Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

КР / Методичка Для курсовой

.pdf
Скачиваний:
31
Добавлен:
30.04.2013
Размер:
739.1 Кб
Скачать

МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ

Московский государственный институт электроники и математики (Технический университет)

Кафедра электроники и электротехники

Рябов Никита Иванович

МЕТОДИЧЕСКОЕ ПОСОБИЕ К ВЫПОЛНЕНИЮ КУРСОВОГО ПРОЕКТА ПО ДИСЦИПЛИНЕ

“ ЭЛЕКТРОНИКА И ЭЛЕКТРОТЕХНИКА ”

Москва 2009

2

Содержание

1. Элементы ПИМС.....................................................................................................

3

1.1. Биполярные транзисторы.............................................................................

3

1.2. Диоды ...........................................................................................................

7

1.3. Резисторы .....................................................................................................

8

1.4. МДП транзисторы.......................................................................................

13

1.5. Приборы и ИС на арсениде галлия.............................................................

19

2. Логические схемы...................................................................................................

25

2.1. Общие сведения ..........................................................................................

25

2.2. Транзисторно - транзисторные логические схемы (ТТЛ) .........................

31

2.3. КМОП..........................................................................................................

34

2.4. Логические схемы на арсениде галлия. ......................................................

39

3. Расчет схем в программе PSpice.............................................................................

43

3.1. Краткие сведения ........................................................................................

47

3.2. Примеры расчетов.......................................................................................

54

3.3. Графический процессор PROBE.................................................................

60

Литература ..................................................................................................................

64

3

1.Элементы ПИМС

1.1.Биполярные транзисторы

Типичные конструкции маломощных планарных биполярных транзисторов (при величине минимального размера Dmin=3мкм) показаны на рис.1 и рис.2. Вертикальная структура транзистора (рис. 1) характеризуется более высокими усилительными параметрами и быстродействием по сравнению с горизонтальной. Однако реализовать вертикальную конструкцию p-n-p транзистора совместно с n-p-n транзистором технологически сложно.

Далее мы рассмотрим методику конструирования и расчета дрейфового планарного n-p-n транзистора. Исходными данными являются параметры отработанного технологического процесса изготовления ПИМС и электрофизические параметры используемых материалов.

Таблица 1. Исходные данные - физические константы, параметры полупроводника и диффузионных слоев

Параметр

 

Описание

x=1…3

 

Глубина залегания p-n перехода база-коллектор, мкм

x=0.5…2.5

 

Глубина залегания эмиттерного p-n перехода, мкм

wБ=x-x

 

Толщина активной базы, мкм

wэпи=5…12

 

Толщина эпитаксиального слоя, мкм

xjn=5…15

 

Толщина скрытого n+ слоя, мкм

NДЭ(0)=(2…10)

×1020

Концентрация донорной примеси в эмиттерной области: на по-

 

 

верхности, см-3

NДЭ(x)=(1…10)

×1017

Концентрация донорной примеси в эмиттерной области: у эмит-

 

 

терного перехода, см-3

NАБ(0)=(5…10) ×1018

Поверхностная концентрация акцепторов в базе, см-3

NДК(0)=(0.5…10)

×1016

Концентрация донорной примеси в эпитаксиальной пленке кол-

 

 

лектора, см-3

ρэпи=0.1…1

 

Удельное объемное сопротивление коллекторной области,

 

 

Ом×см

ρБА=(1…10) ×103

Удельное поверхностное сопротивление активной области базы

 

 

(под эмиттером), Ом/

ρБП=100…300

 

Удельное поверхностное сопротивление пассивной области ба-

 

 

зы (вне эмиттера), Ом/

 

 

 

LpЭ»5

 

Диффузионная длина дырок в эмиттере, мкм

LnБ»5

 

Диффузионная длина электронов в базе, мкм

LpК»5

 

Диффузионная длина дырок в коллекторе, мкм

DpЭ

 

Коэффициент диффузии дырок в эмиттере, см2

DnБ

 

Коэффициент диффузии электронов в базе, см2

DpК

 

Коэффициент диффузии дырок в коллекторе, см2

ni=1.5×1010 (Si)

 

Концентрация носителей зарядов в собственном полупроводни-

ni=1.5×106 (GaAs)

ке, см-3

e=12 (Si), e=3.8 (SiO2),

Относительная диэлектрическая проницаемость полупроводни-

e=11 (GaAs)

 

ка, диэлектрика

q=1.6×10-19

 

заряд электрона, Кл

μn≈800...1400 (Si)

Подвижность электронов, см2/(В×с)

μp≈400...700 (Si)

Подвижность дырок, см2/(В×с)

4

Связь коэффициента диффузии и подвижности:

DT×μ, ϕT =0.025 В.

