КР / Методичка Для курсовой
.pdfМИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Московский государственный институт электроники и математики (Технический университет)
Кафедра электроники и электротехники
Рябов Никита Иванович
МЕТОДИЧЕСКОЕ ПОСОБИЕ К ВЫПОЛНЕНИЮ КУРСОВОГО ПРОЕКТА ПО ДИСЦИПЛИНЕ
“ ЭЛЕКТРОНИКА И ЭЛЕКТРОТЕХНИКА ”
Москва 2009
2
Содержание
1. Элементы ПИМС..................................................................................................... |
3 |
1.1. Биполярные транзисторы............................................................................. |
3 |
1.2. Диоды ........................................................................................................... |
7 |
1.3. Резисторы ..................................................................................................... |
8 |
1.4. МДП транзисторы....................................................................................... |
13 |
1.5. Приборы и ИС на арсениде галлия............................................................. |
19 |
2. Логические схемы................................................................................................... |
25 |
2.1. Общие сведения .......................................................................................... |
25 |
2.2. Транзисторно - транзисторные логические схемы (ТТЛ) ......................... |
31 |
2.3. КМОП.......................................................................................................... |
34 |
2.4. Логические схемы на арсениде галлия. ...................................................... |
39 |
3. Расчет схем в программе PSpice............................................................................. |
43 |
3.1. Краткие сведения ........................................................................................ |
47 |
3.2. Примеры расчетов....................................................................................... |
54 |
3.3. Графический процессор PROBE................................................................. |
60 |
Литература .................................................................................................................. |
64 |
3
1.Элементы ПИМС
1.1.Биполярные транзисторы
Типичные конструкции маломощных планарных биполярных транзисторов (при величине минимального размера Dmin=3мкм) показаны на рис.1 и рис.2. Вертикальная структура транзистора (рис. 1) характеризуется более высокими усилительными параметрами и быстродействием по сравнению с горизонтальной. Однако реализовать вертикальную конструкцию p-n-p транзистора совместно с n-p-n транзистором технологически сложно.
Далее мы рассмотрим методику конструирования и расчета дрейфового планарного n-p-n транзистора. Исходными данными являются параметры отработанного технологического процесса изготовления ПИМС и электрофизические параметры используемых материалов.
Таблица 1. Исходные данные - физические константы, параметры полупроводника и диффузионных слоев
Параметр |
|
Описание |
xjк=1…3 |
|
Глубина залегания p-n перехода база-коллектор, мкм |
xjэ=0.5…2.5 |
|
Глубина залегания эмиттерного p-n перехода, мкм |
wБ=xjк-xjэ |
|
