроводник

связей

частицами

 

 

 

и

 

 

плазмы

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Токи,

 

 

 

 

 

возникающие

в

 

 

 

 

течение

 

 

 

 

Токовые

плазменной

 

 

 

 

обработки из-за

Травление, осаждение

Диэлектрики

 

повреждения

 

образования

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

зарядов

или

 

 

 

 

индуцированные

 

 

 

 

токи

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Остановка травления при травлении окисла в результате интенсивной

полимеризации при травлении в смеси C4F8 во время формирования самосовмещенного контакта. (б) – исключение эффекта «стоп- травления» при добавке кислорода.

Поперечное сечение нижней части канавки с подтравом, вызванным переотражением ионов от заряженных стенок.