Рис 1. Конструкция и условное обозначение биполярного n-p-n транзистора. Минимальный топологический размер 3 мкм.

Рис 2. Конструкция и условное обозначение биполярного p-n-p транзистора. Минимальный топологический размер 3 мкм.

5

Последующий расчет схем будет делаться с помощью программы PSpice. В данной программе используются 2 модели биполярного транзистора: модель Гуммеля-Пуна и передаточная модель Эберса-Молла, которой мы и воспользуемся.

Рис 3. Передаточная модель Эберса-Молла для n-p-n транзистора

Расчет топологии n-p-n транзистора

Рис. 4. Параметры топологии и структуры транзистора

6

Все транзисторы проектируются исходя из минимального размера min, за исключением многоэмиттерных, для которых следует добиваться минимума коэффициента передачи тока базы в инверсном режиме - BR (необходимо получить значение BR < 0.1) этот параметр рассчитывается по формуле [6]:

 

DSЭ K X exp(wБ / 2LA )

BR =

DpK SБ / LpK + DSЭM (K X cth(K X wБ )-1/ 2LA )+ D(SБ - MSЭ )(K X cth(K X x )-1/ 2LA )

где: M – число эмиттеров, SЭ=LЭdЭ, - площадь эмиттера, SБ=LБZБ, - общая площадь базы,

 

 

=

 

 

 

 

 

 

= w / ln

N ДЭ (x )

.

K

X

(1/ 2L

A

)2 + (1/ L

)2 , L

A

 

 

 

 

 

 

Б

N ДК

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Остальные параметры рассчитываются по следующим формулам: Ток насыщения:

IS = SЭqDni2

N ДЭ (x )Lа

Коэффициент усиления тока базы в нормальном режиме:

B =

2L2

(1+η) ,

 

F

w2

 

Б

где η=2...4 – коэффициент, учитывающий градиент примеси в базе.

Сопротивление базы:

R = R dЭБ

B SB LЭ

Сопротивление коллектора:

RC=RC1+RC2

 

wЭПИ

-

1

Х jn - Х

 

RC1 = ρЭПИ

 

2

 

 

LKK × dKK

 

 

Время пролета базы:

TF

=

2w2

Б

 

 

 

 

D(1 +η )

Емкости рассчитываются по формуле:

 

wЭПИ

-

1

Х jn

- Х jK

 

RC 2 = ρЭПИ

 

2

 

 

 

LЭ × dЭ

 

 

 

 

Cp-n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

7

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

N

 

N

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

qε ε

Si

N

 

 

 

 

 

kT

Д

А

 

C

p n

= S

0

 

 

 

 

, V =

 

 

 

 

ln

 

 

 

» 0.8...0.9B ; N=min(NД(xj),NА(xj));

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

2VB

 

 

B

 

q

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ni

 

 

 

SΣ = LБ Z Б

+

 

x

(LБ

+ Z Б ) +

x2

 

- для коллекторного p-n – перехода,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4

 

 

 

 

 

 

 

 

8

 

 

 

 

 

 

 

 

 

SΣ = LЭdЭ

+

x

(LЭ + dЭ ) +

x2

 

 

- для эмиттерного p-n – перехода,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4

 

 

 

 

 

 

 

 

8

 

 

 

 

 

 

 

 

 

– ёмкость p-n перехода при нулевом смещении, SΣ - общая площадь p-n – перехода, первое слагаемое – плоское дно, второе слагаемое – цилиндрические боковые части, третье слагаемое – сферические угловые части, значения концентраций NД,NА берутся вблизи p-n перехода, VB - потенциальный барьер p-n – перехода при нулевом смещении.

1.2.Диоды

Вкачестве диодов в ПИМС используют транзисторные n-p-n структуры в диодном включении. В быстродействующих схемах в качестве диода используют эмиттерный p-n – переход, при этом коллекторный переход закорочен. При необходимости применения диода с более высоким рабочим напряжением (до 60 В) используют коллекторный p-n – переход. Эмиттерную область в такой структуре обычно не формируют, что позволяет существенно уменьшить размеры диода.

На характеристики диода в конкретной схеме существенное влияние могут оказы-

вать паразитные элементы: p-n-p транзистор, емкость диода СД и емкость изоляции СИ. В следующей таблице приведены типовые параметры наиболее часто применяемых диодов

при rК = 0.5 Ом×см, rБП = 200 Ом/, rЭ = 2.2 Ом/(поверхностное сопротивление эмиттерной области), SЭ = 300 мкм2, SБ = 2000 мкм2.