Толщина активной базы, мкм |
wэпи=5…12 |
|
Толщина эпитаксиального слоя, мкм |
xjn=5…15 |
|
Толщина скрытого n+ слоя, мкм |
NДЭ(0)=(2…10) |
×1020 |
Концентрация донорной примеси в эмиттерной области: на по- |
|
|
верхности, см-3 |
NДЭ(xjэ)=(1…10) |
×1017 |
Концентрация донорной примеси в эмиттерной области: у эмит- |
|
|
терного перехода, см-3 |
NАБ(0)=(5…10) ×1018 |
Поверхностная концентрация акцепторов в базе, см-3 |
|
NДК(0)=(0.5…10) |
×1016 |
Концентрация донорной примеси в эпитаксиальной пленке кол- |
|
|
лектора, см-3 |
ρэпи=0.1…1 |
|
Удельное объемное сопротивление коллекторной области, |
|
|
Ом×см |
ρБА=(1…10) ×103 |
Удельное поверхностное сопротивление активной области базы |
|
|
|
(под эмиттером), Ом/□ |
ρБП=100…300 |
|
Удельное поверхностное сопротивление пассивной области ба- |
|
|
зы (вне эмиттера), Ом/□ |
|
|
|
LpЭ»5 |
|
Диффузионная длина дырок в эмиттере, мкм |
LnБ»5 |
|
Диффузионная длина электронов в базе, мкм |
LpК»5 |
|
Диффузионная длина дырок в коллекторе, мкм |
DpЭ |
|
Коэффициент диффузии дырок в эмиттере, см2/с |
DnБ |
|
Коэффициент диффузии электронов в базе, см2/с |
DpК |
|
Коэффициент диффузии дырок в коллекторе, см2/с |
ni=1.5×1010 (Si) |
|
Концентрация носителей зарядов в собственном полупроводни- |
ni=1.5×106 (GaAs) |
ке, см-3 |
|
e=12 (Si), e=3.8 (SiO2), |
Относительная диэлектрическая проницаемость полупроводни- |
|
e=11 (GaAs) |
|
ка, диэлектрика |
q=1.6×10-19 |
|
заряд электрона, Кл |
μn≈800...1400 (Si) |
Подвижность электронов, см2/(В×с) |
|
μp≈400...700 (Si) |
Подвижность дырок, см2/(В×с) |
|
4
Связь коэффициента диффузии и подвижности:
D=ϕT×μ, ϕT =0.025 В.
Рис 1. Конструкция и условное обозначение биполярного n-p-n транзистора. Минимальный топологический размер 3 мкм.
Рис 2. Конструкция и условное обозначение биполярного p-n-p транзистора. Минимальный топологический размер 3 мкм.
5
Последующий расчет схем будет делаться с помощью программы PSpice. В данной программе используются 2 модели биполярного транзистора: модель Гуммеля-Пуна и передаточная модель Эберса-Молла, которой мы и воспользуемся.
Рис 3. Передаточная модель Эберса-Молла для n-p-n транзистора
Расчет топологии n-p-n транзистора
Рис. 4. Параметры топологии и структуры транзистора
6
Все транзисторы проектируются исходя из минимального размера min, за исключением многоэмиттерных, для которых следует добиваться минимума коэффициента передачи тока базы в инверсном режиме - BR (необходимо получить значение BR < 0.1) этот параметр рассчитывается по формуле [6]:
|
DnБ SЭ K X exp(wБ / 2LA ) |
BR = |
DpK SБ / LpK + DnБ SЭM (K X cth(K X wБ )-1/ 2LA )+ DnБ (SБ - MSЭ )(K X cth(K X x jК )-1/ 2LA ) |
где: M – число эмиттеров, SЭ=LЭdЭ, - площадь эмиттера, SБ=LБZБ, - общая площадь базы,
|
|
= |
|
|
|
|
|
|
= w / ln |
N ДЭ (x jЭ ) |
. |
|
K |
X |
(1/ 2L |
A |
)2 + (1/ L |
)2 , L |
A |
||||||
|
||||||||||||
|
|
|
nБ |
|
|
Б |
N ДК |
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||
Остальные параметры рассчитываются по следующим формулам: Ток насыщения:
IS = SЭqDnБni2
N ДЭ (x jЭ )Lа
Коэффициент усиления тока базы в нормальном режиме:
B = |
2L2nБ |
(1+η) , |
|
||
F |
w2 |
|
|
Б |
|
где η=2...4 – коэффициент, учитывающий градиент примеси в базе.
