2.2.Практические занятия

№

Содержание

Прогнозирование вероятности протекания эпитаксиальных процессов по диаграммам фазовых равновесий.

Расчет параметров жидкофазной эпитаксии по диаграммам фазовых равновесий.

Контрольная работа.

Термодинамический анализ системы Si-Cl-H.

Изучение тепло- и массопереноса в газофазных процессах.

Изучение кинетики локального окисления кремния

Сравнительный анализ диэлектрических пленок , полученных разными методами.

Контрольная работа.

Расчет параметров процесса термодиффузии.

Расчет составляющих автолегирования.

Изучение маскирующих свойств диоксида кремния.

Расчет параметров процесса ионной имплантации.

Глубокая имплантация ионов кислорода (азота)

Расчет параметров процесса плазмохимического травления.

Изучение влияния дифракции на результаты фотолитографии.

Сравнительный анализ технологий формирования структур с комбинированной изоляцией.

Контрольная работа.

№

Содержание

14. 1

Ионно-плазменное нанесение тонких пленок.

15. 2

Вакуум-термическое нанесение тонких пленок..

16. 3

Получение автоэпитаксиальных слоев с заданными параметрами

17. 4

Изучение газофазной составляющей автолегирования.

Программные продукты

Microsoft Excel

Процессы эпитаксии кремния для формирования тонких эпитаксиальных структур

Процессы эпитаксии кремния для силовой электроники

Локальная эпитаксия кремния в технологии микроэлектроники

Процессы осаждения поликристаллического кремния в технологии ИС

Процессы осаждения диоксида кремния в технологии ИС

Процессы осаждения нитрида кремния в технологии ИС

Процессы плазмохимического осаждения диоксида кремния

Процессы плазмохимического осаждения нитрида кремния

Термическое окисление кремния в технологии ИС

Процессы подготовки поверхности подложек в технологии ИС

Процессы жидкостного химического травления в технологии ИС

Процессы плазмохимического травления в технологии ИС

Процессы ионного травления в технологии ИС

Процессы ионно-лучевого травления в технологии ИС

Процессы вакуум-термического нанесения в технологии ИС

Процессы ионно-плазменного нанесения вещества в технологии ИС

Процессы катодного распыления в технологии ИС

Процессы магнетронного распыления в технологии ИС

Процессы термодиффузии легирующих примесей в технологии ИС

Процессы формирования мелкозалегающих переходов методами диффузии

Процессы ионной имплантации в технологии ИС

Фотолитографические процессы в технологии ИС

Процессы электронолитографии в технологии микроэлектроники

Процессы рентгенолитографии в технологии микроэлектроники

Процессы газофазного осаждения слоев металлов в технологии ИС

Процессы формирования слоев силицидов в технологии ИС

Методы формирования гетероэпитаксиальных структур