Параметр

Эмиттерный

Коллекторный

 

переход

переход

Напряжение пробоя UДMAX, В

7

55

Обратный ток IДU, нА

1.7

6.7

Время выключения tВЫКЛ, нс

9

55

Емкость диода CД, пФ (при Uобр = 5 В)

0.17

0.23

Емкость изоляции CИ, пФ (при Uобр = 5 В)

0.97

0.97

При расчете диода используются те же исходные данные, что для биполярного транзистора. Топология синтезируется с учетом заданного максимального тока диода IДMAX, или исходя из заданного минимального размера. Затем рассчитывают основные параметры: барьерную емкость CД(UД), максимальное обратное напряжение UДMAX, обратный тепловой ток IД0, прямое падение напряжения UД(IД). Порядок расчета диода следующий:

1.Выбор варианта реализации диода

2.Расчет параметров: La, LД, BN

3.Синтез топологии – определение размеров: M, ZЭ, RБ, ZБ

4.Расчет параметров: CД(UД), UДmax, IД0, UД(IД)

Примечание. Поскольку в ПИМС в качестве диодов используются транзисторы в диодном включении (см. выше), то для этого можно использовать один из спроектированных ранее транзисторов, при расчете схемы с помощью SPICE кодируется такое включение транзистора.

8

1.3. Резисторы

Тонкопленочные резисторы

Резисторы тонкоплёночные – тонкие резистивные плёнки, нанесённые на диэлектрическую подложку. Концы плёнки замыкаются на контактные площадки, имеющие высокую проводимость (металлы). Используются в гибридных ИС (резисторы напыляются на подложку, транзисторы – наклеиваются).

Рис. 5. Сопротивление резистора прямоугольной конфигурации

Рис. 6. Тонкая резистивная пленка в форме квадрата

Сопротивление двух квадратов одинаковы, т.е. квадрат с любой стороной “ a” имеет одно и то же сопротивление. Такое сопротивление называется поверхностным (RS), оно зависит только от толщины и материала плёнки:

9

RS = ρ × a = ρ ad d

Размерность поверхностного сопротивления: Ом×см×(см/см2)=Ом, т.е. просто размерность сопротивления, но, чтобы подчеркнуть, что это – сопротивление пленки квадратной формы, используется название размерности «ом на квадрат», обозначается: Ом/.

Сопротивление линейного резистора

R = ρ ×

l

= RS

×

l

wd

w

 

 

 

определяется количеством квадратов со стороной w, которые уместятся на длине l. Для повышения сопротивления используют более сложную топологию резистора - меандр (змейку). Для изменения толщины d надо менять технологию. В интегральной технологии d по всей площади одинакова, следовательно, можно менять только длину и ширину.

Рис. 7. Резистор сложной конфигурации

Сопротивление резистора сложной конфигурации:

R = RS l+ Nизл R¢ .

w

где: R′ - сопротивление излома; l- длина прямоугольных участков. Можно показать, что R= 0,55 × RS .

Резистор, показанный на рис. 7 имеет 6 изломов (NИЗЛ).

Материалы тонкоплёночных резисторов – сплавы с высоким сопротивлением, например нихром.

10

Диффузионные резисторы

Диффузионные резисторы – формируются в полупроводниковой подложке с помощью методов диффузии или ионной имплантации.

Рис. 8. Диффузионный резистор

Чтобы использовать диффузионную область в качестве резистора, необходимо сместить в обратном направлении отделяющий ее p-n переход. Для этого подложку (n-тип) надо подключить к самому высокому потенциалу в схеме, т.е. к положительному источнику питания Е+. В данной конструкции всегда существует паразитный ток утечки.

При необходимости реализовать сопротивление большего номинала делается контур с изгибами (типа «меандр»).

R = RS l+ Nизл R¢ + RS (K П1 + K П 2 ) w

где RS (K П1 + K П 2 ) - сопротивление контактных площадок. КП = 0,5...1 = f ( ab ) - даны в

справочниках.

При использовании полупроводниковой технологии нельзя реализовать резисторы произвольного номинала; существуют ограничения сверху и снизу, Rmin и Rmax.

Обычно RS p-слоя меняется от 100...300 Ом/. Как правило, минимальная ширина резистора wmin не менее 2...3 минимальных размеров. Уменьшить wmin невозможно из-за несовершенства технологического процесса. Оценим:

lmin = wmin = 10 мкм.

Размер кристалла микросхемы (чипа) ~ 2´2 мм => lmax=1 мм (меандр).

Для минимального: R

= R

lmin

, Rmin=100 Ом/×

10

мкм

=100 Ом. (Rmin=50...100 Ом).

w

 

 

 

 

 

min

S min

10

мкм

 

 

 

 

 

min

 

 

 

 

Rmax=RSmax

lmax

=300 ×

103

=30 кОм. (Rmax=30...50 кОм).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

wmin

10

 

 

 

 

 

 

На практике часто надо реализовать сопротивление большего номинала. 1. Сжатый резистор (pinch, пинч-резистор)