Сопротивление базы:
R = R dЭБ
B SB LЭ
Сопротивление коллектора:
RC=RC1+RC2
|
wЭПИ |
- |
1 |
Х jn - Х jЭ |
|
||||
RC1 = ρЭПИ |
|
2 |
|
|
|
LKK × dKK |
|||
|
|
|||
Время пролета базы:
TF |
= |
2w2 |
|
Б |
|||
|
|
||
|
|
DnБ (1 +η ) |
Емкости рассчитываются по формуле:
|
wЭПИ |
- |
1 |
Х jn |
- Х jK |
|
|||||
RC 2 = ρЭПИ |
|
2 |
|
|
|
|
LЭ × dЭ |
|
|||
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
7 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
N |
|
N |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
qε ε |
Si |
N |
|
|
|
|
|
kT |
Д |
А |
|
||||||||
C |
p −n |
= S |
∑ |
0 |
|
|
|
|
, V = |
|
|
|
|
ln |
|
|
|
» 0.8...0.9B ; N=min(NД(xj),NА(xj)); |
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
2 |
|
|||||||||||||||
|
|
2VB |
|
|
B |
|
q |
|
|
|
|
|
|
|||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
ni |
|
|
|
||||||||
SΣ = LБ Z Б |
+ |
|
2πx jК |
(LБ |
+ Z Б ) + |
4πx2jК |
|
- для коллекторного p-n – перехода, |
||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
4 |
|
|
|
|
|
|
|
|
8 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
SΣ = LЭdЭ |
+ |
2πx jЭ |
(LЭ + dЭ ) + |
4πx2jЭ |
|
|
- для эмиттерного p-n – перехода, |
|||||||||||||||||||
|
|
|
||||||||||||||||||||||||
|
|
|
|
|
|
|
4 |
|
|
|
|
|
|
|
|
8 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
– ёмкость p-n перехода при нулевом смещении, SΣ - общая площадь p-n – перехода, первое слагаемое – плоское дно, второе слагаемое – цилиндрические боковые части, третье слагаемое – сферические угловые части, значения концентраций NД,NА берутся вблизи p-n перехода, VB - потенциальный барьер p-n – перехода при нулевом смещении.
1.2.Диоды
Вкачестве диодов в ПИМС используют транзисторные n-p-n структуры в диодном включении. В быстродействующих схемах в качестве диода используют эмиттерный p-n – переход, при этом коллекторный переход закорочен. При необходимости применения диода с более высоким рабочим напряжением (до 60 В) используют коллекторный p-n – переход. Эмиттерную область в такой структуре обычно не формируют, что позволяет существенно уменьшить размеры диода.
На характеристики диода в конкретной схеме существенное влияние могут оказы-
вать паразитные элементы: p-n-p транзистор, емкость диода СД и емкость изоляции СИ. В следующей таблице приведены типовые параметры наиболее часто применяемых диодов
при rК = 0.5 Ом×см, rБП = 200 Ом/□, rЭ = 2.2 Ом/□ (поверхностное сопротивление эмиттерной области), SЭ = 300 мкм2, SБ = 2000 мкм2.
Параметр |
Эмиттерный |
Коллекторный |
|
переход |
переход |
Напряжение пробоя UДMAX, В |
7 |
55 |
Обратный ток IДU, нА |
1.7 |
6.7 |
Время выключения tВЫКЛ, нс |
9 |
55 |
Емкость диода CД, пФ (при Uобр = 5 В) |
0.17 |
0.23 |
Емкость изоляции CИ, пФ (при Uобр = 5 В) |
0.97 |
0.97 |
При расчете диода используются те же исходные данные, что для биполярного транзистора. Топология синтезируется с учетом заданного максимального тока диода IДMAX, или исходя из заданного минимального размера. Затем рассчитывают основные параметры: барьерную емкость CД(UД), максимальное обратное напряжение UДMAX, обратный тепловой ток IД0, прямое падение напряжения UД(IД). Порядок расчета диода следующий:
1.Выбор варианта реализации диода
2.Расчет параметров: La, LД, BN
3.Синтез топологии – определение размеров: M, ZЭ, RБ, ZБ
4.Расчет параметров: CД(UД), UДmax, IД0, UД(IД)
Примечание. Поскольку в ПИМС в качестве диодов используются транзисторы в диодном включении (см. выше), то для этого можно использовать один из спроектированных ранее транзисторов, при расчете схемы с помощью SPICE кодируется такое включение транзистора.
8
1.3. Резисторы
Тонкопленочные резисторы
Резисторы тонкоплёночные – тонкие резистивные плёнки, нанесённые на диэлектрическую подложку. Концы плёнки замыкаются на контактные площадки, имеющие высокую проводимость (металлы). Используются в гибридных ИС (резисторы напыляются на подложку, транзисторы – наклеиваются).
Рис. 5. Сопротивление резистора прямоугольной конфигурации
Рис. 6. Тонкая резистивная пленка в форме квадрата
Сопротивление двух квадратов одинаковы, т.е. квадрат с любой стороной “ a” имеет одно и то же сопротивление. Такое сопротивление называется поверхностным (RS), оно зависит только от толщины и материала плёнки:
9
RS = ρ × a = ρ ad d
Размерность поверхностного сопротивления: Ом×см×(см/см2)=Ом, т.е. просто размерность сопротивления, но, чтобы подчеркнуть, что это – сопротивление пленки квадратной формы, используется название размерности «ом на квадрат», обозначается: Ом/□.
Сопротивление линейного резистора
R = ρ × |
l |
= RS |
× |
l |
|
wd |
w |
||||
|
|
|
определяется количеством квадратов со стороной w, которые уместятся на длине l. Для повышения сопротивления используют более сложную топологию резистора - меандр (змейку). Для изменения толщины d надо менять технологию. В интегральной технологии d по всей площади одинакова, следовательно, можно менять только длину и ширину.
Рис. 7. Резистор сложной конфигурации
Сопротивление резистора сложной конфигурации:
R = RS l∑ + Nизл R¢ .
w
где: R′ - сопротивление излома; l∑ - длина прямоугольных участков. Можно показать, что R′ = 0,55 × RS .
Резистор, показанный на рис. 7 имеет 6 изломов (NИЗЛ).
Материалы тонкоплёночных резисторов – сплавы с высоким сопротивлением, например нихром.
10
Диффузионные резисторы
Диффузионные резисторы – формируются в полупроводниковой подложке с помощью методов диффузии или ионной имплантации.
Рис. 8. Диффузионный резистор
Чтобы использовать диффузионную область в качестве резистора, необходимо сместить в обратном направлении отделяющий ее p-n переход. Для этого подложку (n-тип) надо подключить к самому высокому потенциалу в схеме, т.е. к положительному источнику питания Е+. В данной конструкции всегда существует паразитный ток утечки.
При необходимости реализовать сопротивление большего номинала делается контур с изгибами (типа «меандр»).
R = RS l∑ + Nизл R¢ + RS (K П1 + K П 2 ) w
где RS (K П1 + K П 2 ) - сопротивление контактных площадок. КП = 0,5...1 = f ( ab ) - даны в
справочниках.
При использовании полупроводниковой технологии нельзя реализовать резисторы произвольного номинала; существуют ограничения сверху и снизу, Rmin и Rmax.
Обычно RS p-слоя меняется от 100...300 Ом/□. Как правило, минимальная ширина резистора wmin не менее 2...3 минимальных размеров. Уменьшить wmin невозможно из-за несовершенства технологического процесса. Оценим:
lmin = wmin = 10 мкм.
Размер кристалла микросхемы (чипа) ~ 2´2 мм => lmax=1 мм (меандр).
Для минимального: R |
= R |
lmin |
, Rmin=100 Ом/□× |
10 |
мкм |
=100 Ом. (Rmin=50...100 Ом). |
|||
w |
|
|
|||||||
|
|
|
min |
S min |
10 |
мкм |
|||
|
|
|
|
|
min |
|
|
|
|
Rmax=RSmax |
lmax |
=300 × |
103 |
=30 кОм. (Rmax=30...50 кОм). |
|
|
|||
|
|
|
|||||||
|
|
|
|||||||
|
wmin |
10 |
|
|
|
|
|
|
|
На практике часто надо реализовать сопротивление большего номинала. 1. Сжатый резистор (pinch, пинч-резистор)
